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Fターム[5E343AA18]の内容

Fターム[5E343AA18]に分類される特許

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【課題】給電体のめっき皮膜を剥離しつつ、プリント配線板の生産効率を向上させる方法及び装置の提供。
【解決手段】電解めっき液3が収容されるめっき液浴11と、めっき液浴11内でFPC2(被めっき物)に対向するように配置された陽極板12と、めっき液浴11内でFPC2に電気的に接触する第1位置及び非接触となる第2位置に移動可能なように配置された一対の給電体13と、第1位置と第2位置との間において一対の給電体13のそれぞれを移動させる駆動機構と、記一対の給電体13及び陽極板12への印加電位をそれぞれ制御するコントローラと、を備え、コントローラは、第1位置に移動する給電体13に負の電位を印加するとともに、第2位置に移動する給電体13に負の電位を印加する。 (もっと読む)


【課題】微細な内層配線パターンであっても横倒れや剥がれが起こりにくく、樹脂絶縁層との間に十分な密着性が付与されている多層配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の多層配線基板K1は、複数の樹脂絶縁層16,17,30,31を積層してなり、基板主面32a及び基板裏面33aを有する基板本体20を備える。隣接する樹脂絶縁層16,17,30,31間には、基板本体20の面方向に沿って延びかつめっき層41,42からなる内層配線パターン28,29が挟まれるようにして配置されている。内層配線パターン28,29は、上面43及び底面44を有するとともに、上面43側にて接する樹脂絶縁層30,31及び底面45側にて接する樹脂絶縁層16,17の両方に対して埋まっている。 (もっと読む)


【課題】導電性ペーストの代わりにプリント基板との接着力が弱い導電性インクを用いることで、レジストと導電性インクを1工程で剥離することができる電解メッキ形成方法を提供する。
【解決手段】配線パターン3と配線パターン3とは電気的に独立して形成された島パターン4とを備えたプリント基板1上の島パターン4の表面に電解メッキ層7を形成する電解メッキ形成方法において、配線パターン3と島パターン4とを導電性インク5で電気的に接続し、導電性インク5上にレジスト6を形成し、電解メッキを施した後、レジスト6を導電性インク5と共に除去する方法である。 (もっと読む)


【課題】インクジェット法を用いた場合でも高いスループットで微細な導電層を有する積層構造体を製造可能な積層構造体の製造方法、並びに積層構造体、多層配線基板、アクティブマトリクス基板及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に、同一パターンの高表面エネルギー部40を一定の間隔で周期的に配列しておき、インクジェット装置の主走査方向(X軸方向)における吐出ノズル1,2の間隔を、高表面エネルギー部40のパターン間隔と一致させて選択的に機能液の液滴dを滴下してソース電極230、ソース電極線290、ドレイン電極240となる導電層を形成する。 (もっと読む)


【課題】透明性、導電性に優れた導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】長尺支持体上に、銀塩およびバインダを含み、該バインダの体積に対する該銀塩の銀換算体積の比率が1以上である乳剤層を有する感光材料を、パターン露光し、イミダゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類およびトリアザインドリジン類からなる群から選ばれる少なくとも一つの銀吸着剤を0.0005モル/L以上含有する現像液で現像処理し、次いで定着処理して金属銀部を形成する導電膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、めっき太りを抑制し、めっき性が低下しない金属パターン製造方法及び金属パターンを提供することにある。
【解決手段】基板上に、無電解めっきの触媒前駆体を含有するインクを用いてパターン部を形成し、活性化処理にて該パターン部の該触媒前駆体を無電解めっきの触媒に変換して、無電解めっき処理によって金属パターンを形成する製造方法において、洗浄液に対する該触媒前駆体の溶解度が0.5g/L以下である洗浄液で洗浄し、前記活性化処理を行うことを特徴とする金属パターン製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の第一の目的は、上記実情に鑑みて、金属膜(めっき膜)との密着性に優れたポリマー層を所望のパターン状に形成することができ、高い連続吐出安定性を示すインクジェットインクを提供することにある。
【解決手段】めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する官能基と重合性官能基とを含有するポリマーと、ポリマーを溶解又は分散させる、1種又は2種以上の溶媒とを含むインクジェットインク。 (もっと読む)


【課題】絶縁被覆層の種類にかかわらず、回路層を絶縁被覆層で被覆する前後での回路抵抗の変化が十分に抑制されたメンブレン配線板を提供すること。
【解決手段】絶縁基材1と、絶縁基材1上に設けられ、導電粉を含む導電性ペーストにより形成された回路層2aを絶縁被覆層2bで被覆してなる少なくとも1つの回路部2と、を備えるメンブレン配線板100であって、回路層2が、90%以上のゲル分率を有する樹脂成分を含むメンブレン配線板100。 (もっと読む)


【課題】めっき部形成時におけるレジストマスクの形成・剥離が不要であり、めっき漏れを抑制でき、めっき部の厚さのバラつきを低減し、かつ、めっきロスの少ない支持枠付回路基板の提供。
【解決手段】支持枠11の内部開口領域12で回路基板10および支持枠11が一体化している支持枠付回路基板であって、回路基板10は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された配線層3と、配線層3および絶縁層2を覆うカバー層4と、カバー層4に覆われていない配線層3の表面上に形成されためっき部6とを有し、上記支持枠11は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された導体層7と、導体層7上に形成され、カバー層4と同一の材料から構成される保護層8とを有することを特徴とする支持枠付回路基板。 (もっと読む)


