【課題】磁性層の加工箇所を起点とした腐食が発生しない耐腐食性の高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の表面に磁性層とカーボン保護層８とを備えた磁気記録媒体３０であって、磁性層は、非磁性基板１側に設けられた第１の磁性層４と、第１の磁性層４上に設けられた第２の磁性層１０とから構成され、カーボン保護層８は、第２の磁性層１０を覆うように設けられており、第１の磁性層４には、磁性領域４ａと磁性領域４ａを磁気的に分離する境界領域４ｂとからなる磁気記録パターン部が形成され、第２の磁性層１０は、磁気記録パターン部の表面を被覆するように設けられていることを特徴とする磁気記録媒体３０を採用する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層からのＣｏの溶出を抑制するとともに、膜厚が３ｎｍ以下の、磁気記録媒体用保護層の形成方法を提供することにある。
【解決手段】（１）基体と該基体上に形成される金属膜層とを含む積層体の上に、炭化水素ガスを原料として用いるプラズマＣＶＤ法によって保護膜を形成する工程であって、上記炭化水素ガスの流量が５０ｓｃｃｍ以上２００ｓｃｃｍ以下であり、放電電流が０．１Ａ以上０．３Ａ以下である、保護膜の形成工程と、（２）工程（１）で形成した保護膜の表面処理工程であって、（２ａ）アルゴンガス中でのプラズマ処理、及び（２ｂ）窒素ガスを含むガス中でのプラズマ処理を含む表面処理工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体用保護膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性に優れた磁気記録媒体を、高い生産性で製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層２に、磁気記録パターン２０として、凸部からなる磁気記録領域２１と、該磁気記録領域２１の間の凹部からなる境界領域２２とを形成する磁気記録パターン形成工程と、次いで、非磁性基板１に負のバイアスを印加しながら、高周波プラズマ化学蒸着法を用いてカーボン保護膜９を形成することにより、磁気記録領域２１上のカーボン保護膜９ａを、境界領域２２上のカーボン保護膜９ｂよりも薄くする保護膜形成工程とを備えた方法である。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の硬質炭素膜からなる保護膜上に形成される潤滑膜中に、凝集物が生じず、保護膜と潤滑膜との結合性が高く、かつ生産性の高い作製方法を可能とする。
【解決手段】基板上に磁気記録膜を成膜し、次に、水素を含まない高硬質炭素膜を、例えばＦＣＡ法で形成後、直ちに真空中のまま、水素化チャンバー中に移動させて、その高硬質炭素膜の表面を水素化処理して、水素含有表面層を形成する。次いで、これを大気中に取り出し、ＤＩＰ法などにより潤滑剤の塗布と紫外線などの反応促進処理を行って潤滑膜を形成し、時期記録媒体を完成する。 （もっと読む）

【課題】複数のアノードを含むイオンビーム蒸着用のイオン源に関する。イオン源は、原材料の複数のゾーンを蒸着し、複数のゾーンのうちの少なくとも２つのゾーンの厚みを異なるようにする。
【解決手段】イオンビーム蒸着で炭素を蒸着する場合、プロセス室の数は制限されるので、２つまたは３つ以上のイオン源を利用することは、スペースの理由で不可能なこと、または費用の理由で現実的でないことが多いが、イオン源として、複数の同心のアノードを含み、異なる電圧が複数のアノードに印加することで、少くとも2つのゾーンの厚みを異ならせることができる。 （もっと読む）

【課題】バイアスアークが発生しない電圧で保護膜の膜質変化を簡単に制御でき、磁気記録層を保護するために十分な硬度と潤滑層との間の十分な密着力を有する炭素系保護層を備えた磁気ディスクを得ること。
【解決手段】本発明の磁気ディスクの製造方法は、ディスク基体上に少なくとも磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程と、前記磁気記録層上に炭素系保護層を形成する保護層形成工程と、前記炭素系保護層上に潤滑層を形成する潤滑層形成工程と、を具備し、前記保護層形成工程は、高周波プラズマを用いたＣＶＤ法により前記磁気記録層上に前記炭素系材料を成膜する成膜工程と、前記成膜した炭素系材料膜に対して窒素ガスで窒化処理する工程と、を含み、前記成膜工程において、前記高周波プラズマの周波数を相対的に高い周波数から相対的に低い周波数に変化させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】潤滑層との間の密着性を高めると共に十分な機械的強度を持つ薄膜の炭素系保護層を備えた磁気ディスクを得ることができる磁気ディスