【課題】可動テーブルの重量を増加させることなく、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を有するステージ装置を構成する。
【解決手段】ステージ機構１は、Ｘベース１２０の上に固定されるＸ方向の案内機構としてのＸガイド１２１と、これに拘束されてＸ方向に移動可能なＸテーブル１２２と、これに可動部を固定されたＸアクチュエータ１２３と、Ｘベース１２０の上に固定されたＸテーブル１２２の制動機構であるＸブレーキ１２４などから構成される。制御装置２は、ステージ停止時にＸブレーキ１２４をＸテーブル１２２の下面に押し付けて制動力を発生させ、ステージ停止後にはＸアクチュエータをサーボ制御をオフにする位置決め制御を行う。 （もっと読む）

【課題】流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（ＥＸ）は、移動可能なテーブル（ＰＴ）と、テーブル（ＰＴ）の移動を案内する上面（４１Ａ）を有するベース部材（４１）と、ベース部材（４１）の上面（４１Ａ）に液体（ＬＱ）が有るか否かを検出する検出装置（６０）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 基板の被露光面を輻射冷却するのに有利な露光装置の提供。
【解決手段】 鏡面を有する基板ステージと、Ｘ−Ｙ平面に沿って進行するレーザー光をＺ軸方向に折り曲げるミラーと、ミラーを介して鏡面を照射したレーザー光によりＺ軸方向のステージの位置を計測する計測器と、レーザー光が鏡面を照射するように計測器を移動させる第１駆動部と、エネルギーを基板に照射する光学系と、を有し、基板を真空中で露光する露光装置を、Ｚ軸方向において光学系とステージとの間に配置され、エネルギーを通過させる第１開口と計測器の移動範囲にわたってレーザー光を通過させる第２開口とを有する第１輻射板と、第１輻射板を冷却する第１冷却器とを含む第１冷却部と、Ｘ−Ｙ平面に沿って進行するレーザー光を通過させる第３開口を有する第２輻射板と、第２輻射板を冷却する第２冷却器とを含む第２冷却部と、を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】微動ステージと粗動ステージとの衝突時の衝撃を緩和する。
【解決手段】 例えば、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、及び微動ステージ５０がＸ軸方向に移動している際にその位置制御が不可能になると、主制御装置は、複数のＸリニアモータ２０ａ〜２０ｈ、及び複数のＸボイスコイルモータ１８ｘに対する電力供給を停止するとともに、複数の複数のＸボイスコイルモータ１８ｘのダイナミックブレーキを作動させ、所定時間経過後、複数のＸリニアモータ２０のダイナミックブレーキを作動させる。 （もっと読む）

【課題】基準位置に正確に取り付けられた基準部材を有する位置決め装置を提供する。
【解決手段】位置決めのために基準となる基準部材と、前記基準部材を支持するための支持部と、前記支持部に設けられ、前記基準部材と前記支持部とを固定し、または固定を解除する第1の固定部材と、を有し、前記基準部材は、可動する状態で前記支持部と接続されており、位置決めされた後、前記第１の固定部材により前記支持部に固定されるものであることを特徴とする位置決め装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】転写条件の調整を高精度に行うことができるとともに高スループット化を可能とすること。
【解決手段】基板に第一パターン、第二パターン及び第三パターンを重ねて転写する露光方法であって、基板に第一パターンを所定の転写条件で転写する第一転写ステップと、転写された第一パターンのパターン情報を計測する第一計測ステップと、第一パターンのパターン情報に関する第一計測結果に基づいて転写条件を調整する第一調整ステップと、調整された転写条件で基板に第二パターンを転写する第二転写ステップと、転写された第二パターンのパターン情報を計測する第一計測ステップと、第二パターンのパターン情報に関する第二計測結果と、第一計測結果とに基づいて転写条件を調整する第二調整ステップと、調整された転写条件で基板に第三パターンを転写する第三転写ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の処理を円滑に実行できるプレート部材を提供する。
【解決手段】プレート部材は、基板を保持する基板保持部を有し、露光液体を介して露光光で基板を露光する露光装置において、基板保持部に保持されて使用される。プレート部材は、基材と、表面の少なくとも一部を形成し、液体に対して撥液性の第１膜と、基材と第１膜との間の少なくとも一部に配置され、基材と異なる色相を発現する第２膜と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルを保持ステージよりはみ出すように保持した場合に、液晶パネルの自重によりはみ出した部分が下方に反ってしまい、液晶パネルを保持した保持ステージが処理部に進入する場合に、液晶パネルがはみ出して下方に反った部分と処理部とが干渉する問題が生じていた。
【解決手段】 液晶パネルを保持するための保持ステージを備えた製造装置であって、保持ステージの下方に保持ステージの外側から少なくとも１箇所に上方に向けた支持エアーを噴射する事のできるエアー供給口を備えた製造装置である。 （もっと読む）

