【課題】磁気記録媒体に吸着されるガスを高精度に検出する。
【解決手段】表面に第１の潤滑剤層が形成されている磁気記録媒体、及びガスセンサが、筐体内に配置されている。ガスセンサ２０は、検出面にガスを吸着することによってガスを検出する。この検出面に、第１の潤滑剤層に用いられている潤滑剤と同じ潤滑剤により第２の潤滑剤層２３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】フィラメントを使用せずに薄膜を成膜するプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマＣＶＤ装置は、チャンバー１と、前記チャンバー内に配置されたリング状のＩＣＰ電極１７，１８と、前記ＩＣＰ電極に電気的に接続された第１の高周波電源７，８と、前記チャンバー内に原料ガスを供給するガス供給機構と、前記チャンバー内を排気する排気機構と、前記チャンバー内に配置され、前記ＩＣＰ電極に対向するように配置されたディスク基板２と、前記ディスク基板に接続された第２の高周波電源６と、前記チャンバー内に配置され、前記ＩＣＰ電極に対向し且つ前記ディスク基板とは逆側に配置されたアース電極と、前記チャンバー内に配置され、前記ＩＣＰ電極と前記ディスク基板との間の空間を囲むように設けられたプラズマウォール２４，２５と、を具備し、前記プラズマウォールがフロート電位とされていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストの直下に剥離しやすい層を新たに設けることで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体１００の製造方法は、ディスク基体１１０上に、磁気記録層１２２を成膜し、磁気記録層の上に保護層１２６を成膜し、保護層の上に剥離層１３０を成膜し、剥離層の上にレジスト層１３２を成膜し、レジスト層および剥離層を加工することで当該レジスト層および剥離層の厚さを部分的に変化させ所定のパターンを形成し、所定のパターンに基づいて剥離層、レジスト層ごと磁気記録層をイオンミリングすることにより凸部と凹部を形成し、剥離層を溶剤で除去することによりレジスト層を除去することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】カソードと被成膜基板との間の距離を長くすることにより、被成膜基板に緻密で高硬度な薄膜を成膜できるプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマＣＶＤ装置は、チャンバー２内に配置されたカソード電極３と、カソード電極３の周囲を囲むように設けられたアノード電極４と、カソード電極３及びアノード電極４に対向するように配置される被成膜基板１を保持する保持部と、フロート電位とされるプラズマウォール８と、カソード電極３に接続された交流電源５と、アノード電極４に接続された直流電源７と、被成膜基板１に電気的に接続された直流電源１２と、を具備し、円筒形状のプラズマウォール８の内径が１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下であり、カソード電極３と被成膜基板１との間の距離が２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜時の成膜対象へのパーティクル付着を抑制する。
【解決手段】発生部２で発生したプラズマを成膜部５に配置した成膜対象４へ誘導するフィルタ部３に、プラズマと共に発生するパーティクルを衝突させる衝突部６を設ける。衝突部６は、発生部２で発生したパーティクルの進路をシミュレーションし、衝突部６を設けなかった場合に成膜対象４に到達すると予測されるパーティクルの進路上に、プラズマ流を大きく遮らないようにして、配置する。衝突部６に衝突したパーティクルが、そこで進路を変えられ、或いはそこに捕捉されることで、成膜対象４へのパーティクルの到達及び付着が抑制されるようになる。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置及び成膜方法に関し、ＦＣＡ法により成膜する際に、成膜レートを維持しつつ、被成膜基板上に付着するマクロパーティクル数を低減する。
【解決手段】 アーク放電によるプラズマ発生ガンを備えたプラズマ発生部と、発生したプラズマを被成膜基板へ誘導するフィルターと、前記被成膜基板を保持および処理するチャンバーとを有する成膜装置に、前記プラズマ発生部に前記発生したプラズマの中央位置にプラズマ径よりも小径の防着板を設置する機構を設ける。 （もっと読む）

