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Fターム[5E346FF03]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 導体層間接続の方法 (9,115) | 孔あけによるもの(スルーホール等) (5,634) | 前処理 (215) | スミア処理のもの (175)

Fターム[5E346FF03]に分類される特許

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【課題】PoPを構成する場合において、組み合わせるパッケージの自由度が大きく、パターン設計上の制約も小さく、トップパッケージとボトムパッケージ間の接続を高密度で行うことが可能であって、しかも反りを低減し、信頼性の優れた半導体素子搭載用パッケージ基板とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】開口及び貫通孔を有する接着剤付のキャビティ層と、前記接着剤によって前記キャビティ層に積層されたベース層と、前記開口によって形成されたキャビティ部と、前記貫通孔によって形成された有底ビアと、を有する半導体パッケージ基板において、前記接着剤がエラストマー材であり、前記有底ビアの内壁が金属被覆され、その上に導電樹脂が充填される半導体パッケージ基板とその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】多層回路基板の製造における、絶縁樹脂膜へのレーザ照射によるビアホール開口部形成の際、前記開口部底面に生じる樹脂残渣であるスミアの除去を、絶縁樹脂膜上に高密度導電膜パターン形成可能の様に実施する。
【解決手段】絶縁基板上の導電膜(パターン)上の所定位置に、樹脂膜に対して密着性を低下させるダミー膜パターンを形成し、その上に絶縁樹脂膜、更にその上に保護膜を積層し、前記所定位置においてレーザ照射を行い絶縁樹脂膜にビアホール開口部を形成するようにする。こうすることで、短時間のプラズマ処理によるスミア除去が可能で、絶縁樹脂表面の粗面化を回避でき、その結果、高密度で高アスペクト比の導電回路パターン(電気銅めっきパターン)を容易に形成でき、これの適用で、ビルドアップ法による高密度な導電回路パターンを有する多層回路基板の製造を可能にする。 (もっと読む)


【課題】高容量でかつ絶縁抵抗が確保されたコンデンサ装置を製造することのできるコンデンサ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】積層された複数のコンデンサ350a、350b、350cから構成されるコンデンサ積層体450に貫通孔470P、470Gを形成する貫通孔形成工程と、貫通孔形成工程の後、貫通孔470P、470Gに、乾式のデスミア処理を施すデスミア工程と、デスミア工程の後、貫通孔470P、470Gに、乾式法によりシードメタルを形成するシードメタル形成工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】塩素原子・臭素原子を含有する重合体や難燃剤などを含まない硬化性樹脂組成物を用いた場合であっても、優れた難燃性を示し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れる多層プリント回路基板用フィルムを提供する。
【解決手段】難燃性有機高分子材料フィルムからなる中間層と、この中間層の両面側に積層され、官能基を有する脂環式オレフィン重合体および硬化剤を含んでなる硬化性樹脂組成物により形成された第1外層および第2外層と、からなる多層プリント回路基板用フィルムであって、中間層の厚さ(t)が3〜24μmであり、第1外層の厚さ(tO1)が1〜20μmであり、第2外層の厚さ(tO2)が6〜20μmであり、第1外層および第2外層の厚さの和と中間層の厚さとの比((tO1+tO2)/t)が0.5〜3であることを特徴とする多層プリント回路基板用フィルム。 (もっと読む)


【課題】片面が平滑なシャイニー面であり他の片面が粗面化したマット面である電解銅箔と、前記マット面を底部としたIVHとを有する多層プリント配線板において、このマット面を底部として多層プリント配線板に、レーザー加工によりIVH(インターステイシャルビアホール)を形成したときに、このマット面の銅箔上の非有機系被膜分解物によるレーザー加工残差がめっき被着面に発生しやすい。そのため、IVHの底面とそれと接するマット面の間で接続不良を発生しやすい。
本発明は、この銅マット面を底部としたIVH内の、レーザー加工残差や汚れを容易に除去し、IVHの底面とそれと接するマット面の間で発生する接続不良を改善する。
【解決手段】 マット面を底部としたIVHを形成する前に、その底部部分の電解銅箔を平均表面粗さ3μmまたはそれ以下に減少するようにハーフエッチングする。 (もっと読む)


