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Fターム[5E343GG18]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 目的、効果 (6,348) | はんだ付け性の改良 (127)

Fターム[5E343GG18]に分類される特許

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【課題】接続端子間の短絡を防止するとともに、接続端子の狭ピッチ化に対応できる配線基板を提供する。
【解決手段】本発明に係る配線基板は、絶縁層と配線層とが交互に積層された配線基板であって、最外層の絶縁層上に、互いに離間して形成された複数の配線導体と、前記複数の配線導体における各配線導体上の一部にそれぞれ形成され、半導体チップの電極と接続される凸部と、上面視で前記複数の配線導体を取り囲む位置に開口縁を有する開口が形成され、前記複数の配線導体と接続されてなる配線パターンを覆うソルダーレジスト層と、前記凸部の少なくとも一部が露出するように、前記開口の内側領域となる前記絶縁層の表面側を覆う絶縁部材と、を備える。 (もっと読む)


【課題】部品との接続に適した突起電極を備えることにより、信頼性を向上させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板101は、基板主面102上の電極形成領域内に複数の突起電極11が配置された構造を有する。複数の突起電極11のうち少なくとも1つは、上面12に凹み部13を有し、上端における外径A1が下端における外径A2よりも大きく設定され、全体として断面逆台形状をなしている異形突起電極11である。 (もっと読む)


【課題】支持板の上に接続パッドを含む配線層を形成し、支持板を除去して接続パッドを露出させる方法で製造される配線基板において、半導体チップを信頼性よく接続できるようにすること。
【解決手段】絶縁層30と、上面が絶縁層30から露出し、下面と、側面の少なくとも一部とが絶縁層30に接触して埋設された接続パッドPと、接続パッドPの外側周辺部の絶縁層30に形成された凹状段差部Cとを含む。接続パッドPの上面と絶縁層30の上面とが同一の高さに配置される。 (もっと読む)


【課題】積層される半導体チップの個数を増加させて高機能化を果たすとともに、薄板化の要求を満すことができるだけでなく、キャビティの内部下面を平坦化してキャビティに挿入される半導体チップを容易に整列できるようにする効果を有し、多数の半導体チップを同時に収容することができ、容易に高機能化を果たすことができるプリント回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施例によるプリント回路基板100は、第1絶縁材110a及び第1絶縁材110a上に形成された第2絶縁材110bを含む絶縁層110と、絶縁層110の内層及び外層に形成された回路パターン120と、第1絶縁材110a又は第2絶縁材110bに複数個形成された半導体チップ挿入用キャビティ140と、を含む。 (もっと読む)


【課題】製造途中の配線基板表面に印刷を行なう際に、配線基板の反りを抑えつつ印刷工程の効率を向上させる。
【解決手段】配線基板の製造方法は、(a)複数の配線基板形成板と、複数の配線基板形成板を保持可能な枠体部とを用意する工程と、(b)枠体部に複数の配線基板形成板を配置する工程と、(c)押圧部で各々の前記配線基板形成板を押圧すると共に、搬送治具を枠体部に取り付ける工程と、(d)枠体部に取り付けた搬送治具を印刷テーブル上に搬送する工程と、(e)印刷テーブルと各々の配線基板形成板との間に陰圧を発生させることによって、配線基板形成板を印刷テーブル上に吸着させる工程と、(f)搬送治具を枠体部から取り外す工程と、(g)枠体部に取り付けられた状態で印刷テーブル上に吸着された各々の配線基板形成板に対して印刷を行なう工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】コストの安い絶縁回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電気絶縁板の一面に導電材料製回路板6がろう付され、回路板6における電気絶縁板にろう付された面とは反対側の面が電子素子搭載部を有する配線面となされており、電気絶縁板が回路板よりも大きく、かつ電気絶縁板の輪郭が回路板の輪郭よりも外側に位置している絶縁回路基板を製造する方法である。電気絶縁板と回路板6とを、両者間に、別個に形成された厚さが15〜50μmのろう材箔17が存在するように積層する。ろう材箔17層の輪郭の全体を回路板6の輪郭よりも内側に位置させ、この状態で電気絶縁板、回路板6およびろう材箔17を加熱し、ろう材箔17から溶け出したろう材を用いて電気絶縁板と回路板6とをろう付する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、印刷回路基板の表面処理方法及びその方法により製造された表面処理層を含む印刷回路基板に関する。
【解決手段】本発明による印刷回路基板の表面処理方法は、印刷回路基板の表面をプラズマ処理する段階と、前記プラズマ処理された基板に有機半田付け性保存剤を処理する段階と、前記有機半田付け性保存剤が処理された基板を熱処理する段階と、前記熱処理された基板に半田ペーストを印刷する段階と、前記半田ペーストが印刷された基板をリフローして、前記半田ペーストを固定する段階と、前記基板をデフラックス洗浄する段階と、を含むことを特徴とする。
本発明のように、有機半田付け性保存剤を処理した後、一定の条件で熱処理することにより、銅の酸化による変色問題を解決することができる。従って、従来の製品に比べ、多様なマルチ−リフロー仕様に対応することができる効果を有する。 (もっと読む)