【課題】フリンジ特性の劣化を招くことなく、所望のトラック密度を達成できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に強磁性層、カーボンハードマスク層、および残渣均一化層を積層し、残渣均一化層にレジストを塗付し、インプリントによりレジストに凹凸パターンを転写してレジストパターンを形成し、レジストパターンの凹部に残存しているレジスト残渣を除去し、レジストパターンをマスクとして残渣均一化層をパターニングし、レジストパターンをマスクとしてカーボンハードマスク層をパターニングし、残渣均一化層のパターンをマスクとして強磁性層をエッチングして強磁性層の凹凸パターンを形成することを含み、強磁性層をエッチングする際に、残渣均一化層のエッチング時間が強磁性層のエッチング時間よりも短いことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 フライスティクション障害や腐食障害などを防止することができ、故障が抑制され、安全性に優れる磁気ディスク、特にＬＵＬ方式ＨＤＤに好適な磁気ディスクを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁性層、窒素を含む炭素系保護層、潤滑層がこの順で成膜された磁気ディスクの製造方法であって、
ハイドロフルオロカーボンまたはパーフルオロカーボンの溶媒に、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を分散溶解させた溶液を調整し、該溶液中に前記炭素系保護層まで成膜された磁気ディスクを浸漬することによって前記潤滑層が成膜されており、
前記潤滑層の成膜後に、磁気ディスク表面をハイドロフルオロエーテルを含む組成物で接触処理することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気記録を行う複数の磁性体記録要素が非磁性体によって分離されている磁気記録層を有する磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】各磁性体記録要素を分離する空隙には中間金属層を露出させ、一方、磁性体記録要素の上部には非金属層を形成し、これらの性質の違いにより、超臨界流体に溶解した非磁性金属の有機金属化合物を還元する際に、金属中間層表面に選択的に非磁性体金属を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ法で形成したＤＬＣ膜よりも緻密であり、かつパーティクルを必要十分なレベルまで低減したテトラヘドラル・アモルファス・カーボン（ｔａ−Ｃ）膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜、および該保護膜を有する磁気記録媒体の提供。
【解決手段】陰極ターゲットとしてガラス状炭素を用いたフィルタード・カソーディック・アーク法によって形成されるｔａ−Ｃ膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜。基体と、磁気記録層と、ｔａ−Ｃ膜を主体とする保護膜とを有する磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の耐久性、耐腐食性を向上させる磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】非磁性基板１の上に、密着層２、軟磁性層３、中間層４、磁性層５、保護膜層６及び潤滑層７が順次積層されてなる磁気記録媒体の製造方法において、保護膜層６を成膜後に、当該保護膜層６を特定の条件で窒化処理することにより、磁気記録媒体の耐久性、耐腐食性を向上させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比較的大きい表面凹凸が形成される磁気記録層上であっても、ＦＣＶＡ法により、ステップカバレッジ、および、耐食性・耐摩耗性に優れた磁気記録媒体用薄膜を成膜できる。
【解決手段】回転駆動機構部およびチルト機構部が制御ユニット４０に制御されることにより、基板ホルダー２０および記録媒体用基板２８’の傾斜角θが、成膜中、保護層の膜厚の増大に応じて最小傾斜角度から最大傾斜角度まで連続的に変化する。 （もっと読む）

【課題】ソフト層を有するディスクリート型垂直磁気記録媒体においてソフト層に生ずる磁区によるノイズを効果的に抑制をなし得る記録媒体を提供する。
【解決手段】記録媒体が第１上部層４、第１下部層２および両層を反強磁性的に結合する第１中間層３を有し、第１下部層は第１上部層より保磁力が低い第２上部層２−３および第２下部層２−１と両層を反強磁性的に結合する第２中間層２−２とを有する。情報が記録される第１のトラック領域と、前記第１のトラック領域に隣接する第２のトラック領域との間の領域において、前記第１の上部層４が除去されている。 （もっと読む）

【課題】パターンド媒体及びその製造方法において、パターンド媒体の表面を簡単、且つ、安価に平坦化することを目的とする。
【解決手段】表面が平坦な仮基板上にカバー層を形成し、カバー層上にパターン化された記録層を形成し、記録層上に補強層を形成し、補強層上に本基板を接合し、本基板を補強層上に接合後に仮基板を除去するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 カーボン保護膜作製チャンバーでの処理時間を短縮するとともにそのチャンバー内でのパーティクルの発生を防止し、生産性の向上を図る。