【課題】多層配線板のセミアディチィブ製造工程において無電解めっき触媒として絶縁層に析出させるパラジウム金属の安定した除去を実現させ、絶縁信頼性に優れた多層配線板の製造方法を提供するものである。
【解決手段】第一導体回路に絶縁層を形成する工程(A)、前記絶縁層に第二導体回路を無電解めっきと電解めっきにて形成する工程(B)を含む多層配線板の製造方法であって、第一導体回路に絶縁層を形成する工程(A)が、(A1)第一導体回路に絶縁層を貼り付ける工程、(A2)絶縁層の表面を粗化した後に絶縁層を硬化する工程、を含み、前記絶縁層に第二導体回路を無電解めっきと電解めっきにて形成する工程(B)が、(B1)無電解めっき時にパラジウム金属を絶縁層に析出させる工程、(B2)第二導体回路を形成する工程、(B3)第二導体回路を形成後に析出させたパラジウム金属を除去する工程を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、微細配線が形成されるような多層プリント配線板においても絶縁信頼性が高く、信号応答性に優れた多層プリント配線板の製造方法およびその方法で得られた多層プリント配線板および半導体装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の多層プリント配線板の製造方法は、基板の少なくとも一方の面側に、熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物で構成される絶縁層を積層してなる多層プリント配線板の製造方法であって、基板の少なくとも一方の面側にキャリア層付き絶縁層を加熱しながら積層して積層体を得る積層工程と、前記積層体の所定の部分にレーザを照射して、キャリア層および絶縁層を貫通する孔を形成する穿孔工程と、前記孔の内面に対してデスミア処理するデスミア工程と、前記デスミア工程後に、前記積層体から前記キャリア層を剥離する剥離工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】金属板をエッチング除去することを要しない配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】キャリア板10aの一面側に剥離層を介して金属箔10bが設けられたキャリア付金属箔10を用い、金属箔10b側に、金属箔10bよりも厚い金属層14を絶縁層12を介して積層した後、金属層14にパターニングを施して第1導体パターン18を形成し、次いで、第1導体パターン18と絶縁層12を介して金属箔10bが対向するように、第1導体パターン18側にキャリア付金属箔10を配設した後、第1導体パターン18を挟み込むように配設したキャリア付金属箔10,10の各キャリア板10aを剥離して、第1導体パターン18の両面側に絶縁層12を介して金属箔10b、10bを具備する基板20を形成し、その後、両面側に形成された金属箔10b、10bから、第1導体パターン18と絶縁層12を貫通するヴィア24を介して電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】半導体チップ実装基板、マザーボード、プローブカード用基板などに適用され得る多層配線基板に関し、重量や厚さを増やすことなく、適切に低熱膨張率化を図ることのできる多層配線基板を提供する。
【解決手段】
磁性材料を含む導体層11と、前記導体層11の少なくとも一方の表面に形成され、導電粒子を含む絶縁樹脂層12とを有する多層配線基板。絶縁樹脂層12は金属材料よりも比重を小さくできるため、コア基板を軽量化することができ、ひいては多層配線基板を軽量化することができる。 (もっと読む)


