【課題】本発明は、媒体保護層の成膜時に加熱しても、保磁力Ｈｃと信頼性の両方を、より高いレベルで両立させることが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法および垂直磁気記録媒体を提供することを目的としている。
【解決手段】ディスク基体１１０上に少なくとも、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の強磁性層である磁気記録層１２２ｂと、水素化カーボンを主成分とする媒体保護層１２６とを、この順に備える垂直磁気記録媒体１００の製造方法において、磁気記録層１２２ｂを、粒界部が複数の種類の酸化物を含有するように成膜する磁気記録層成膜工程（ステップＳ３１０）と、磁気記録層１２２ｂが成膜されたディスク基体１１０を１６０〜２００℃に加熱した状態で媒体保護層１２６を成膜する媒体保護層成膜工程（ステップＳ３３０）とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】潤滑層を構成する潤滑剤特性、特に流動性、表面エネルギー、ＣＦＴ特性などの特性に優れ、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで高信頼性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクであって、かかる潤滑層は、特定のパーフルオロポリエーテル系潤滑剤と、構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し且つ末端にはヒドロキシル基を有するパーフルオロポリエーテル基同士が、構造中に少なくとも２個のヒドロキシル基を有する２価の連結基を介して結合している化合物からなる潤滑剤とを混合した潤滑剤が成膜されてなる。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法を用いて成膜する層の直前に成膜する層を工夫することで、媒体保護層を成膜された基体の保磁力Ｈｃや電磁気特性のばらつきを低減させることが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の垂直磁気記録媒体１００の製造方法は、媒体保護層１２６を成膜するＣＶＤチャンバ１５０を複数備え、複数のＣＶＤチャンバ１５０のうち１のＣＶＤチャンバ１５０を選択して媒体保護層１２６を成膜する媒体保護層成膜工程と、選択されたＣＶＤチャンバ１５０に応じて媒体保護層１２６の直前に成膜される層（連続層１２４）の膜厚を、ＣＶＤチャンバごとに予め定められた膜厚に変更する膜厚変更工程と、を含むことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】十分な耐久性、信頼性を有する垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】基体１１０上に、磁気記録層１２２、媒体保護層１２６および潤滑層１２８をこの順に備える垂直磁気記録媒体１００の製造方法において、潤滑剤を塗布した磁気ディスクに、１０ｎｍ以下の押し込み深さによる押し込み硬さ試験を行う押し込み硬さ試験工程と、押し込み硬さ試験によって求められた弾性変形比が５０〜８５％である場合に潤滑剤で潤滑層を成膜する潤滑層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高記録密度の磁気記録媒体を製造すること課題とする。
【解決手段】磁気記録層３の上に形成された記録補助層４に、非磁性部８を所定のパターンで形成するため、磁性部７とその直下の磁気記録層３を記録単位とする磁気記録媒体を実現できる。非磁性部８を、イオン注入による非磁性化により形成するため、高記録密度の磁気記録媒体を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録領域で発生する腐食を防ぎ、耐環境性の高い磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】磁性層の磁気記録領域が非磁性層である境界領域により分離された磁気記録媒体である。この磁気記録媒体において、磁気記録領域が凸部で、境界領域が凹部となっている。そして凹凸部上に形成される保護膜として、凸部上のカーボン保護膜が凹部上のカーボン保護膜より厚く形成されていることが特徴である。カーボン保護膜はＣＶＤ法により形成される。凹部の境界領域はプラズマ等にさらすことにより非磁性化することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】保護膜中に含まれる金属コンタミネーションを低減する垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体１０は、非磁性基板１の上に密着層２、軟磁性層３、中間層４、Ｒｕ中間層５、グラニュラー磁気記録層６、Ｃｏ合金キャップ層７、ＤＬＣ保護膜８を有する。Ｃｏ合金キャップ層７まで積層した基板１を保護膜形成室２１に搬入する（ステップ１０２）。保護膜形成室２１は、ＲＦ電源から高周波電力が印加されるＲＦ電極２２を備えている。この電極２２に灰分５ｐｐｍ以下、且つかさ密度１.８ｇ/ｃｍ^３以上の一体物のグラファイト材を使用する。保護膜形成室２１に炭化水素ガスを導入し（ステップ１０４）、プラズマを誘引して保護膜８を形成する（ステップ１０８）。保護膜形成後、基板１を取り出し、保護膜形成室２１に酸素ガスを導入し、酸素プラズマによるアッシングを行い、電極２２に堆積した硬質ＤＬＣ膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体において、表面平坦性の向上、特性劣化の低減を実現する。