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスクの製造方法においては、基板１上に密着層２、軟磁性裏打ち層３、下地層４、非磁性中間層５、磁気記録層６、炭素系保護層７、潤滑層８を順次形成されてなる磁気ディスクの製造方法であって、炭素系保護層７の成膜後に、炭素系保護層７に対して、窒素ガスと、窒素よりもイオン化エネルギーの大きい希ガスとの混合ガスを用いて窒化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】潤滑剤の保護層への付着特性を向上させ、磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また厳しい環境耐性のもとで高信頼性を有する磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に、少なくとも磁性層６と炭素系保護層７と潤滑層８が順次設けられた磁気ディスク１０であって、上記潤滑層８は、構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し且つ末端にヒドロキシル基を有するパーフルオロポリエーテル基同士が、構造中にヒドロキシル基を有する連結基を介して結合している化合物を含有する潤滑剤を成膜した後、該潤滑層側から真空紫外線領域の光源を用いて光照射することにより形成される。 （もっと読む）

【課題】 保護層成膜工程に用いたチャンバー内部における堆積物を効率的に除去することで、基体上の層へのパーティクルの混入を低減し、垂直磁気記録媒体の歩留まりを向上することが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体１００の製造方法の構成は、基体１１０上に、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の磁気記録層１２２を成膜する磁気記録層成膜工程と、ＣＶＤ法により炭素系保護層１２６を成膜する保護層成膜工程と、炭素系保護層の成膜に使用したチャンバーの内部に堆積した堆積物をオゾンを用いて除去するクリーニング工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストを溶剤で除去することで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体１００の製造方法は、ディスク基体１１０上に、磁気記録層１２２を成膜し、磁気記録層の上に保護層１２６を成膜し、保護層の上にＳＯＧによってレジスト層１３０を成膜し、レジスト層を加工することで当該レジスト層の厚さを部分的に変化させ所定のパターンを形成し、レジスト層を介在させた状態で所定のパターンに基づいて磁気記録層にイオンを注入し、レジスト層を溶剤で除去することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】媒体保護層の硬度を維持しつつ、当該媒体保護層の表面を工夫することで潤滑層の媒体保護層に対する付着率を向上させた磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】記録磁気媒体の製造方法は、磁気記録層を成膜する磁気記録層成膜工程と、ＣＶＤ（Chemical Vapour Deposition）法を用いて媒体保護層を成膜する保護層成膜工程と、媒体保護層の表面を窒化処理する窒化処理工程と、潤滑層を成膜する潤滑層成膜工程と、を含み、保護層成膜工程は、第１圧力の雰囲気で成膜した後に第２圧力の雰囲気で媒体保護層を成膜し、第１圧力は、第２圧力未満である。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク表面の耐久性に対する厳しい要求に対応できるような磁気ディスク表面の耐久性を簡便に、正確に評価することが可能な磁気ディスクの耐久性評価方法を提供する。
【解決手段】ＤＦＨ素子を備えた磁気ヘッドを装着した磁気ディスク装置に磁気ディスクを搭載し、上記磁気ヘッドのＤＦＨ素子を突き出した状態で磁気ディスク表面のある半径の位置で定点浮上させ、磁気ディスク表面の膜が破断するポイントを検出することにより、磁気ディスク表面の膜の耐久性を評価する。