【課題】配線密着強度を改善し、微細配線の確実な形成を実現すること。
【解決手段】ベース基材11上に設けられた樹脂層15上に犠牲導体層CPを形成後、配線パターンの形状に応じてパターニングされた開口部を有するドライフィルムレジスト層R1を形成し、上記開口部から露出している犠牲導体層CPの部分を除去後、樹脂層15の露出している部分に溝15aを形成する。次いで、溝15aの壁面及び底面を含めて樹脂層15上に、無電解めっきにより第1の導体層17を形成し、さらに溝内に、電解めっきにより第2の導体層18を形成する。そして、ドライフィルムレジスト層R1及び犠牲導体層CPが露出した残りの部分を除去する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アディティブ法の多層配線板の製造方法における、部品実装のリフロー工程などの熱履歴による多層配線板の膨れの緩和およびレーザービア加工性向上による歩留まりの低下を抑制することである。
【解決手段】導体回路と絶縁性樹脂層を組合せてなる多層配線板の製造方法であって、少なくとも、(1)導体回路が形成された回路基板の導体回路面とキャリアフィルム付き絶縁性樹脂シートの絶縁性樹脂面とが対峙するように張り合わせて熱圧着する工程、(2)該キャリアフィルム付き絶縁性樹脂シートのキャリアフィルムをつけたままで熱処理し、絶縁性樹脂の硬化度を80%以上95%以下とする工程、(3)絶縁性樹脂にレーザー照射することによりビアホールを形成する工程、(4)その後、さらに熱処理を行うことにより絶縁性樹脂を硬化する工程、を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】応力の発生を抑制することができるプリント配線板を提供する。
【解決手段】プリント配線板11は、炭素繊維を含み、単体で形状を維持する剛性を有するコア基板12を備える。コア基板12上にはビルドアップ層26、27が形成される。ビルドアップ基板26、27は、順番に積み重ねられ、単体で形状を維持する剛性をコア基板12に依存する絶縁層28および導電性配線層29を有する。絶縁層28は、繊維37と、繊維37に含浸する樹脂材料とで形成される。ビルドアップ層26、27では繊維37に基づき熱膨張率は低く抑えられる。コア基板12では炭素繊維に基づき熱膨張率は低く抑えられる。したがって、ビルドアップ層26、27の熱膨張率はコア基板12の熱膨張率に合わせ込まれる。プリント配線板11内で応力の発生は抑制される。ビルドアップ層26、27内でクラックの発生は回避される。導電性配線層29の断線は回避される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的信頼性の優れた配線基板及びその製造方法、並びに実装構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】同種の樹脂材料からなる一層の絶縁層7と、絶縁層7に埋設されており、上部よりも下部が幅狭な第1導体部10aと、第1導体部10aの直下に形成され、第1導体部10aと接続されるとともに、下端幅が第1導体部10aの幅よりも幅広な第2導体部10bとから成るビア導体10を備えたことを特徴とする配線基板。 (もっと読む)


【課題】回路基板内部に放熱層を選択的に介在することにより、高放熱効果及び曲げ剛性を有することができ、放熱層と回路パターンとの間に信頼性の高い電気的な接続を実現して放熱効果を高めることができ、かつ放熱層を電源層またはグラウンド層として利用することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による印刷回路基板の製造方法は、表面に回路パターンが形成された複数の絶縁層の間に放熱層が選択的に介在されるように複数の絶縁層を積層して回路基板を形成するステップと、回路基板の一面及び他面を貫通する貫通孔を形成するステップと、貫通孔の内壁にCuダイレクトメッキでシード層を形成するステップと、シード層を電極として電解メッキを行って貫通孔の内壁にメッキ層を形成するステップと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】穴あけ後の絶縁層の表面残渣を少なくし、絶縁層の表面を平滑に形成するプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】コア基板4、基材31と熱硬化性樹脂32とを含むプリプレグ3及び保護シート2をこの順となるように重ねる。その際、好ましくは、コア基板4を重ねるよりも前に、プリプレグ3と保護シート2とを重ねて接着シート5を形成しておく。次に、重ねられたコア基板4、プリプレグ3及び保護シート2をラミネートする。そして、加熱によりプリプレグ3を硬化させてコア基板4と一体化した絶縁層6を形成する。その後、保護シート2を貫通させて絶縁層6に穴あけを行う。そして、保護シート2を絶縁層6から剥離する。さらに、外層回路7をセミアディティブ法等で形成することによりプリント配線板1を得る。 (もっと読む)


