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Fターム[5E343AA07]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | プリント板の基板の形状、構造・材料 (9,206) | プリント板の基板構造 (2,500) | 貫通孔を持つもの (174)

Fターム[5E343AA07]に分類される特許

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【課題】従来例における導体パターンに比較して積層基板の表面に形成される表面導体層の形状や配置の自由度を高くする。
【解決手段】第1〜第4絶縁層31〜34の間に形成されている第1〜第3内層導体層41〜43を介して下地層6aに給電することにより電気めっきを行い、めっき層6bを厚付けすることにより表面導体層6を形成する。その結果、電気めっきの給電用導体層が絶縁基材の表面にしか形成し得ない従来例に比較して、積層基板2の表面に形成される表面導体層6の形状や配置の自由度が高くなる。 (もっと読む)


【課題】ビア導体におけるセパレーションの発生を低減させること。
【解決手段】基板11、活性金属の酸化物層15および導体層12を有している。基板11は、セラミックスからなり、スルーホールを有している。酸化物層15は、スルーホール11hの内側壁面に形成されている。導体層12は、活性金属からなり、酸化物層15の内側に形成されている。配線基板は、ビア導体13および導体パターン14を有している。ビア導体13は、11族の金属材料からなり、導体層12の内側に形成されている。導体パターン14は、スルーホール11h上に形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、フッ素樹脂基板のバイアホールのデスミア処理において、スミアを有効に除去し、孔の変形や損傷を与えないデスミア液及びデスミア処理方法を提供する。
【解決手段】オキシアルキルアミン及びアルカリ金属化合物を含む水溶液からなることを特徴とするフッ素樹脂基板用デスミア液及びそれを用いたデスミア処理方法。 (もっと読む)


【課題】積層パターン形成工程の連続処理化を可能として、製造設備の簡素化と製造コストの低減を図ることのできる、多層配線基板等の製造に用いる積層体の積層パターン形成方法、その形成装置及び積層体を提供する。また、その積層パターン形成方法に基づき製造される多層回路基板の製造方法及びその多層回路基板を用いた電子回路部品を提供する。
【解決手段】単一又は複数の感光ドラム1を用いて、認識カメラCにより絶縁性基体13及び/又は直前の絶縁体層又は導体層の一部又は全部を位置合わせの基準位置として判別し、判別した基準位置に基づき、絶縁性基体上に導体層と絶縁体層の組を1組以上積層定着させた積層パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】メッキ用リード部の断線処理工程が簡単で、コスト安にメッキ用リード部の断線処理ができるフレキシブル配線基板等を提供する。
【解決手段】絶縁ベース層2の一面に回路パターン部3と共にメッキ用リード部4を設け、メッキ用リード部4を断線する断線孔13を設け、回路パターン部3を回避し、且つ、断線孔13を囲む位置に切り込み14を設け、切り込み14で囲まれた断線孔13を有する箇所1aを補強板7の配置側に折り曲げ、断線孔13を有する箇所1aを折り曲げされない絶縁ベース層2の箇所と補強板7との間に配置することによって断線孔13を封止した。 (もっと読む)


【課題】低背化と信頼性を向上させた部品内蔵基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】(d)では両面に部品を実装した部品実装基板(1)を中央にして、熱膨張係数が部品実装基板(1)と同じかほぼ近い第1,第2の支持基板(2a,2b)を積層配置するとともに、部品実装基板(1)と第1,第2の支持基板(2a,2b)との間には、硬化前状態の絶縁層(3a,3b)を配設し、(e)では第1,第2の支持基板(2a,2b)を積層方向に加熱加圧して絶縁層(3a,3b)を硬化させて一体化し、(f)ではパターン電極(103c,103d)を残して第1,第2の支持基板(2a,2b)を剥離してパターン電極(103c,103d)を露出させる。 (もっと読む)


【課題】従来のドリルによるスタブ除去加工(バックドリル加工)には複雑な検出パターンを必要としたが、それを簡便なテストパターンで行うことができるようにする。
【解決手段】予め該多層プリント基板に内層の深さを検出するための、少なくとも一部が互いに重ならないようにした複数のテストパターン層3、4と、表面導体層2を設け、表面導体層2とテストパターン層3、4の間に電圧を印加しておき、まず、選ばれたテストパターン層3に向かって、バックドリル加工を行うドリル7でもって穴明け加工を行って、該テストパターン層3に接触した時に生ずる電流によって検出してその層の深さ(D1)を測定し、次に、もう一方のテストパターン層4に向かって、該ドリル7でもって穴明け加工を行って深さ(D2)を測定し、該D1とD2を平均した深さを基準として該導体配線層10aの手前まで該ドリル7にて加工する。 (もっと読む)


