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Fターム[5E343AA07]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | プリント板の基板の形状、構造・材料 (9,206) | プリント板の基板構造 (2,500) | 貫通孔を持つもの (174)

Fターム[5E343AA07]に分類される特許

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【課題】メタライズ配線層の導体抵抗を上昇させることなく、絶縁基板とメタライズとの接着強度を高く維持し、かつ基板反りを抑制するメタライズ組成物を提供する。
【解決手段】銅粉末と、ガラス粉末と、水酸基含有アクリル系樹脂からなる有機バインダと、溶剤とを含有することを特徴とし、前記水酸基含有アクリル系樹脂が、水酸基を含有しないメタクリル酸エステル単量体と水酸基を含有しないアクリル酸エステル単量体とから選ばれる1種(a)と、水酸基を含有するメタクリル酸エステル単量体と水酸基を含有するアクリル酸エステル単量体とから選ばれる1種(b)との重合体からなり、前記(b)/((a)+(b))の割合が0.1〜20質量%から構成され、特に前記水酸基含有アクリル系樹脂が、イソブチルメタクリル酸エステル単量体と、水酸基を含有するイソブチルメタクリル酸エステル単量体と、の重合体からなることが好ましい。 (もっと読む)


第1支持層12上に形成された第1電極パターン4に第1電子部品6を導電性接合材7により接続固定し、第1支持層12の電子部品固定面側に第1プリプレグ2を間にして第2電極パターン5を有する第2支持層13を圧着・転写し、第1プリプレグ2から第1支持層12と第2支持層13とを剥離する。剥離後、第1プリプレグ2を硬化させる。第2電極パターン5の裏面に第2電子部品8を導電性接合材9により接続固定し、第2電子部品固定面側に第2プリプレグ1を間にして第3電極パターン3を有する第3支持層14を圧着・転写し、第2プリプレグ1から第3支持層14を剥離し、第2プリプレグ1を硬化させる。このようにプリプレグ1,2と電極パターン3,4,5とを順次積層していくことで、積層される電極パターン間あるいは電極パターンと電子部品との接続抵抗を低くし、接続信頼性が高い部品内蔵基板Aを得る。
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【課題】接着剤層と基材との密着性に優れた回路基板の製造方法および回路基板を提供する。
【解決手段】第1基材と、第2基材とを接着剤層を介して電気的に接合して得られる回路基板の製造方法であって、前記第1基材の前記接着剤層と接合する面を、酸素、窒素、四フッ化炭素、アルゴン、ネオン、クリプトンおよびヘリウムの中から選ばれる1種以上の第1気体で予めプラズマ処理する第1プラズマ処理工程と、前記接合面をさらに前記第1プラズマ処理工程に用いる第1気体と異なる第2気体でプラズマ処理する第2プラズマ処理工程とを有している。 (もっと読む)


【課題】 ワークからの切り出し時に生じるバリや剥がれによって隣接する端子同士の短絡が生じたり、信号の波形が歪んだりすることのない接栓端子付きプリント基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 端部に複数の接栓端子2を備えた接栓端子付きのプリント基板1であって、接栓端子2を形成する部分に電気めっき処理を施すためのめっきリード線3のうち、信号線として用いられる接栓端子2に電気めっき処理を施すためのものは表面層に、電源線又は接地線として用いられる接栓端子2に電気めっき処理を施すためのものは内層に設けられている。 (もっと読む)


【課題】インプリント法で回路パターンを形成し、レーザでビアホールを形成することにより、微細な回路パターンおよび残渣のないビアホールを提供するプリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第1回路パターンおよび下部ランドが形成されたベース基板上に半硬化状態の絶縁層を積層した後、第2回路パターンに対応するパターンが形成された型と前記絶縁層の積層された前記ベース基板を整合させ、前記絶縁層に第2回路パターン用溝を形成するため、前記絶縁層に前記型を刻設、前記絶縁層を完全に硬化させ、レーザにより、前記下部ランドまで前記絶縁層を貫通するビアホールを形成し、前記絶縁層、前記第2回路パターン用溝および前記ビアホールの内部に無電解メッキ層を形成し、前記無電解メッキ層に電解メッキ層を形成し、前記絶縁層が露出するまで、前記無電解メッキ層および前記電解メッキ層を研磨する。 (もっと読む)