【解決手段】 一列に且つ無終端となるよう連結された複数のチャンバーを備えた磁気記録ディスク用成膜装置に、少なくとも３つのカーボン保護膜作製チャンバー６１，６２，６３を設ける。キャリア９０の数を全チャンバーの数より１だけ少なくし、３つのカーボン保護膜作製チャンバーのうちのいずれか一つが常に空き状態となるように、キャリアの移動を制御する。内部にキャリアが位置する２つのカーボン保護膜作製チャンバーでは、それぞれカーボン保護膜を作製する。同時に空き状態のカーボン保護膜作製チャンバーでは、アッシングによる内部クリーニングを行なう。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスクの耐久性、特にＬＵＬ耐久性及びアルミナ耐性に優れ、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで高信頼性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板１上に、少なくとも磁性層６と炭素系保護層７と潤滑層８が順次設けられた磁気ディスク１０であって、上記潤滑層８は、構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し、且つ分子の末端に芳香族基と極性基を有する化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】磁性層等で発生する腐食を防ぎ、耐環境性の向上を可能とした磁気記録媒体及びその製造方法、並びに、そのような磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】基板１の上に、少なくとも磁性層２と、磁性層２を覆うカーボン保護層９とを備え、磁性層２の表面には、磁気記録領域である凸部７と、磁気記録領域を分離する境界領域である凹部６とが設けられ、磁性層２の凹部６とカーボン保護層９との間には、Ｃｒ又はＴｉを主として含むバリア層８が設けられている。 （もっと読む）

【課題】裁断するのみで、裁断面に磁性層の断面が露出することがない記録媒体の単体とすることができ、裁断時には、裁断方法に特定されることなく、パターニングされた記録層間の裁断部を単に裁断するのみで、裁断面に磁性層の断面が露出することがない記録媒体の単体を確実に製造できる。
【解決手段】非磁性支持体１上に磁性層２を有してなる薄膜型の磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁性層２を含む記録層６を前記非磁性支持体１上において規定された幅に裁断される裁断部７間にパターニング形成し、当該パターニング形成により前記裁断部７を含む部分に前記記録層６を有しない所定幅の非記録層部６ｂを形成し、当該磁気記録媒体原反Ｂを、前記裁断部７に添って裁断することにより所定の形状に形成する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法を用いて成膜する層の直前に成膜する層を工夫することで、媒体保護層を成膜された基体の保磁力Ｈｃや電磁気特性のばらつきを低減させることが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の垂直磁気記録媒体１００の製造方法は、媒体保護層１２６を成膜するＣＶＤチャンバ１５０を複数備え、複数のＣＶＤチャンバ１５０のうち１のＣＶＤチャンバ１５０を選択して媒体保護層１２６を成膜する媒体保護層成膜工程と、選択されたＣＶＤチャンバ１５０に応じて媒体保護層１２６の直前に成膜される層（連続層１２４）の膜厚を、ＣＶＤチャンバごとに予め定められた膜厚に変更する膜厚変更工程と、を含むことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】パターニングされた凹凸部を有する磁性層の表面をより高精度、簡便かつ低コストに平坦化することができ、平坦化により磁気ヘッドの走査性と読み書き（ｒｅａｄ／ｗｒｉｔｅ）性を向上させることができるようになることで、更に高記録密度化を促進することができるパターン表面の平坦化方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】基板の表面に、該表面を基準として複数の凸部が配列されたことによって形成された凹凸部を有する磁性層上に、該凹凸部における凹部の深さ以上の厚さに非磁性材料を埋設して非磁性層を形成する非磁性層形成工程と、前記非磁性層表面に樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、前記樹脂層表面に平板を大気圧以上の圧力でプレスする平板プレス工程と、前記樹脂層及び前記非磁性層をエッチングして磁性層上に平坦な非磁性層を形成するエッチング工程とを含むパターン表面の平坦化方法である。 （もっと読む）