【課題】多層回路基板のバイアホール径(トップ径とボトム径の差)を極力小さくして配線面積の低下を防ぐとともに微細配線の形成も可能で、かつ信頼性の高い多層回路基板の製造方法及びこれから得られる多層回路基板、半導体チップ搭載基板、並びにその基板を用いた半導体パッケージを提供する。
【解決手段】本発明は、絶縁層上に1種類以上の金属層を有する第1の金属層を形成する工程を含む多層回路基板の製造方法であって、前記第1の金属層と絶縁層に開口を形成する工程、前記開口内部をデスミア処理する工程、前記開口部及び前記第1の金属層上を無電解銅めっきによる第2の金属層をさらに形成する工程を順次行うことを特徴とする多層回路基板の製造方法である。また、上記製法から得られる多層回路基板、半導体チップ搭載基板、並びにその基板を用いた半導体パッケージである。 (もっと読む)


【課題】反りを防止して製品の歩留まりを向上させることができる多層配線基板の中間製品を提供すること。
【解決手段】多層配線基板の中間製品11は、複数の樹脂絶縁層を積層した構造を有する。中間製品11は、製品部27が平面方向に沿って複数配置された製品形成領域28と、製品形成領域28の周囲を取り囲む枠部29とからなる。製品部27内の領域における樹脂絶縁層上には製品部側導体層が形成され、枠部29内の領域における樹脂絶縁層上に枠部側導体層54が形成される。枠部29内の領域における樹脂絶縁層上には、枠部側導体層54が存在しない複数の非形成領域61が配置される。これにより、製品形成領域28に占める製品部側導体層の面積率と枠部29に占める枠部側導体層54の面積率とが同一になる。 (もっと読む)


【課題】微細化に伴うパターニング不良を回避しながら、配線と絶縁樹脂膜との間の密着強度を高めることができる多層回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】回路3上に、少なくとも片面に密着材5が設けられた箔6を、密着材5を支持基板1側に向けて、絶縁樹脂膜4を介して貼り付ける。箔6としては銅箔等を用い、密着材5としてはクロメート処理により生成した膜を用いる。その後、開口部6aを形成し、更に、ビアホール7を形成する。このとき、必然的にビアホール7の底にスミアが生じるため、その後、スミアを除去する。次に、銅と反応して撥水性を示す物質を含む溶液を用いて銅を含む回路3の表面処理を行うことにより、回路3の表面に、撥水性を示す保護部9を設ける。次に、回路3上の保護部9を残したまま、箔6上の保護部9を除去し、更に、箔6も除去する。そして、回路3上の保護部9を除去し、ビアホール7内及び密着材5上に配線を形成する。 (もっと読む)


【課題】複数の半導体素子が埋め込まれるプリント配線基板において、反りを抑制することである。
【解決手段】プリント配線基板10であって、絶縁樹脂板20aと導体回路22aと複数の貫通電極23a、24aとを有する配線部材12aと、半導体素子30aと再配線層32aとを有する半導体部材14aと、絶縁樹脂基材16aと、を含む配線部18aと、絶縁樹脂板20bと導体回路22bと複数の貫通電極23b、24bとを有する配線部材12bと、半導体素子30bと再配線層32bとを有する半導体部材14bと、絶縁樹脂基材16bと、を含む配線部18bとを備え、絶縁樹脂シート42と、貫通電極24aと貫通電極24bとに接続される導電層44と、を有する接続部材40を含み、配線部18aと配線部18bとは、半導体素子30aと半導体素子30bとの素子回路面と反対側の素子基板面を各々対向させて設けられる。 (もっと読む)


【課題】回路の密度を上げるための高密度回路基板及びその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の高密度回路基板は、上下部内側に微細回路パターンが埋め込まれた基板と、前記基板の上下部の微細回路パターンが互いに電気的に導通するように、前記基板の内部に設けられたビアと、前記基板の上部の微細回路パターン上に設けられたパッドと、前記基板の上下部上に設けられたソルダーレジストとを含む。これによって、回路パターンを微細ピッチ化すると共に、該基板と該回路パターンとの密着度を増加させて信頼性を向上することができる。 (もっと読む)


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