【課題】優れたパターン形状を有した磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体およびＢＰＭ）の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録層上に、金属材料を主成分とする第１のハードマスク、酸素ガスに耐性のある材料を主成分とする第２のハードマスク、カーボンを主成分とする第３のハードマスクおよびレジストを形成し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、その下の層に順次パターンを転写した後、前記磁気記録層を構成する元素よりも、前記第１のハードマスクの金属材料に対して高い反応性を有する剥離液を用いて前記第１のハードマスクを剥離することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】潤滑剤にたいする濡れ性が高く、かつ高硬度で緻密な炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧した成膜室１０１内に炭素と水素を含む原料の気体Ｇを導入し、この気体Ｇを、通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極１０４と、その周囲に設けられたアノード電極１０５との間で、放電によりイオン化し、このイオン化した気体を基板Ｄに加えたバイアス電圧で加速して基板Ｄの表面に照射することによって、基板Ｄの表面に炭素膜を形成する炭素膜の形成方法であって、前記基板Ｄの表面に加えるバイアス電圧としてパルス状の負の電圧を用いることを特徴とする炭素膜の形成方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、潤滑剤に対する濡れ性が高く、平滑な表面を有し、高硬度で緻密な水素を含む炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法、並びに、該炭素膜の形成方法により形成された水素を含む炭素膜を有する磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】水素を含む炭素膜の形成後に、成膜室１０１内に不活性ガスを導入し、不活性ガスをイオン化して水素を含む炭素膜の表面に加速照射し、水素を含む炭素膜の少なくとも表層部を脱水素化する。 （もっと読む）

【課題】 保護層の耐摩耗性や耐衝撃性等の耐久性を向上し、保護層の膜厚が３ｎｍ以下に制限されたとしてもスクラッチ等の諸問題を回避可能な、垂直磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基体１１０上に少なくとも、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の磁気記録層１２２と、磁気記録層より上に設けられた非磁性のバリア層１２４と、バリア層より上に設けられ基体主表面の面内方向に磁気的にほぼ連続した補助記録層１２６と、補助記録層より上に設けられカーボンを主体とする保護層１２８と、保護層の上に設けられた潤滑層１３０と、を備え、保護層は、ラマンスペクトルのＤピークの高さ（Ｄｈ）とＧピークの高さ（Ｇｈ）の比（Ｄｈ／Ｇｈ）が０．７０以上０．９５以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁性層のパターン形状を精度よく形成できる、歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の上に磁性層２を形成した後、前記磁性層２に部分的にイオンを注入することによって、この磁性層２のイオンを注入した箇所８の磁気特性を改質して磁気的に分離された磁性記録パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁性層２の上に繰り返し使用可能なマスク材１０を前記磁性層２から間隔を保持したまま配置した後、前記マスク材１０の上からイオン照射を行い、このマスク材１０の表面に形成された前記磁性パターンＭＰに対応した凹凸パターンの凹部１０ａを通して、その下にある前記磁性層２に部分的にイオンを注入することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】製造工程中にある基板表面の劣化を防ぎ、加工形状のばらつきおよび放電が安定するまでのロス時間を抑制し、加工したパターン形状が安定し信頼性にすぐれたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板１０上に少なくとも金属下地層１１、１２、１３、磁気記録層１４、カーボン層１５をこの順に積層した後、連続型の真空装置に搬入し、複数のプロセス処理用真空チャンバーでプロセス処理する際に、前記複数のプロセス処理用真空チャンバーを、それぞれ圧力調整用チャンバーを介して相互に連結させ、それぞれの圧力調整チャンバーに不活性ガスを導入するとともに、前記各圧力調整チャンバーの圧力を隣接する前記各プロセス処理用真空チャンバーの圧力に対して±２５％以内の圧力とする。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックが形成された磁気記録層に保護層形成および潤滑剤塗布後にテープバーニッシュを行っても、耐腐食性を低下させることなく、平滑な表面を有し、かつ、信号特性や信頼性に優れたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板上に金属下地層を介して積層され、凹部状のディスクリートトラックにより分割して形成された磁気記録層１４の表面に、真空紫外領域の紫外線を照射し、該基板表面の帯電電圧を５０Ｖ以内に制御する工程Ｐ１１、前記磁気記録層の凹部に非磁性体を埋め込む工程Ｐ１２、表面平坦化工程Ｐ１４、保護層形成工程Ｐ１７、Ｐ１８、Ｐ１９および潤滑剤塗布工程をこの順に実施した後、テープバーニッシュ工程を施すパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＬＣ膜の諸性質を、それぞれの用途における要求特性などに応じて、二次的に改質することを目的とするものである。
【解決手段】基材の表面に、膜厚３μｍ超の厚膜ＤＬＣを被覆してなる部材において、この厚膜ＤＬＣは、水素が１３〜３０原子％、残部が炭素である微粒子の堆積層からなるものであって、残留応力が１．０ＧＰａ以上、硬さ（Ｈｖ）が７００〜２８００の熱処理ＤＬＣの膜であることを特徴とする厚膜ＤＬＣ被覆部材。 （もっと読む）