【課題】 微細なパターン形状を有する配線基板を製造する。
【解決手段】 絶縁層と、前記絶縁層に形成されるパターン配線と、前記パターン配線に接続されるビアプラグと、を有する配線基板の製造方法であって、前記パターン配線のパターン形状が形成されたパターン形成板上に、金属薄膜を形成する第1の工程と、当該パターン形成板を、前記絶縁層に押し付けて前記パターン形状を前記絶縁層に転写すると共に、前記金属薄膜を前記絶縁層に貼り付ける第2の工程と、前記第2の工程の後に、前記絶縁層に、前記パターン形状に対応してビアホールを形成する第3の工程と、前記ピアホールにメッキのシード層を形成する第4の工程と、前記ビアホールと前記パターン形状の凹部を埋設するように、金属メッキにより前記パターン配線と前記ビアプラグを形成する第5の工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高い伝熱性を持つ基板及びその製造工程を提供する。
【解決手段】高い伝熱性を持つ基板及びその製造工程の一種であり、主に、伝熱係数が高い金属(例えばアルミ材)に予め適当な穴を穿孔し、さらに上記の金属材を上下二つの銅箔層間に置く。並びに高伝熱ペーストをその金属材及び銅箔層の間に注入し、絶縁及び粘着の媒体とする。板材の圧着過程で生じる高温を利用し、高伝熱ペーストを溶融させ金属材及び銅箔層を粘着固定する。そして、高伝熱ペーストの溶融過程時に、金属材の予め穿孔した穴の中を満たして、絶縁層を形成し、基板を穿孔後電気メッキする際、金属材及び銅張積層板が接触して短絡が発生しないようにする。並びに電子部品が産生する高熱を急速に金属材に伝導するため、その散熱面積を増加し、高伝熱性基板により良い散熱効果を達成させる。 (もっと読む)


【課題】耐熱性を得るために貫通電極を金属で形成し、貫通電極の強い密着力と安定した電極の電気抵抗が得られる、貫通電極付基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスもしくはセラミックス基板の表裏方向に貫通する孔を設け、基板端面から貫通孔の内壁面の一部領域に金属膜Cを形成する。貫通孔には金属膜Cより融点の低い電極金属Dを充填,加熱して貫通電極とする。金属膜Cを形成することで、電極金属Dと貫通孔内壁との密着力が向上し、脱離しにくい貫通電極とすることができる。貫通電極は樹脂を含まない金属のみで形成されるので耐熱性が高い貫通電極付基板が得られる。 (もっと読む)


【課題】 高精度で信頼性が高く、かつローコストに生産が可能な回路部品モジュールおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 放熱板8と、放熱板8の一面8bに積層された樹脂層6と、樹脂層6に埋込まれるとともに一部が放熱板8に接している電子部品31と、樹脂層6の放熱板と反対側の面6aに埋込まれて電子部品31とともに回路を構成する配線パターン5とを具備してなることを特徴とする回路部品モジュール100を提供する。 (もっと読む)


【課題】配線基板をより高密度化するために、配線、ビアをより微細化すると共に、ビア接続性や絶縁性の特性を満足する配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性粒子9とめっき配線7の接続が導電性粒子を部分的に除去した除去界面でなされる配線基板であって、これにより、より広い接続界面の面積を確保することができ、電気的接続性を向上させることができ、結果としてより微細ビアでの接続が実現できる。 (もっと読む)


【課題】電子部品を基材上に搭載した電子部品搭載装置とその製造方法において、制約なく多様な電子部品を搭載可能で、配線パターン形成に際して基板や電子部品の汚染が発生することがなく、洗浄などの手間がかからず、工程が短く低コストとなる。
【解決手段】電子部品30をベース基材10の表面に接着層12を介して搭載する電子部品搭載工程と、ベース基材10の裏面に搭載した電子部品30の端子が露出するように裏面側よりベース基材10に孔加工を施す孔加工工程と、金属ナノペーストを使用して、孔加工した孔内に、露出した電子部品30の端子と電気接続する導電路21を形成すると共に、ベース基材10の裏面に孔内の導電路21と電気接続した回線パターン22を形成する回路パターン形成工程と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】本発明は高品質な微細穴を有した基板用材料を実現し、低コストで信頼性の高い回路基板を実現するために、それに用いる基板用材料の乾燥方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】水洗によって吸湿した基板用材料1を積み重ねた状態で真空乾燥槽11内に投入し、前記基板用材料1を加熱しながら減圧と昇圧を繰り返しながら乾燥を行うことで、基板用材料1に熱的ダメージを与えず大量に処理することができる。 (もっと読む)


【課題】 プリント基板の製造プロセスを簡略化およびその製造コストの低減を可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 プラスチックの基板611の上に、めっきシードとしての触媒金属を含有する有機または無機金属化合物を含む溶剤を塗布・乾燥させて金属化合物膜612を形成し、その所望領域に電子線などのエネルギ線613を照射して触媒金属を析出させる。当該照射領域への局所的なエネルギ線照射によりその照射領域のみで金属触媒析出の化学反応が生じ、触媒金属が局所的に析出してパターニングされた金属触媒膜614を得ることができる。また、エネルギ照射された基板611は、表面の溶融により触媒金属を極浅領域に取り込んだり、表面のアブレーションにより触媒金属と基板表面の接触面積が実効的に広くなったり、あるいは化学的改質により基板と触媒金属との結合状態が強固なものとなるので、固着程度が高まり金属触媒膜の剥離が生じ難くなる。 (もっと読む)