【課題】導電ペーストで構成された導電性パターンを有する回路基板の製造方法において、使用する導電ペーストの選択肢があまり制約されない上、導電性が良好な導電性パターンを有し、被接合部材を電気的に接合させる際に、各種接合方法を適用することができる回路基板の製造方法。
【解決手段】(1)基板上に、1または2以上の電極部を設置する工程であって、前記電極部は、被接合部材との間で、ハンダ付けによる接合および/またはワイヤボンディングによる接合が可能である、工程と、(2)前記基板上に、第1の導電ペーストを印刷して、前記電極部と電気的に接続された配線パターンを形成する工程であって、前記第1の導電ペーストは、ハンダ付けのできない導電ペーストである工程と、(3)前記配線パターンを固化して、配線部を形成する工程と、を有する回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】電極パッドの表面の突出部に起因する不具合が発生し難い半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、表面の突出部に突出部、例えば、プロービング痕21が存在する電極パッド2を備える基板1上に、電極パッド2の少なくとも一部を覆う第1の絶縁膜4を形成する第1の絶縁膜形成工程と、第1の絶縁膜4の表面から突起した部分22を除去することができる処理を行う除去処理工程と、除去処理工程後に、第1の絶縁膜4上及び電極パッド2上に第2の絶縁膜5を形成する第2の絶縁膜形成工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】表面パッド層の接着性を向上した多層基板を提供する。
【解決手段】多層基板の表面処理層の構造は、パッド層301と、少なくとも一つの被覆金属層302,303と、はんだマスク層304とを含む。パッド層は誘電層に埋め込まれる。少なくとも一つの被覆金属層はパッド層を被覆する。はんだマスク層は少なくとも一つの被覆金属層を露出する開孔を有する。本発明は、まず被覆金属層をパッド層表面に形成した後、はんだマスク層を形成する。その後、被覆金属層の位置に対してはんだマスク層を開孔して、被覆金属層を露出する。パッド層は誘電層に埋め込まれるため、パッド層と誘電層との間の付着力を増加することができる。同時に、はんだマスク層が被覆金属層の一部を覆うため、パッケージする時スズ材または他の半田とパッド層との接触を避けることができる。 (もっと読む)


【課題】Cuからなる電極を備えた配線基板において、はんだを構成する金属成分によらず、前記電極上に本発明にかかる表面処理を施すことで、前記電極とはんだ接合界面において、はんだ接合信頼性の高い電極を具備した配線基板を提供する。
【解決手段】Cuからなる電極を有する配線基板の電極上へはんだが加熱接合され、電極とはんだとの接合界面が、電極上の表面処理によりCu、Ni、Sn、Pdを含む金属間化合物層が形成されてなり、表面処理が、ピンホールを有する置換Snめっき皮膜と、無電解Niめっき皮膜と、無電解Pdめっき皮膜と、無電解Auめっき皮膜とをCuからなる電極上に順次積層したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐落下衝撃性の低下を抑制しつつも、パッド表面の酸化等を抑制することのできる配線基板及び配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板は、配線層21と絶縁層20が積層され、配線層21に接続され且つ最外層の第1絶縁層20の第1主面20Aから露出されるパッドP1が形成されている。このパッドP1は、第1絶縁層20の第1主面20Aから露出されるAu層(第1金属層11)と、第1金属層11に積層されたPd層(第2金属層12)と、第2金属層12と配線層21との間に形成されたCu層(第3金属層13)とからなる3層構造を有している。また、第1金属層11の第1主面11Aは、凹凸の極めて少ない平滑面に形成されている。 (もっと読む)


【課題】基板等の回路にかかる力を緩和する能力を有する導電性微粒子、及び、基板間の距離を一定に維持する方法を提供する。
【解決手段】樹脂からなる基材微粒子の表面が1層以上の金属層に覆われてなる導電性微粒子であって、前記金属層の全ての層の熱膨張率がそれぞれ1×10−5〜3×10−5(1/K)であり、かつ、各金属層と前記基材微粒子との熱膨張率の比(基材微粒子の熱膨張率/金属層の熱膨張率)がそれぞれ0.1〜10である導電性微粒子。 (もっと読む)