【課題】 触媒付与等の前処理工程や乾燥工程などが不要で、工程が少なく、配線基板を安価で生産性良く製造する方法を提供する。
【解決手段】 基板上に金属膜を形成する金属膜形成工程と、金属膜を所望形状の配線パターンとする配線パターン形成工程とを備え、前記金属膜形成工程において、基板と金属の前駆体と触媒成分と還元剤成分とを、超臨界または亜臨界流体中に共存させて処理することにより、前記基板に金属膜を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】繰り返し屈曲される使用下でも、配線パターンが早期に破断することをなくし、優れた耐久性を得ることである。
【解決手段】可撓性絶縁基材11の少なくとも一方の面に銅製の配線パターン12を有するプリント配線板10において、配線パターン12のうちプリント配線板10が屈曲使用される部位10Aに位置する配線パターン12A上に、伸縮性補強導体層13をスクリーン印刷よって形成する。 (もっと読む)


【課題】耐加熱変色性及びエッチング性に優れたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、該銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆し、且つ、Au、Pt及びPdのいずれか1種以上を含む被覆層とを備え、被覆層は、Au、Pt及びPdのいずれか1種以上の貴金属粒子と、貴金属粒子を覆うシランカップリング剤とで構成される。 (もっと読む)


【課題】 経済性の高い湿式法により、ポリイミド上に金属導体層を積層した2層FCCLを製造する方法を提供すること。
【解決手段】 アルカリ改質処理、触媒付与処理および無電解めっきよりなるポリイミドの金属化方法において、アルカリ改質処理の前、アルカリ改質処理と触媒付与処理の間、触媒付与処理と無電解めっきの間のいずれかの段階において、被処理ポリイミドを酸性フッ化物溶液で処理することを特徴とする金属皮膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】 金属箔と基材との接着性に優れ、高温長時間での使用でも接着力が低下せず、柔軟性と、耐熱性に優れ、しかも、製造にあたっては作業能率がよく低コストで大量生産ができるフレキシブルプリント基板、及び補強フレキシブルプリント基板を提供する。
【解決手段】 絶縁性の基材11と、粘接着層13及び金属箔31とが積層されてなり、粘接着層13がアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、及び硬化剤を含むことを特徴とし、また粘接着層13がアクリル系樹脂とエポキシ系樹脂とが海島構造であり、さらに前記アクリル系樹脂がEA−BA−ANをもつモノマーをラジカル重合してなるアクリル酸エステル共重合体で、前記エポキシ系樹脂がNBR変性エポキシ樹脂と、bis−A型エポキシ樹脂からなり、前記硬化剤がジシアンジアミド系の化合物であることも特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 金属層表面に微小な凹みが無い銅被覆ポリイミドフィルム基板の製造方法を提供し、金属層表面の凹みや配線パターニング時に欠陥を減少させる。
【解決手段】 ポリイミドフィルムを1級アミド化合物及びポリアルキレングリコールを含有する水溶液に浸漬させて洗浄する。洗浄するタイミングは、導体となる銅層を形成する前であれば、乾式法で1次金属層を形成する前でも良く、後でも良い。乾式法で1次金属層を形成する前後の2回処理することも有効である。 (もっと読む)



【課題】無電解めっき技術で金属パターンを形成する方法において基板との密着性が優れ、且つ細線描画性の優れた金属パターン形成方法とそれを用いて形成された金属パターンを提供することである。
【解決手段】基板の上に、触媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字、乾燥し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する方法において、該触媒が可溶性パラジウム金属錯体でかつ該触媒を含有するインクpHが10.0〜14.0であり、前記無電解めっき処理前の印字パターン部の表面粗さRaが30nm以上45nm以下であることを特徴とする金属パターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】ワークの裏面の擦り傷を防止し、また、静電気の発生を抑制する吸着装置および液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】平坦面10aを有しワークを吸着する吸着穴11が設けられたステージ10と、ステージ10の吸着穴11に接続され負圧を発生させる減圧ポンプ15と、環状の無終端となる多孔質ベルト21が駆動ローラー25と従動ローラー26とに掛け渡されたベルト駆動装置20と、を備え、駆動ローラー25と従動ローラー26との間にステージ10が配置され、ワークの搬送方向と同じ方向に多孔質ベルト21が駆動可能であり、多孔質ベルト21がステージ10に吸着され、多孔質ベルト21を介してワークがステージ10に吸着される。 (もっと読む)


【課題】焼成後の銀膜の微細化及び作業性の向上を図る。
【解決手段】インクジェットヘッド1から吐出された液滴状のインク2が飛翔中、または基板3に着弾した直後にレーザー光4を液滴状のインク2に照射して液滴状のインク2中の金属ナノ粒子及び/又は金属酸化物ナノ粒子と隣接する粒子同士を結合させ、液滴状のインク2は、組成の異なる金属ナノ粒子及び/又は金属酸化物ナノ粒子を含み、その一部の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子を肥大化させることで、基板3上に印刷されたインクは元々含まれていた微小径の金属ナノ粒子及び/又は金属酸化物ナノ粒子と肥大化した金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子とが混在した状態にする。 (もっと読む)


【課題】焼成後の金属又は金属酸化膜の微細化、及び作業性の向上。
【解決手段】ヘッド1から吐出された液滴状のインク2が飛翔中、または基板3に着弾した直後にレーザー光4を照射して液滴状のインク中の金属ナノ粒子を隣接する粒子同士を結合させ、一部の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子を肥大化させることで、基板上に印刷されたインクは元々含まれていた微小径の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子と肥大化した金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子とが混在した状態にする。 (もっと読む)


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