【課題】被成膜物の表面近傍での磁場の拡散を抑制し被成膜物の表面近傍に所定の磁場を確保し、表面近傍に到達するプラズマ粒子量を増加させることによって成膜速度を向上させる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバの側面に一組以上のプラズマ進行管が接続されており、該プラズマ進行管の進行方向に対し被成膜物が垂直に配置されており、プラズマ源より発生したプラズマ粒子が被成膜物の表面に照射されることによって被成膜物の表面に薄膜が形成される。前記プラズマ進行管は、接続されている成膜チャンバより内部に配置されている被成膜物に向かって延出する内部プラズマ導出管に連接され、当該内部プラズマ導出管の外周に内部プラズマ制御用コイルが配置されている。 （もっと読む）

【課題】保磁力Ｈｃと逆磁区核形成磁界Ｈｎ、およびＳＮＲを総合的に向上させることにより、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体の製造方法の構成は、基板１１０上に、軟磁性層１３０を成膜する軟磁性層成膜工程と、軟磁性層成膜後の基板に加熱処理を施す加熱工程と、加熱処理によって温度が上昇した状態で、軟磁性層上に、Ｎｉを主成分とし、少なくともＢを１〜５ａｔ％含有する前下地層１４０を成膜する前下地層成膜工程と、前下地層の上方に、Ｒｕを主成分とする下地層１５０を成膜する下地層成膜工程と、下地層の上方に、ＣｏＣｒＰｔ合金を主成分とする磁性粒子と酸化物を主成分とする非磁性の粒界部とからなる主記録層１６０を成膜する主記録層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、および保護層を順に成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法である。前記下地層は複数層からなり、このうちの少なくとも１層は酸素を１０００〜１００００ｗｔｐｐｍ含有する。そして、前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも１回加熱処理を施す。この加熱処理は、基板表面温度で８０〜２３０℃の範囲で行う。 （もっと読む）

【課題】フィラメント状のカソード電極の寿命を高めると共に、高硬度で緻密な炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧した成膜室１０１内に炭素を含む原料の気体Ｇを導入し、この気体Ｇを通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極１０４と、その周囲に設けられたアノード電極１０５との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体Ｇを加速して基板Ｄの表面に照射することによって、基板Ｄの表面に炭素膜を形成する炭素膜の形成方法であって、カソード電極１０４を回転させながら炭化処理した後に、この炭化処理されたカソード電極１０４を用いて、炭素膜の形成を行う。 （もっと読む）

