【課題】 本発明は、ガラス基板やフィルム基板等の基板どうしを貼り合わせる際に、両基板の間隔が不均一にならず、液晶表示のコントラストが不均一になる等の問題が生じにくい粘着チャック装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 粘着チャック装置１は、図１（ａ）、（ｂ）に示すように、ベース部材１１上に、粘着部材１２を有する。ベース部材１１には貫通孔１３を複数有し、該貫通孔１３は後述するように、ガラス基板やフィルム基板等の基板を粘着部材１２から剥離する際に使用する気体等を供給するためのものである。実施形態においては、粘着部材１２は凹部１４を有し、上記剥離する際に使用する気体等が供給しやすいようになっている。基板を保持する前記粘着部材１２が伸縮する。前記粘着部材１２は、粘着部と非粘着部を有し、ウレタンゲルを含むことが好ましい。また、前記粘着部材１２内に押圧部材を有することが好ましい。 （もっと読む）

基板支持構造体（１３）が、周囲環境よりも低い圧力を有する液体のクランプ層（１１）によって創られた毛細管力によって基盤（１２）をクランプする。前記基板支持構造体は、基板を保持するための複数の基板支持要素（１７）が設けられた表面（１６）を有し、この表面は液体のクランプ層の範囲内に所定の毛細管流動を誘発するための異なる毛細管ポテンシャルを有する複数の部分（５１、５２；８３）をさらに有する。
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【課題】基板とクランプ準備ユニットをクランプする方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板支持構造体（２３）の表面に基板（２２）をクランプする方法に関する。最初に、基板支持構造体の表面上に液体が塗布される。表面には、複数の接触要素が設けられている。液体は、接触要素が液体層によって完全に覆われるように塗布される。それから、基板が、液体層上に提供され配置される。最後に、基板が複数の接触要素にもたれ、基板と基板支持構造体の表面との間の液体の毛細管層によって及ぼされる毛細管クランプ力によってクランプされるように、基板の下の液体が除去される。 （もっと読む）

【課題】 狭持に基づく基板の歪みを低減する基板ホルダーを提供する。
【解決手段】 ホルダー本体１の凹部に設けられたプレート５の三箇所に、それぞれ、バネ９ａ，９ｂ，９ｃの弾性力によりガラス乾板１０を押し上げる為のピン６０ａ，６０ｂ，６０ｃとピン支持体６１ａ，６１ｂ，６１ｃが設けられている。ピン支持体６１ａ，６１ｂ，６１ｃの各ピン支持部は筒状に成してあり、ピン支持体６１ａ，６１ｂ，６１ｃの各筒状部と各ピン６０ａ，６０ｂ，６０ｃの下方側面それぞれとの間にオーリング６２ａ，６２ｂ，６２ｃが挿入されており、ピン６０ａ，６０ｂ，６０ｃがそれぞれピン支持体支持体６１ａ，６１ｂ，６１ｃ上で回転可能に成してある。 （もっと読む）

【課題】複数の発光源を有する発光手段において、その一部の発光源の照度が照度したり、発光しなくなったりしても、他の発光手段からの光で補填できるようにし、光反応型の接着剤層の部分的な未反応を回避することのできる発光装置及び光照射方法を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハＷに貼付された光反応型の接着剤層を有する接着シートＳに光を照射する光照射装置１０であって、前記半導体ウエハＷを支持するテーブル１１と、このテーブル１１の上方に配置された複数の発光ダイオード１６を有する発光手段１２と、当該発光手段１２から発せられる光を拡散させて接着シートＳに照射する拡散手段１３とを備えて構成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの金属汚染を防止し、かつ半導体ウェーハの内外において損傷を防止する。
【解決手段】気相成長装置１００は、加熱した半導体ウェーハ１を金属製の円板状の冷却プレート１１に近接して、半導体ウェーハ１を冷却する冷却チャンバ１０を備える。冷却チャンバ１０は、冷却プレート１１に取り付けて、半導体ウェーハ１の周縁を周方向に間隔をあけて支持する複数の支持部材１３を備える。支持部材１３は、半導体ウェーハ１が載置される円弧状の頂部が冷却プレート１１の中心に向かう支持面１３１と、支持面１３１から突出して半導体ウェーハ１の外周を部分的に囲う段差１３２を有する。円弧状の頂部は、半導体ウェーハ１が冷却プレート１１に接触しない所定の高さを設けると共に、冷却プレート１１の中心に向かって下り傾斜している。 （もっと読む）