【課題】 電気的接続の信頼性に優れた配線パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 層間絶縁膜54を介して積層配置された複数の電気配線32,36が、導通ポスト34により相互に導通接続されてなる配線パターンの形成方法であって、導通ポスト34の構成材料を含む第1液滴を吐出して、導通ポスト34の形成位置に液状ポスト34pを描画形成する工程と、層間絶縁膜54の構成材料を含む第2液滴を吐出して、導通ポスト34の形成位置以外の領域に液状層間膜54pを描画形成する工程と、を有し、第1液滴および前記第2液滴が、相互に相分離性を示す材料で構成されている。 (もっと読む)


【課題】フィルドビアとそれに接合する導体層と接続抵抗の低減と安定化を図り、高い電気的信頼性を得ると共に、回路形成後の絶縁層上の導体層の剥離について充分な強度を得ること。
【解決手段】導体層13を電解めっきのための導電シード層15を介して形成された電解めっき層により構成し、導電シード層15に接触する側の絶縁層11の表面11Aを、フィルドビア14の絶縁層表面11Aに対する露呈面14Aを含めて粗化加工面16とする。 (もっと読む)


【課題】 ビアオープン、及びフラッシュエッチングによって形成されるアンダーカットを防止して高密度の微細回路パターンを実現することが可能な、パッケージ基板の方法を提供する。
【解決手段】 所定のマスキング工程によって内層回路パターンが形成されたペース基板を製作する段階と、前記ベース基板上に、層間電気的絶縁を行う絶縁層を形成する段階と、絶縁層に対して層間電気的導通を行うビアホールを形成する段階と、前記ビアホールの形成された絶縁層上にシード層を形成する段階と、所定のマスキング工程によって前記シード層上に外層回路パターンを形成する段階とを含み、前記シード層は、ビアオープン、及び外層回路パターンに発生するアンダーカットを防止するために部分的、選択的にフラッシュエッチングされる。 (もっと読む)


【課題】セミアディティブ法において、電気めっきによるパターンめっきのための下地の薄い導電層をエッチングする際、下地の薄い導電層がサイドエッチングによって裾部が食われ、配線基板が絶縁性基板との間に隙間ができるために配線基板が剥れてしまい、微細化が困難であった。
【解決手段】絶縁性基板1上に、第1の導電層7および第2の導電層9を形成し、前記第1の導電層7と第2の導電層9との境界部断面において、少なくとも前記第1の導電層7の表面は前記絶縁性基板1と接する側より小さくなっており、第3の導電層11は、前記第1及び第2の導電層表面を被覆するように形成した配線基板である。 (もっと読む)


【課題】フォトケミカルエッチングによる導電回路形成において無駄なエネルギーの消費や、廃液処理等に対処するため、より経済的な製造プロセスを提供する。
【解決手段】電気絶縁性の有機無機材料からなる基板上に、導電性の金属微粒子を部分的または全面的に塗布してから、塗布した金属微粒子にレーザービームを照射しながら走査し、基板上の導電性金属微粒子を直接に溶融燒結させ、基板上に導電回路を連続的に形成する。 (もっと読む)


【課題】
スルーホールを有するプリント配線板のメッキにおいて、メッキ液の簡単な攪拌方法で、高いアスペクト比のスルーホール表面にも、均一で十分な厚みのメッキを精度よく行うことができ、さらには、スルーホール表面のメッキ厚みとプリント配線板表面のメッキ厚みの比を100%に近づけるようなメッキ方法およびメッキ装置を提供すること
【課題を解決するための手段】
スルーホールを有するプリント配線板をメッキ液に浸漬し、該プリント配線板の一方の面に接触するメッキ液と、他方の面に接触するメッキ液の攪拌速度を異なるようにした。メッキ液の攪拌の方法は、攪拌棒を往復運動させる方法で、プリント配線板の一方の面に面する攪拌棒の往復速度と他方の面の往復速度とが異なるように攪拌する。
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【解決手段】
本発明は、銅基材または銅合金基材と、該基材の表面に形成された銅拡散錫層と、該銅拡散錫層の表面に形成された純錫層とからなり、該銅拡散錫層の厚さが、銅拡散錫層と純錫層との合計厚さに対して55%以上であることを特徴とするホイスカの成長が抑制された被覆銅であり、さらに本発明は、銅基材または銅合金基材が配線パターンであるプリント配線基板および半導体装置を提供する。
【効果】
本発明によれば、短絡の原因となる15μmを超えるような長いホイスカの発生を抑制することができる。 (もっと読む)


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