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し、良好な記録／再生特性が得られ、生産性に優れる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体１０は、基板と、基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素１４Ａを構成する記録層１４と、記録要素１４Ａの間の凹部１６に配置された充填材１８と、記録要素１４Ａ及び充填材１８の上に配置された潤滑剤２０と、を有し、充填材１８及び潤滑剤２０はいずれもフッ素系有機化合物であり、且つ、充填材１８の質量平均分子量が潤滑剤２０の質量平均分子量よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】アフターコロージョンの無い生産性のよいパターンドメディア型磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板表面に少なくとも磁性層およびカーボン保護層が形成された磁気記録媒体中間体の前記磁性層および保護層を部分的に除去して凹凸パターンを形成する凹凸パターンの形成方法であって、ドライエッチングを用いて磁性層を部分的に除去して凹凸パターンを形成する際、エッチングガスとしてＡｒと炭素化合物を含むデポジションガスの混合ガスを用いることを特徴とする凹凸パターンの形成方法、及び、上記凹凸パターンの形成方法を採用してなることを特徴とするパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用の耐久性、下地層への潤滑膜の固着、及び耐摩耗性に優れた潤滑膜を提供すること。
【解決手段】基板上に磁気記録層を形成すること、該磁気記録層上に保護オーバーコート層を形成すること、該保護オーバーコート層の表面をパーフルオロシクロアルカン及び酸素を含む雰囲気に暴露すること、及び該パーフルオロシクロアルカンをプラズマ強化化学気相成長法を用いて重合して、該保護オーバーコート層上にパーフルオロポリエーテル含有層を堆積すること、を含む磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来と同等の工程数で製造できる、耐腐食性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】ディスク基板上に情報を記録する磁気記録層と記録機能をもたない溝部が交互に配列してなる凹凸パターンが形成された磁気記録媒体において、凸部形状のテーパ角度が１００°以上であり、凹凸パターンが形成された磁気記録媒体の磁気記録層表面に保護層が形成され、溝部（凹部）の開口部が前記保護層で封鎖され、前記凹部の内部に空洞が形成されてなることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体及びその製造方法において、表面が平滑な磁気記録媒体を安価、且つ、容易に形成可能とすることを目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体は、金属層と磁性材料で形成され前記金属層上に設けられた記録層を備え、記録層が分断されている箇所で露出している金属層は酸化により金属酸化物となっており、磁気記録媒体の媒体表面は酸化により膨張した前記金属酸化物の上面を媒体表面に合わせることで平坦化されている。 （もっと読む）

【課題】 成膜方法及び成膜装置に関し、ＦＣＡ法により成膜する際に、成膜レートを維持しつつ、被成膜基板上に付着するマクロパーティクル数を低減する。
【解決手段】 成膜原料のプラズマを発生するプラズマ発生部と、成膜原料を用いて被膜が形成される被成膜基板を内部に保持する成膜室と、プラズマを、プラズマ発生部から成膜室へ誘導する誘導管と、誘導管の内側に配置され、プラズマが通過可能な開口を有するパーティクル阻止部材とを有する成膜装置を用いて、プラズマ発生部においてプラズマを発生させるとともに、プラズマ発生部とパーティクル阻止部材との間に設置された電極に電圧を印加して、プラズマを開口に集め、開口を通過したプラズマにより被成膜基板上に被膜を成膜させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡単な構成で小型かつ安価に作製することができ、基板の有効な表面にわたって膜厚が均一な薄膜を高速で堆積することができるプラズマＣＶＤ装置及び薄膜形成方法を提供することを目的とする
【解決手段】真空室内に、平板状放電電極と基板とを互いに対向して設置し、真空室内に導入した反応性ガスをプラズマ発生手段によりプラズマ化し、基板上に薄膜を形成するプラズマＣＶＤ装置であって、前記基板と前記平板状放電電極との間の空間に、基板表面近傍に高密度プラズマ領域を形成するための磁界を発生させる閉ループ型磁界発生機構を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一に表面全体をカバーする耐腐食性キャップ層の必要性が存在する。
【解決手段】基板；基板上のグラニュラー磁性層；グラニュラー磁性層上のキャップ層；及びキャップ層上の、カーボン及びシリコンのうち少なくとも１種を含むオーバーコートを含み、キャップ層が２６００Ｋ未満のガラス転移温度、及び２．６Ｊ／ｍ²未満の表面エネルギーを有する材料を含む、磁気記録媒体。 （もっと読む）