【課題】基板支持装置の提供をする。
【解決手段】下部電極（２０）を間に置いてその両側に備えられる１対のフレーム（３１ａ，３１ｂ）と、フレーム（３１ａ，３１ｂ）の上面から突出した複数のシャフト（３２ａ，３２ｂ）と、下部電極（２０）の両側に備えられたシャフト（３２ａ，３２ｂ）に両端部が連結されるワイヤー（３３）と、フレーム（３１ａ，３１ｂ）を昇降させる昇降手段と、を含む。また、第１及び第２シャフトを昇降させる昇降手段をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】永電磁石を有するキャリヤの状態を検知することにより確実な基板操作可能な基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、磁性材料を含むマスク２００を基板３００を介して磁気吸引することによりマスクおよび基板を保持するキャリヤと、永電磁石１０１から出る磁界を検知する磁気センサ１８０によりキャリヤの状態を検知する検知部１８５とを備える。キャリヤは、永電磁石を含み、永電磁石は、極性が可変の極性可変磁石と、極性可変磁石の極性を変更するための磁界を発生するコイルと、極性が固定された極性固定磁石とを含み、キャリヤの状態は、コイルが発生する磁界によって極性可変磁石の極性を制御することによって、極性可変磁石および極性固定磁石が発生する磁界によってマスクおよび基板を保持する第１状態と、マスクおよび基板を保持しない第２状態とのいずれかに設定される。 （もっと読む）

【課題】
迅速かつ安定して吸着対象物を吸着することができる動作弁を提供する。
【解決手段】
本発明の動作弁は、基板を真空吸着するための差圧動作弁１００であって、外部から内部へ空気を吸引する吸引側に対向し、内部から外部へ空気を排出する排出側に設けられた開口部を有するボディ４と、弁８、一端がボディ４の吸引側に接続され、他端が弁８に接続されたばね９とを備え、ばね９は、吸引側と排出側における差圧に応じて伸縮する。 （もっと読む）

ウエハを支持デバイス（１７）から分離する分離方法において、ウエハは接着剤によって支持デバイス（１７）に固着されたウエハブロック（４０）を切断して形成され、ウエハ自体はその一側において支持デバイス（１７）に依然として接着されており、ウエハを伴う支持デバイス（１７）は、一定の運動面に沿って接着剤除去デバイス（４７）へと駆動される。支持デバイスは接着剤除去デバイス（４７）内に留まるとともに、接着剤除去容器（５５，５５ａ，５５ｂ）において可動壁部（５２ａ，５２ｂ）によって包囲される。接着剤除去容器（５５，５５ａ，５５ｂ）を形成してこれを閉塞した後、接着剤を除去するための溶剤が接着剤除去容器内およびウエハに対して供給され、接着剤を溶解し、そしてウエハを支持デバイス（１７）から除去する。
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【課題】本発明は、成膜工程における金属汚染を抑え、ウェーハ上に均一に成膜することができ、歩留の低下を抑えるとともに、半導体装置の信頼性の向上を図ることが可能なサセプタ、半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のサセプタは、ウェーハｗを載置する環状の第１のサセプタパーツ２１と、ウェーハを保持するための円状の第１の凹部２２ａと、第１の凹部２２ａ中に形成され、第１のサセプタパーツ２１を突出あるいは陥没させることなく収納する環状の第２の凹部２２ｂと、この第２の凹部２２ｂ中に形成され、第１のサセプタパーツ２１により遮蔽される複数の開口部２２ｃを有する第２のサセプタパーツ２２を備える。 （もっと読む）

【課題】真空プラズマ・プロセッサ中で、工作物を静電的にチャッキングおよびデチャッキングするための確実な方法、および装置を提供する。
【解決手段】真空プラズマ加工チャンバ１０中で加工されるガラス工作物３２が、工作物を締め付けるために十分に高い電圧を維持しながら加工中にチャッキング電圧を徐々に下げることによってモノポーラ静電チャック３０からデチャッキングされる。加工中のチャッキング電圧は、チャッキング力および流量をほぼ一定に維持するために、チャックに流れる伝熱流体の流量に応答して制御される。又加工の終了時にチャックに印加される逆極性電圧が、デチャッキングを援助する。 （もっと読む）

【課題】表面処理中に接着力が低下せず、表面処理後に基板から容易に剥離させることができる静電吸着用の基板固定部材及びそれを用いた基板の表面処理方法を提供する。
【解決手段】静電気力を用いて基板を載置部に静電吸着させるためにその基板に貼り付けられる基板固定部材１０に、導電性を有する導電部材１２と、所定温度以上で接着力が低下する、導電部材１２を基板に接着させる熱剥離接着部材１４とを設ける。基板と基板固定部材１０の接着に熱剥離接着部材１４が用いられているため、基板の温度をその所定温度よりも低く保っておけば、表面処理中に接着力が低下することがない。また、表面処理後に基板を所定温度以上に加熱するだけで、基板から基板固定部材１０を容易に剥離させることができる。 （もっと読む）

