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Fターム[5E317CC25]の内容

プリント配線間の電気接続のための印刷要素 (17,195) | 配線処理 (3,209) | 塗布 (1,146) | スルーホール内完全充填 (758)

Fターム[5E317CC25]に分類される特許

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【課題】 高密度実装化、多層配線化および低コスト化が容易な部品内蔵プリント配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 コア材11の一主面から他主面に貫通する開口12が形成され、開口12の側壁に圧接する機能素子13が取り付けられ、機能素子13の両端子13a、13bがコア材11の一主面と他主面とに向いて露出する。コア材11の一主面上に第1の層間絶縁層14が形成され、その第1の導体バンプ15が端子13aに接続し、第1の導体層16に電気的に取り出される。同様に、コア材11の他主面上に第2の層間絶縁層17が形成され、その第2の導体バンプ18が端子13bに接続し、第2の導体層19に取り出される。また、この第1の層間絶縁層14と第2の層間絶縁層17は、開口12と機能素子13の間に生じる空隙を埋める。 (もっと読む)


【課題】層間導通に用いるビアホールの底面における接続信頼性を向上させる。
【解決手段】プリント配線板は、可撓性を有する第1の絶縁層21aと、第1の絶縁層21aの第1の主表面に配置されたシード層22aと、シード層22aの上に配置された第1の導体回路23aと、第1の絶縁層21aを貫通するビアホールの底面に表出したシード層22aの上に配置された導体層28aと、ビアホールの中に埋め込まれ、且つビアホールの底面に表出した導体層28aに接触する層間導通部24aとを備える。層間導通部24aと導体層28aとの親和性は、層間導通部24aとシード層22aとの親和性よりも高い。 (もっと読む)


【課題】導電性パンブの抵抗が低減された多層プリント配線板形成用の積層体の製造方法、多層プリント配線板形成用の積層体、及び多層プリント配線板を提供すること。
【解決手段】(1)第1金属シート上に、バインダー樹脂及び金属微粒子を含む導電性ペーストを塗工した後、加熱することにより該導電性ペーストを硬化させて、導電性バンプを形成する工程、(2)該第1金属シート上に非導電性シートを積層配置した後、加圧することにより該導電性バンプを該非導電性シートに貫通させる工程、(3)該第2金属シートを、該導電性バンプによって貫通された該非導電性シート上に積層配置して未加圧積層体を得る工程、(4)前記未加圧積層体を、100〜200℃で加熱しながら10〜100MPaで加圧する工程、を含む、多層プリント配線板形成用の積層体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】導電性パンブと基板シート間における接触抵抗が低減された多層プリント配線板形成用の積層体並びにその製造方法、及び積層体を用いた形成された多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】第1金属シート2、第2金属シート3、非導電性シート4、及び非導電性シートを貫通することで第1金属シートと第2金属シートを接続させる導電性バンプ、を含む多層プリント配線板形成用の積層体であって、積層体が、導電性バンプと金属シートとの間にアンカー層6、7を含み、導電性バンプが平均粒径0.5〜5μmの金属微粒子及びバインダー樹脂を含み、アンカー層が、導電性バンプの金属微粒子を構成する金属及び金属シートを構成する金属からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属で構成される平均一次粒子径1〜100nmのナノ粒子を含んでなる層であるか、又はハンダからなる層である、多層プリント配線板形成用の積層体。 (もっと読む)


【課題】マスクを用いたレーザ加工法によるスルーホールは、スルーホール形成領域の絶縁層の溶解、気化、分解の効率が低く、スルーホールの加工精度は±25μm程度が限度である。
【解決手段】AlN基板11の上部にレーザ光吸収金属層12及びスルーホールTH1、TH2に対応する領域が除去されたレーザ光反射金属層13−1、13−2、13−3を設け、AlN基板11の下部にレーザ光吸収金属層12’−1、12’−2を設ける。レーザ光L1、L2はレーザ光反射金属層によって反射されるが、スルーホールに対応する領域のレーザ光吸収金属層によりAlN基板に集中かつ効率よく吸収され、AlN基板と共に、レーザ光吸収金属層も溶解、気化、分解する。これにより、径が下面に向う程小さくなるテーパ状スルーホールが形成される。同時に、スルーホール内のAlN基板の表面からNが脱離してAl露出層11aが内壁に形成される。 (もっと読む)


【課題】導電性接着部を介して金属部材同士を接合するに際し、金属部材と導電性接着部の接触抵抗を低減せしめる接合方法、及びその接合方法を用いて得られる接合体を提供すること。
【解決手段】第1金属部材2と第2金属部材3を、導電性接着部を介して接合する接合方法であって、該第1金属部材2と該導電性接着部との間に、該導電性接着部の金属微粒子を構成する金属及び該第1金属部材2を構成する金属からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属で構成される平均一次粒子径1〜100nmのナノ粒子を含んでなる第1接合補助部6を設ける、及び/又は該第2金属部材3と該導電性接着部との間に、該導電性接着部の金属微粒子を構成する金属及び該第2金属部材3を構成する金属からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属で構成される平均一次粒子径1〜100nmのナノ粒子を含んでなる第2接合補助部7を設ける、接合方法及び接合体。 (もっと読む)