本出願は多層回路を製造する方法を目的とする。方法は、層を貫く開口を含む第1電気絶縁層を提供することと、第1電気絶縁層を第1導電層と結合することとを含む。第1導電層が、第1電気絶縁層中の開口と見当合わせして、第1電気絶縁層と結合され、及び多層回路が持続速度で製造される。別の実施形態では、方法は、第2電気絶縁層を提供することと、第2電気絶縁層を第1電気絶縁層に向かい合う第1導電層と結合することとを含む。
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【課題】イオンマイグレーションによる電気的短絡が防止された配線回路基板を提供する。
【解決手段】配線回路基板100は、ベース絶縁層101および配線1040を有する。配線1040は、ベース絶縁層101の上面側の端子部1041、ベース絶縁層101のスルーホール123内の銅めっき層104、およびベース絶縁層101の下面側の配線パターン1042により構成される。端子部1041およびスルーホール123内の銅めっき層104を覆うようにベース絶縁層101の上面側に保護めっき層109が設けられる。配線パターン1042を覆うようにベース絶縁層101の下面側にカバー絶縁層108が設けられる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低剛性なサスペンション用基板を歩留まり良く製造することができるサスペンション用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基板、絶縁層、シード層、および配線パターン層がこの順で積層された積層体に、カバー材を用いて、上記配線パターン層の表面の一部が露出する配線パターン層露出開口部を有するカバー層を形成するカバー層形成工程と、上記カバー層を形成した後に、上記絶縁層のエッチングを行う絶縁層エッチング工程と、を有することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】信号配線の導体厚みが小さく形成されていることによりクロストーク対策がなされたプリント配線板において、部品の実装信頼性及びスルーホールの接続信頼性が確保されたプリント配線板と、従来のプリント配線板の製造方法を大幅に変更することなく、このプリント配線板を製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】部品実装部に対して選択的に銅がめっきされていることにより、部品実装部の導体厚みが信号配線の導体厚みよりも大きく形成されているプリント配線板である。また、銅貼基材に銅めっき処理をする工程を含むプリント配線板の製造方法において、銅めっき処理は、銅貼基材に無電解銅めっき処理をし、次いで、銅貼基材に電解銅めっきレジストを形成した後、電解めっきレジストが形成されていない箇所を選択的に電解銅めっきする工程であるプリント配線板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 スルーホール信頼性、及び微細配線形成性に優れたフレキシブルプリント配線板、高密度実装が可能なフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】 表面に形成された配線の厚み(a)とスルーホール開口部の導体層厚み(b)との間に、(a)−(b)≦10μmなる関係が成立することを特徴とするフレキシブルプリント配線板によってスルーホール信頼性、及び微細配線形成性に優れたフレキシブルプリント配線板を提供するという上記課題を解決しうる。 (もっと読む)


【課題】 プリント配線板の製造等に好適に用いることができる積層体であり、無電解めっき皮膜との接着性に優れ、信頼性に優れ、さらには微細配線形成性に優れた積層体とその代表的な利用技術を提供する。
【解決手段】 高分子フィルムの片面若しくは両面に特定構造を有する樹脂を含有する樹脂組成物成分からなる層Aを少なくとも有する、高分子フィルム及び層Aからなる樹脂材料の層A表面に、ピンホールが1平方メートルあたり10個以下である金属層が形成されてなることを特徴とする積層体によって上記課題を解決しうる。 (もっと読む)