【課題】導体層及び樹脂絶縁層が交互に積層されてなるビルドアップ層と、少なくとも1層の樹脂絶縁層の表面上において、表面から突出して形成された導電性パッドと、導電性パッドの上面において形成されたはんだ層とを備える多層配線基板において、導電性パッドへの応力集中を抑制し、半導体素子との接続不良及び導電性パッドの破損を抑制する。
【解決手段】導体層及び樹脂絶縁層が交互に積層されてなるビルドアップ層と、前記樹脂絶縁層の表面から突出して形成され、下部に位置する円柱部及び上部に位置する凸部からなる導電性パッドと、を備え、前記導電性パッドの前記凸部の表面は、連続した曲面形状であるようにして多層配線基板を構成する。 (もっと読む)


【課題】製造が効率的で、アンテナと無線IC素子との接続信頼性の高い無線通信デバイスの製造方法を得る。
【解決手段】基材シート10に金属材を含む導電性インクによってアンテナ用パターン21及び接合用パターン25を形成するパターン形成工程と、接合用パターン25に無線IC素子30を搭載した状態で、アンテナ用パターン21及び接合用パターン25を熱処理して金属化するとともに、無線IC素子30の端子電極31,32と接合用パターン25とを一体化する熱処理工程とを備えた無線通信デバイスの製造方法。パターン形成工程では、接合用パターン25の厚みをアンテナ用パターン21の厚みよりも大きく形成する。 (もっと読む)


【課題】 小型軽量のチップコンデンサを確実に実装できる多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】 チップコンデンサを搭載するためのパッド58up、58umは、レーザにより形成される開口151uにより露出される。即ち、形状性に優れるレーザにより開口を形成することでパッドの形状が略同一になる。従って、チップコンデンサのプラス端子に接続するパッド58upと、チップコンデンサのマイナス端子に接続するパッド58umとで、半田量及び半田濡れ性が略同等になる。このため、マンハッタン現象が生じ難い。 (もっと読む)


【課題】放熱特性に優れた回路実装を低コストで実現できる電気回路基板の製造方法、を提供する。
【解決手段】セラミックス基板1に、第一半田材料を超音波半田付けすることにより半田パターン2を形成する第一工程と、第一半田付け工程で形成された半田パターン2上に、第一半田材料とは組成が異なる第二半田材料の半田ペースト層3を形成する第二工程と、半田ペースト層3の上に電気回路部品4を配置する第三工程と、第一半田材料の融点又は液相線温度より低く、且つ第二半田材料の融点又は液相線温度より高い設定温度によって電気回路部品を半田付けする第四工程と、を有して電気回路基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】セラミックス回路基板に接合した金属板の表面に形成されためっきの表面の半田濡れ性を安価に向上させることができる、金属−セラミックス回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス基板10に接合した金属板12の表面に、P含有量が6.80〜8.50質量%であるとともに表面粗さRzが4.6μm以下であり、好ましくは表面の酸化物層の厚さが10nm以下のNi−P合金めっき16を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基板反り矯正手段を用いて、プリント基板の反り矯正だけでなく、複数枚のプリント基板の供給を検出できる信頼性の高いスクリーン印刷機またはスクリーン印刷方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、プリント基板を基板支持ユニットに載置し、反り矯正体を前記載置されたプリント基板を上から下降し押圧して前記プリント基板の反りを矯正し、その後、前記プリント基板にスクリーンの有する印刷パターンを印刷するスクリーン印刷装置または印刷方法において、前記反り矯正体を下降させる駆動源の前記押圧時における所定以上の過負荷を検出し、前記検出結果に基づいて前記基板支持ユニットに重なっている複数枚の前記プリント基板が供給されたと判断することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コア層の少なくとも一方の主面上において導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されるとともに、最表面にソルダーレジスト層が形成されてなる、いわゆるBGAタイプの配線基板において、導体層と半田ボールとの密着性を改善した新規な配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】コア層の少なくとも一方の主面上において導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されるとともに、最表面にソルダーレジスト層が形成され、このソルダーレジスト層に形成された開口部から前記少なくとも1層の導体層が露出してなる配線基板を準備する。次いで、前記少なくとも1層の導体層上にSnを含む下地層をメッキにより形成し、さらに前記下地層を加熱して溶融させた後、溶融した前記下地層上に半田ボールを搭載し、この半田ボールを前記下地層と直接接続する。 (もっと読む)


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