【解決手段】記録層の上層と充填層が同一の材料からなるように作製する。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンを有する磁性層を備え、耐腐食性に優れた第一保護層および磁気ヘッドの摺動性に優れた第二保護層を備えたパターン化磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】パターン化磁気記録媒体は、情報記録領域を画定するトラック状および／またはドット状の凹凸パターンを有する磁性層、該磁性層を被覆する第一保護層および該第一保護層の凸部パターンの頂部上に第二保護層を含み、該第二保護層がＦＣＡ法またはＦＣＶＡ法により形成されるテトラヘドラル・カーボン（ｔａ−Ｃ）膜からなることを特徴とし、その製造方法は、下地層または磁性層上に、ナノインプリント法により凹凸パターンを形成する工程、凹凸パターン上に第一保護層をプラズマＣＶＤ法により形成する工程、およびＦＣＡ法またはＦＣＶＡ法によるテトラヘドラル・カーボン（ｔａ−Ｃ）膜からなる第二保護層を形成する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】より好ましいデータの読み取りおよび書き込みを行うことが可能な磁気記録媒体、および、そのような磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題としている。
【解決手段】本発明により提供される磁気記録媒体Ａの製造方法は、基板１１上に磁性膜を形成する工程と、上記磁性膜を覆うように保護層１４を形成する工程と、上記磁性膜の一部を露出させるように保護層１４に貫通部を形成する工程と、上記磁性膜のうち貫通部から露出する部分を除去し、保護層１４の残部が積層した状態で互いに離間する複数の記録部１３ａを形成する工程と、保護層１４の残部を覆うとともに、複数の記録部１３ａの間を充填するように非磁性層を形成する工程と、保護層１４の残部が露出するように非磁性層に化学機械研磨を施して非磁性部１３ｂを形成する工程と、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】記録再生ヘッドの浮上性を確保しつつ、ヘッド位置決め精度がよく、ＳＮ比が良好で、高温多湿環境下でも高い信頼性を示す磁気記録媒体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁気記録層を成膜し、前記磁気記録層の記録部に対応する領域にマスクを形成し、前記マスクに覆われていない領域の磁気記録層の一部をエッチングガスによりエッチングして磁気記録層に凹凸を形成し、凹部に残存する磁気記録層をＮｅガスにより改質して非記録部を形成し、全面に保護膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】記録再生ヘッドの浮上性を確保しつつ、ヘッド位置決め精度がよく、ＳＮ比が良好な磁気記録媒体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に、２層以上の多層構造を有し、少なくとも１層がＣｏＣｒＰｔ合金およびＳｉＯ₂、ＴｉＯ、ＣｒＯ₂またはＣｏＯ₂を含むグラニュラー構造を有する磁気記録層を成膜し、前記磁気記録層の記録部に対応する領域にマスクを形成し、前記マスクに覆われていない領域の磁気記録層の一部をエッチングガスによりエッチングして磁気記録層のグラニュラー層を露出させて凹凸を形成し、凹部に残存する磁気記録層のグラニュラー層を改質ガスにより改質し、前記改質反応を促進させて非記録部を形成し、全面に保護膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、中間層の凹凸パターン形成時のドライエッチングプロセスにおいて、必要部位のみを高精度に加工することができる、パターンドメディア型の磁気記録媒体の製造方法を提供することである。
【解決手段】基板上に、軟磁性層、エッチングストップ層、シード層、中間層、ハードマスク層、およびレジストを順次形成する工程、上記レジストをパターニングして、レジストパターンを得る工程、上記レジストパターンをマスクとしてハードマスク層をエッチングし、パターン状ハードマスク層を得る工程、上記レジストパターンを剥離する工程、上記パターン状ハードマスク層をマスクとして上記中間層をエッチングし、パターン状中間層を得る工程、上記パターン状ハードマスク層を剥離する工程、および磁気記録層を形成する工程であって、上記パターン状中間層上に垂直配向部を形成するとともに上記シード層上にランダム配向部を形成する工程、を含む。 （もっと読む）