【課題】高硬度で緻密な炭素膜を均一な厚みで形成することが可能な炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧された成膜室１０１内に炭素を含む原料の気体Ｇを導入し、この原料の気体Ｇを、通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極１０４と、その周囲に設けられたアノード電極１０５との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体を基板Ｄの表面に加速照射するときに、マグネット１０９によって成膜室１０１内の励起空間に磁場を印加すると共に、この励起空間の周囲に配置されたマグネット１０９を周方向に回転させながら、炭素膜の形成を行う。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブ磁気媒体用の部分酸化キャップ層を提供する。
【解決手段】部分酸化キャップ層を有する垂直磁気記録媒体は、第２酸化物層を第１キャップ層と結合して単一の部分酸化キャップを形成する。部分酸化層の酸化部分および非酸化部分は、同じターゲットからスパッタリングされ、金属元素の組成が同じである。酸化部分のＭｓは非酸化部分の約２倍である。酸化部分は、厚さが約５〜２５Åの範囲である。層組成はＣｏＰｔＣｒＢＴａを含むことができ、Ｃｒのａｔ％は約１８〜２４％、Ｐｔは約１３〜２０％、Ｂは約４〜１０％、Ｔａが約０〜２％である。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行いつつ、記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の上に磁気記録パターンＭＰに対応した形状にパターニングされたレジスト層３を形成する工程と、レジスト層３を用いて磁性層２を部分的に除去する工程と、磁性層２が除去された面上を覆う非磁性層４を形成する工程と、磁性層２が表出するまで非磁性層４に研磨加工を施す工程と、磁性層２の表面を水素プラズマに曝す工程と、磁性層２の上に保護層５を形成する工程と、保護層５の上に潤滑膜６を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】熱アシスト記録における記録時の磁気記録媒体の表面温度を高い精度で測定し、以って記録時に適切に加熱することが可能な熱アシスト磁気記録媒体とその温度上昇特性の測定方法および加熱方法を提供する。
【解決手段】記録時にスポット加熱される磁気記録層３を備える熱アシスト磁気記録媒体１０において、加熱パワーに対応する不可逆な膜質変化を起こす温度検知層４が前記磁気記録層３上に設けられている。 （もっと読む）

【課題】媒体表面荒れが抑制され、良好なヘッドの浮上性を確保することができるパターンド磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体およびＢＰＭ）の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に、カーボンからなる第１のハードマスク、Ｓｉ、Ｃｕなどからなる第２のハードマスクおよびレジストを形成し、レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、パターン化されたレジストをマスクとして、第２のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第２のハードマスクをマスクとして、第１のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第１のハードマスクの凸部に残存している第２のハードマスクを除去し、酸素ガスとフッ素系ガスの混合ガスによってマスク表面の汚染層を除去し、磁気記録層をパターニングし、前記第１のハードマスクを除去することを含む磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程Ａと、磁性層２の面上を覆う炭素マスク層３を形成する工程Ｂと、炭素マスク層３の上にレジスト層４を形成する工程Ｃと、スタンプ５を用いてレジスト層４を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Ｄと、レジスト層４を用いて炭素マスク層３を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Ｅと、磁性層２の炭素マスク層３で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部７を形成する工程Ｆと、レジスト層４及び炭素マスク層３を除去する工程Ｇと、磁性層２の表面を水素プラズマに曝す工程Ｈと、磁性層２の上に保護層９を形成する工程Ｉとを含む。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の表面に凹凸パターンを形成してパターンドメディア型磁気記録媒体を製造する際に、加工前の磁気記録媒体の初期磁気特性を低下させずに維持するパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０表面に、軟磁性層１１と、シード層１２と、中間層１３と、磁性層１４と、貴金属材料の第二保護層１７と、ダイヤモンドライクカーボンの第一保護層１５とをこの順に積層形成し、前記第一保護１５層表面に所要のレジスト１６パターンを形成後、該レジスト１６をマスクとして前記第一保護層１５を酸素系ドライエッチングで選択除去して前記第二保護膜１７を露出させ、前記第二保護層１７と磁性層１４とを不活性ガス系ドライエッチングで選択除去した後、前記レジスト１６を除去し、前記第一保護層１５を酸素系のドライエッチングで剥離し、前記第二保護層１７を不活性ガスを用いたドライエッチングで剥離する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】複数のチャンバと、複数のチャンバ内で非磁性基板を保持するキャリアと、キャリアを複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備えたインライン式成膜装置を用いて、非磁性基板８０の少なくとも一方の面上に形成された磁性層８３に、磁気的に分離された磁気記録パターン８３ａが形成されてなる磁気記録媒体を製造する際に、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行うと共に、保護層８４を形成する前に、磁性層８３の表面を水素プラズマに曝し、この磁性層８３の表面に形成された酸化膜を還元除去する。 （もっと読む）