【課題】電気的ノイズやヒートスポットを発生することなく信頼性の高い検査を高精度に行うことができる被検査体の受け渡し機構を提供する。
【解決手段】本発明の受け渡し機構１０は、互いに所定の間隔を空けて載置台２０（載置体２２）上を横切って配置された２本の絶縁性及び耐熱性のある線材１１と、これらの線材１１それぞれを載置体２２の載置面に対して平行に張設し且つ載置体２２の水平方向外側にそれぞれ配置された２対の支持体１２と、これらの支持体１２によってそれぞれ張設された各線材１１を収納するように載置体２２の載置面にそれぞれ形成された２本の溝１３と、各線材１１を載置体２２の上方と各溝１３間で昇降させる昇降駆動機構２３と、を備え、２本の線材１１を介してウエハ搬送機構４０と載置体２２との間で半導体ウエハＷを受け渡すように構成されている。 （もっと読む）

【課題】テーブル部上に載置する基板収納用トレイの個数が増加しても、昇降ユニットの駆動系が大掛かりにならず、基板移載装置が占める容積の増大しない基板移載装置を提供する。
【解決手段】１）積重された基板収納用トレイ１０を水平搬送するコンベアＣＶ、２）ａ）最上部の基板収納用トレイのみを保持して上方に取りはずし、ｂ）水平搬送し、下降させて、収納されたガラス基板を基板収納用トレイから支持ピン３４上に取り出し移載し、空となった基板収納用トレイを架台５１上に載置するトレイ搬送ユニット８０、３）支持ピンが垂直に備え、空となった基板収納用トレイを載置する架台５１、４）支持ピン上のガラス基板を水平搬送するロボットＲＢが設けられていること。 （もっと読む）

【課題】 基板処理装置及び基板処理方法に関し、被処理基板を破壊することなく確実に剥離するスライド方式の被処理基板剥がし機構を安価に構成する。
【解決手段】 支持基板を吸着する加熱機構付き真空チャックと被処理基板を吸着する真空チャックの内の一方の真空チャックを水平方向に稼動するアーム状支持部材に伸縮可能な部材で接続する。 （もっと読む）

基板を装填するための装填チャンバ、基板を処理するためのプロセスチャンバ、プロセスチャンバを装填チャンバから分離する封止面、および基板を垂直に装填チャンバからプロセスチャンバに移動させるための手段を含む、基板を処理するためのプロセス装置、ならびに、基板を処理するための方法を提供する。装填チャンバはプロセス装置の下部および上部の一方に位置し、プロセスチャンバはプロセス装置の下部および上部の他方に位置する。この発明のプロセス装置および方法は、基板を装填するための移動数を低減することにより容易なメンテナンスおよびコストの低減を達成する。
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【課題】収納容器に収納されている半導体ウエハを取り出す際に半導体ウエハとスペーサを確実に分離できるウエハ取り出し装置を提供する。
【解決手段】本発明のウエハ取り出し装置は、半導体ウエハ１６、１７と層間紙１８が交互に重ねられ、その重ねられた半導体ウエハ１６から層間紙１８の一部が露出した状態で収納されている収納容器から半導体ウエハ１６を取り出す装置において、半導体ウエハ１６を吸着するウエハ吸着機構４と、ウエハ吸着機構４を移動させる移動機構と、層間紙１８の一部を押さえるスペーサ押さえ機構２１と、を具備し、スペーサ押さえ機構２１は、収納容器に収納されている半導体ウエハ１６をウエハ吸着機構４によって吸着しながら、前記移動機構によってウエハ吸着機構４を上昇させるときに、層間紙１８の一部を押さえる機構であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板構造体を接着テープで保持枠に固定する工程を自動化する。
【解決手段】保持枠１３の内側に基板構造体１４を所定の位置関係で配置した後、磁力を用いた保持枠クランプ（固定手段）２７ｇにより保持枠１３を保持する。次にダイシングテープ（接着シート）１２を保持枠１３および基板構造体１４とに貼り付けた後、保持枠１３に沿って切断し、使用部（第１接着シート）１２ａと余り部（第２接着シート）１２ｂとに分離する。次に、ダイシングテープ１２の余り部１２ｂを、保持枠１３から引き剥がした後、保持枠クランプ２７ｇが保持枠１３を固定する固定力を弱くしてから保持枠１３を基板構造体１４とともに取り出して搬送する。保持枠クランプ２７ｇは保持枠１３を載置する貼り付けステージ２７の保持枠１３と対向する面に保持枠１３と交差する方向に移動可能な状態で配置された永久磁石とする。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの多面取り露光等ワークが大型化した状態においも、カラーフィルタの露光パターンにおける色むら等を防止して、高精度、高スループットの露光を達成するためのワークチャック、ワーク保持方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】仕切り壁８１１と突起８１２との間隔Ｌは、突起８１２同士の間隔Ｌに等しくなるので、保持したワークＷの下面ＷＶの撓み量は、仕切り壁８１１と突起８１２との間、及び隣接する突起８１２同士の間でほぼ等しくなる。これにより仕切り壁８１１と突起８１２と、突起８１２同士の間隔とをほぼ等しく調整することができ、ワークＷの平面度を向上させて、露光ムラを抑制することができる。 （もっと読む）