【課題】イオン注入により、イオン注入箇所の著しい磁気特性の低下を図る。
【解決手段】磁性膜へのイオン注入方法として、基板表面に、少なくとも磁性膜、当該磁性膜を保護する保護膜をその順に積層して成る磁気ディスクの製造工程において、磁性膜の一部にイオンを注入してその垂直磁化を低減する磁性膜へのイオン注入方法であって、磁性膜の面に立てた法線から４５度以上６０度以下の範囲内にある角度でイオンを注入する方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法等により基板にカーボン保護膜を成膜する際に、基板を保持するキャリアに堆積するカーボン膜を効果的に低減し、堆積膜の剥離に伴うパーティクルの発生を抑制し、かつ、キャリア表面のカーボン堆積膜を発生源とするアウトガスの放出をも抑制する。
【解決手段】キャリアから成膜後の磁気記録媒体を取り外す工程の後、次の成膜用基板をキャリアに装着する工程の前に、キャリア表面に堆積付着したカーボン保護膜を、酸素を含むガス中でアッシング除去する工程を設け、この工程に際してキャリアにパルス電圧バイアスを印加する。また、カーボン保護膜をアッシング除去する工程の初期においてプラズマ中の不活性ガス濃度を酸素ガス濃度に対して高め、その後、酸素ガス濃度を不活性ガス濃度に対して高める。 （もっと読む）

【課題】高い保磁力を維持したまま、耐摩耗性や耐衝撃性等の耐久性を向上させた媒体保護層を備える垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体は、ディスク基体１上に、軟磁性層１４と、磁気記録層２２と、基体の面内方向に磁気的に連続した連続層２４と、連続層に与える衝撃を遮断する遮断層２６と、遮断層の上に成膜され、カーボンを含む媒体保護層２８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク端面からの内部成分溶出や腐食障害の発生を十分に抑えることが可能な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】ディスク基板上に順次形成された磁性層と炭素系保護層と潤滑層とを含む薄膜を有する磁気ディスクである。前記磁気ディスクの主表面と端面とが前記炭素系保護層で被覆されている。前記炭素系保護層の前記潤滑層側は窒素を含有し、前記端面に形成された保護層中の炭素に対する窒素含有量は、前記主表面に形成された保護層中の炭素に対する窒素含有量以上である。 （もっと読む）

【課題】テープバーニッシュ工程により新たな異物が発生することを適切に防ぐ。また、テープバーニッシュ工程によりスクラッチが発生することを適切に防ぐ。
【解決手段】磁気記録媒体の製造方法であって、基板を準備する準備工程Ｓ１０２と、基板上に磁気記録層を成膜する記録層成膜工程、及び磁気記録層を保護する保護層を成膜する保護層成膜工程を含む成膜工程Ｓ１０４と、保護層までが成膜された基板に対し、保護層の主表面上に液体が供給されるウェット処理によりテープバーニッシュを行うテープバーニッシュ工程Ｓ１０６と、テープバーニッシュ工程Ｓ１０６の後に、保護層上に潤滑層を成膜する潤滑層成膜工程Ｓ１１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】３ｎｍ以下の保護層膜厚であっても耐摩耗性及び摺動特性に優れ、ハイフライライト障害等を回避できる磁気ディスクを提供する。
【解決手段】磁気記録を行う磁気ディスク１０であって、磁気記録を行うための磁性層４と、磁性層４上に形成されて、磁性層４を保護する保護層５と、保護層５上に形成される潤滑層６とを備え、保護層５は、実質的に炭素、水素、及び窒素からなる層であり、Ｘ線光電子分光法の角度分解深さ方向分析により、Ｃ１ｓ光電子及びＮ１ｓ光電子の脱出角度を検出器に対し７°にして、Ｎ１ｓ及びＣ１ｓスペクトルの強度から窒素と炭素の原子量比（Ｎ／Ｃ）を求めた場合、原子量比（Ｎ／Ｃ）が０．１５以上０．２５以下である。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの記録層の凹部がＤＬＣの充填材で充填され、充填材が剥離しにくい信頼性が高い磁気記録媒体、これを備えた磁気記録再生装置及びこのような磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体１０は、基板１２の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素１４Ａを構成する記録層１４と、凹凸パターンの凹部１６の底面に形成された充填材下地膜１８と、充填材下地膜１８の上に充填材下地膜１８に接して形成されて凹部１６を充填するＤＬＣの充填材２０と、を備え、充填材下地膜１８の材料は、Ｓｉを含有する材料、Ｇｅを含有する材料、及びＴｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｗ、Ｖ、Ｈｆの中の１種以上の金属元素を含有する炭化物の材料のグループから選択される材料である。 （もっと読む）