【課題】 薄型化が可能となるとともにアライメントの精度が良好となる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 支持板に接するように、複数の導電パターンを形成する第1の工程と、前記複数の導電パターンを覆うとともに、前記支持板に接するように樹脂層を形成する第2の工程と、前記複数の導電パターンのうちの少なくとも一部に接続される別の導電パターンを形成する第3の工程と、前記支持板を除去する第4の工程と、を有する配線基板の製造方法であって、前記第1の工程で前記複数の導電パターンのうちの少なくとも一部が接する前記支持板の第1の領域と、前記第2の工程で前記樹脂層が接する前記支持板の第2の領域の表面粗さが異なることを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】長期的に安定した電気的接続を容易かつ安価に実現する。
【解決手段】回路基板10では、取付孔11の周囲に位置する接地パターン12の接続領域12aに導電性ペーストを用いて導電膜13を形成する。筐体20には、回路基板10の取付孔11と対向する位置にネジ孔21を螺刻しておく。回路基板10は、ネジ31の座面と導電膜13が対向するように筐体20の所定位置に載置して、回路基板10側からネジ孔21にネジ31を螺入して回路基板10を筐体20に固定する。このとき、回路基板10の接地パターン12と筐体20は、導電膜13とネジ31を介して電気的に導通状態となる。接地パターン12の接続領域12aは導電膜13で覆われているので、回路基板10と筐体20は、長期にわたって安定した導通状態を確保できる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、異種材質による接着層によって外層を積層しても、確実なビア接続を実現し、信頼性に優れた積層配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 接着層と外層絶縁層とは異なる成分のものを用いて、
内層回路基板の導体配線回路パターンを有する面に、内層回路基板の導体配線回路パターンの一部又は全部を覆うように、接着層、外層絶縁層及び外層導体層を積層する工程、
内層回路基板のアライメントマークを基準として、少なくとも外層導体層、外層絶縁層及び接着層を穴あけ加工して複数のビアを形成する工程、
穴あけ加工で生じたバリの除去とビア内のクリーニング処理を物理的洗浄で同時に行う工程、
ビア内に導通化処理を行い、ビア内に導体層を形成して、内層回路基板の導体配線と外層導体層とをビアの導体層を介して電気的に接続させる工程、
外層導体層から導体配線回路パターンを形成する工程、
とを有することを特徴とするビルドアップ多層配線基板の製造法に関する。 (もっと読む)


【課題】容易に貫通孔内に導電性材料を充填して、基板両面に配置された被接続体を電気的に接続する。
【解決手段】まず、基材41に溝46及び溝46に連通する凹部47からなる充填路49を形成する(充填路形成工程)。次に、溝46に連通する貫通孔48を形成する(貫通孔形成工程)。続いて、基材41の上面に配線42を形成し、基材41の下面に個別電極32を配置する(配置工程)。そして、凹部47に液滴51を着弾させて、溝46を介して、貫通孔48内に導電性の液体52を充填する(液体充填工程)。次に、溝46、凹部47及び貫通孔48内に充填された液体52を焼成し固化させる(固化工程)。そして、基材41の凹部47及び溝46を貫通孔48近傍まで切断して除去する(除去工程)。 (もっと読む)


【課題】レーザ光によって液状体の配置位置を制御して所望の配置位置で液状体を乾燥させて、高精細、高精密なパターンを形成すことができるパターン形成方法、パターン形成装置及び液状体乾燥装置を提供する。
【解決手段】金属インクFに対して吸収率が高い波長の第1照射光Le1を出射する第1半導体レーザLD1と、金属インクFに対して吸収率が低い波長の第2照射光Le2を出射する第2半導体レーザLD2をキャリッジ20に備えた。第2照射光Le2によって、液状膜FLを第1照射光Le1の照射方向と反対方向への移動を付与して配置位置制御しながら、第1照射光Le1が入射する液状膜FLの部分(照射位置P1)を平坦化する。液状膜FLは、第1照射光Le1によって乾燥されると、乾燥不足もなく高精細、高精密な層パターンFPが形成される。 (もっと読む)


【課題】配線基板において、下地層とこの層に接する導体との間にクラックが発生することを抑制する。
【解決手段】本発明は、貫通孔51A,61Aを有する絶縁層51,61と、絶縁層51,61に積層され、かつ少なくとも一部が貫通孔51A,61Aを介して露出する導体層50,60と、導体層50,60に接続され、かつ貫通孔51A,61Aの内面51Aa,61Aaを覆う下地層52,62と、下地層52,62を覆うように、少なくとも一部が貫通孔51A,61Aに形成されたビア導体53,63と、を備えた配線基板に関する。導体層50,60と下地層52,62との間には、導体層50,60の金属材料と下地層52,62の金属材料との金属結晶が形成されている。 (もっと読む)


【課題】導電性パターンが突出しているためパターン倒れやゆがみが生じ、ビアに対してランドの位置合わせによりずれが生じるためランドを大きくする必要があり微細化の障害となっていた。
【解決手段】ビア18が形成された絶縁性基材15を備え、絶縁性基材15の一方の面には少なくとも開口部14が設けられたランド13を含む導電性パターン12の一部が埋設され、絶縁性基材15の他方の面には別の導電性パターン16、ランド17が設けられ、ビア18は絶縁性基材15に貫通して設けられ、絶縁性基材15の他方の面に形成された別の導電性パターン16、ランド17と貫通して設けられたビア18およびランド13の開口部に導電体20が充填され、導電体20が絶縁性基材15の一方の面の導電性パターン12,ランド13および他方の面に形成された別の導電性パターン16,ランド17と結晶学的に結合され且つ電気的に接続されたことを特徴とする基板。 (もっと読む)


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