【課題】ビア界面の接続面積が大きくなるため、接続信頼性を損なわずに従来よりもビアの小径化が可能となり、プリント配線板やビルドアップ配線基板の高密度化が可能となることが求められていた。
【解決手段】絶縁基板上に複数の配線層が絶縁層を介して形成されており、前記配線層間がフィルドビアにて電気的に接続されてなる多層プリント配線板において、前記配線層のランド部に相当する位置の前記絶縁層にビア用穴を形成する前記配線層のランド部表面に溝又は穴を形成し、前記配線層のランド部の表面の前記絶縁層にビア用穴が設けられ、前記ビア用穴にフィルドビアが形成されることで前記配線層の層間が電気的に接続されてなる多層プリント配線板を提供する。 (もっと読む)


【課題】 絶縁板に配置された貫通導体の突出や剥離を抑制することが可能な配線基板を提供する。
【解決手段】 セラミック焼結体からなる絶縁板1に、絶縁板1を厚み方向に貫通する貫通導体2を形成してなる配線基板であって、貫通導体2は、内部に非充填部5を有する導体材料4が絶縁板1を厚み方向に貫通する貫通孔3内に充填されて形成されている配線基板である。非充填部5によって貫通導体2の熱膨張を吸収することができ、貫通導体2が絶縁板1の主面よりも外側に突出することや貫通孔3から剥離することを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】芯材を備えない層間絶縁層をコア基板に積層しても反りの生じないプリント配線板を提供する。
【解決手段】ガラスクロスの芯材にガラスエポキシ樹脂を含浸させたコア基板30に無機粒子を添加して、熱膨張係数(CTE)を20〜40ppmまで低下させている。そして、コア基板30の厚みaを0.2mmに、上面側の第1層間絶縁層50Aの厚みbを0.1mmに、下面側の第2層間絶縁層50Bの厚みcを0.1mmに設定してある。これにより、薄いコア基板30と、芯材を備えない層間絶縁層50A、50Bとを用いて、プリント配線板に反りを発生させない。 (もっと読む)


【課題】同時に導電ペーストバイアおよび金属バイアを備える回路板を製造する回路板の製造方法、並びに同時に導電ペーストバイア及び金属バイアを備える回路板を提供する。
【解決手段】回路板が第1配線構造および第2配線構造を含む。第1配線構造が、第1誘電層と第1配線層と第2配線層と金属バイアとを含む。第1誘電層が互いに対向する第1表面および第2表面を有する。第1配線材料層が第1表面上に配置される。第2配線材料層が第2表面上に配置される。金属バイアが第1誘電層中に配置され、第1配線材料層および第2配線材料層を電気接続する。第2配線構造が第1配線構造上に配置される。第2配線構造が第3配線層と第2誘電層と導電ペーストバイアとを含む。第2誘電層が第1表面上に配置され、第1配線層を被覆する。第3配線層が第2誘電層上に配置される。導電ペーストバイアが第2誘電層中に配置され、第1配線層および第3配線層を電気接続する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、FLが十分な機械的強度を有する配線回路基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属支持層と、上記金属支持層上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線用導体層とを有し、上記絶縁層および上記配線用導体層が同一位置において開口された開口部が形成された配線回路基板であって、上記金属支持層が、上記絶縁層および上記配線用導体層を支持する支持部と、上記開口部の一端側から他端側まで伸び、上記支持部とは分離された端子部とを有し、上記配線用導体層は、接続部により上記端子部に接続された配線を有することを特徴とする配線回路基板を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】導電ペーストを貫通孔に充填後、プリプレグシートの両面に備えた離型性フィルムを剥離する工程を有する回路形成基板の製造方法において、離型性フィルム剥離時にプリプレグシートに発生した静電気により、導電ペーストの一部がプリプレグシートに飛散して静電吸着し、これが原因で回路配線のショートあるいは配線間絶縁抵抗の劣化が起こるという課題があった。
【解決手段】プリプレグシート1の両面に備えた離型性フィルム2を剥離する工程において、剥離時にプリプレグシート1を紫外線照射する手段6によって紫外線照射することにより、導電ペースト4のプリプレグシート1への静電吸着を防止して、配線回路のショートおよび絶縁信頼性劣化のない高品質で高信頼性を実現するための回路形成基板が得られる。 (もっと読む)


【課題】積層された2層の絶縁層に上面側と下面側とから金属箔から成る導体層を挟んで相対向して形成されたビアホール内に充填されたビア導体とこれらに接続される前記導体層との間にクラックが生じることを有効に防止でき、ビア導体を介した導体層同士の電気的接続信頼性が高い薄型で高密度配線の配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】金属箔から成る導体層2aを挟んで上下に積層された2層の絶縁層1a,1bに、上面側と下面側とから導体層2aを挟んで相対向するようにビアホール3a,3bが形成されているとともに、ビアホール3a,3b内が導体層2aに接続するめっきから成るビア導体4a,4bで充填されて成る配線基板であって、導体層2aはビアホール3a,3b同士の間に貫通孔8を有しているとともに、導体層2aに接続するビア導体4aと4bとが貫通孔8を介して一体化している。 (もっと読む)


【課題】コア用の配線導体においても高密度な微細配線を有する配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】上下に貫通するスルーホール3を有する絶縁板1と、スルーホール3の内壁に被着されためっき導体から成るスルーホール導体4と、スルーホール3内を充填する孔埋め樹脂6と、スルーホール導体4と電気的に接続するようにスルーホール3周囲の絶縁板1上下面にサブトラクティブ法により形成された銅箔から成るスルーホールランド5と、孔埋め樹脂6およびスルーホールランド5および絶縁板1上に孔埋め樹脂6およびスルーホールランド5を覆うようにセミアディティブ法により形成されためっき導体から成る蓋めっき7および絶縁板1の上下面にセミアディティブ法により形成されためっき導体から成る配線導体8とを具備する配線基板である。 (もっと読む)


【課題】配線導体の幅および間隔が例えば30μm以下の高密度配線を有する薄型の配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】上下面を有する絶縁層1にその上下面間を貫通する貫通孔2を設け、次に少なくとも貫通孔2内およびその周囲の上下面に貫通孔2を充填する第1のめっき導体4を被着させ、次に第1のめっき導体4をエッチングして上下面の第1のめっき導体4を除去するとともに、少なくとも貫通孔2の上下方向の中央部を充填するように第1のめっき導体4を残し、次に貫通孔2内の第1のめっき導体4よりも外側の部分を充填するとともに上下面で配線導体を形成する第2のめっき導体6をセミアディティブ法により形成する。 (もっと読む)


【課題】ビアフィルめっきを行う際、表層めっき層の厚みを低減するとともに、フィルドビア上のディンプルの凹み量のばらつきを小さくする。
【解決手段】可撓性の絶縁ベース材1の表面および裏面にそれぞれ銅箔2及び3を有する両面銅張積層板4を用意し、
内側に向かう突起部を有する星形形状のメタルマスクを銅箔2に形成し、
前記メタルマスクを用いてコンフォーマルレーザー加工を行い、底面に銅箔3が露出した、横断面が前記星形形状の有底ビアホールを形成し、
前記メタルマスクの周縁部の銅箔2及びその下の絶縁ベース材1の一部を除去し、横断面が前記星形形状の下側ビアホール7aと、この下側ビアホール7aと連通し、かつ横断面が円形の上側ビアホール7bとから構成されるステップ有底ビアホール7を形成し、
電解めっき手法によりステップ有底ビアホール7内にめっき金属を充填し、フィルドビア8を形成する。 (もっと読む)


【課題】薄膜配線層の電気抵抗変化が抑制され、かつ貫通導体と薄膜配線層との接合の信頼性が高い薄膜多層部を有する多層配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂絶縁層1と薄膜配線層2とが交互に積層され、上下の薄膜配線層2が、樹脂絶縁層1を厚み方向に貫通する貫通導体3に含まれるスズを主成分とする低融点金属材料3aにそれぞれ接合されて、貫通導体3によって互いに電気的に接続されてなる薄膜多層部4を有し、貫通導体3は、端部が複数の接合部Bに分割されて接合部Bが薄膜配線層2に接合されているとともに、複数の接合部Bの間に、薄膜配線層2および貫通導体3に接合された樹脂材料33が介在している。樹脂材料33によって、低融点金属材料3aと薄膜配線層2との接合面積を抑えて銅の拡散を抑制し、応力を緩和して貫通導体3と薄膜配線層2との接合信頼性を向上できる。 (もっと読む)


【課題】マスクを利用して導電性ペーストで回路パターンを形成することにより、リードタイムを短縮し、製造コストを低減することができる印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)絶縁層110を準備する段階と、(B)絶縁層110を貫通する貫通孔115を加工する段階と、(C)回路パターン用開口部125が備えられた第1マスク120を絶縁層110の一面に配置した後、導電性ペースト130をローラー140で加圧して前記開口部125に圧出させることにより第1回路パターン150を形成する段階と、(D)回路パターン用開口部125が備えられた第2マスクを絶縁層110の他面に配置した後、導電性ペーストをローラーで加圧して前記開口部に圧出させることにより第2回路パターンを形成する段階と、を含むものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ビアめっき部の検査を安定して精度良く行うことができる支持枠付サスペンション用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、サスペンション用基板および支持枠が、上記支持枠の内部開口領域で一体化している支持枠付サスペンション用基板であって、上記支持枠が、絶縁層を貫通し、導体層および金属支持基板を電気的に接続し、ビアめっき部と同じ成分で構成される検査用ビアめっき部を有することを特徴とする支持枠付サスペンション用基板を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】導電性ペーストによるビア接続を具備する回路基板に対して、極めて容易かつ確実にビア接続が確保できる回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリプレグシート11の両面に有機質フィルム12を備え、かつ所望の位置に導電性ペーストが充填された貫通穴13を具備する回路基板の製造方法であって、その貫通穴13において(前記有機質フィルムの穴径rf1、rf2/前記有機質フィルムの厚みtf1、tf2)が3以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


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