【課題】回転軸に対し円形基板の中心の位置決めを正確に行うことのできる基板位置決め装置を提供する。
【解決手段】基板３０の位置決めを行うための基板位置決め装置において、基板載置部４４と、前記基板の側面に接触する第１の基準部１１を有する第１の位置決め機構部１０と、前記基板３０の側面に接触する第２の基準部２１を有する第２の位置決め機構部２０と、前記第１の位置決め機構部１０を駆動させる第１の駆動部１３と、前記第１の駆動部１３を制御する制御部５０と、を有し、前記第２の基準部２１は、前記基板３０と接触部２４において接触するものであって、前記接触部２４に対し前記駆動部１３の移動方向に力を加えることのできる弾性部と、前記位置決め機構部２０の位置情報を検出するための検出部２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の在荷をより確実に確認可能とするリフタユニットおよびパターン修正装置を提供する。
【解決手段】リフタユニット３０は、チャックステージ２０上に基板を載置して、基板上に形成された微細パターンの欠陥を修正するパターン修正装置において、搬入出される基板を上記チャックステージ２０の上方に位置するように保持するリフタユニット３０である。このリフタユニット３０は、基板を支持する複数のリフタピン３２を備えている。そして、複数のリフタピン３２のうち少なくともいずれか１つのリフタピンには、リフタピン上の基板の存在を検出する基板検出センサが設置されている。 （もっと読む）

【課題】基板間での熱処理温度のばらつきを抑制し、基板間並びに基板面内における配線パターンの線幅を均一化する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、基板搬送路を搬送される被処理基板Ｇに対する熱処理空間を形成する第一のチャンバ８と、加熱または冷却温度の設定温度を変更可能であって、前記第一のチャンバ内を加熱または冷却可能な第一の加熱・冷却手段１７，１８と、前記第一のチャンバの前段に設けられ、前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段４５と、前記基板検出手段の検出信号が供給されると共に、前記第一の加熱・冷却手段の制御を行う制御手段４０とを備え、前記制御手段は、前記第一のチャンバに向けて搬送される複数の被処理基板のうち、先頭の被処理基板が前記基板検出手段によって検出されると、前記第一の加熱・冷却手段の設定温度を第一の温度から第二の温度に変更する。 （もっと読む）

【課題】ウェハの厚みを精度よく制御でき、ウェハの面内均一性が向上した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる半導体装置の製造方法は、（ａ）ウェハ２１と、ウェハ２１上に形成された保護部材２４とからなる処理対象を用意する工程と、（ｂ）保護部材２４の厚みを、複数点において測定する工程と、（ｃ）複数点における測定結果に基づいて、ウェハ２１と保護部材２４とを合わせた厚みの目標値を設定し、当該目標値に従ってウェハ２１を研削する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】板状体からなる剥離部材を用いることなく接着シートを剥離シートから剥離可能にすることのできるシート貼付装置を提供すること
【解決手段】帯状の剥離シートＲＬに接着シートＳが仮着された原反Ｒの繰出手段１１と、剥離シートＲＬを折り返して接着シートＳを剥離する剥離手段１２と、剥離された接着シートＳを被着体Ｗに押圧する押圧ローラ１４とを含んでシート貼付装置１０が構成されている。剥離手段１２は、複数のプーリ３３に掛け回されたワイヤ等からなる線材３１により構成され、当該線材３１の線材部分３１Ａによって剥離縁ＰＥが形成されて接着シートＳが剥離シートＲＬから剥離される。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダのずれとバイメタル作用による基板ホルダの平面度の悪化を防止する。
【解決手段】微動ステージ２１の四隅に真空吸着のＯＮ／ＯＦＦの切り替えが可能な吸着部８２を設け、基板ホルダＰＨが衝撃等によりずれるおそれのあるときには、吸着部８２の真空吸着を行い基板ホルダＰＨのずれを防止し、基板ホルダＰＨがずれるおそれのないときには吸着部８２の真空吸引を停止若しくは弱めることで、バイメタル作用を緩和し、基板ホルダＰＨの平面度の悪化を防止する。 （もっと読む）

【課題】支持姿勢や搬送動作にかかわらず板状部材の撓みを抑制できる支持装置および支持方法ならびに搬送装置および搬送方法を提供すること。
【解決手段】接着シートＭＳが貼付された板状部材Ｗの搬送装置１は、接着シートＭＳを介して板状部材Ｗを保持する保持手段２と、保持手段２で保持された板状部材Ｗを付勢して板状部材Ｗの面位置を所定位置に維持する面位置維持手段６と、保持手段２を移動させる移動手段３とを備え、面位置維持手段６は、板状部材Ｗを一方側に付勢するかまたは他方側に付勢することで、板状部材Ｗの支持姿勢や搬送動作にかかわらず板状部材Ｗの面位置を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】基板支持装置上に載置された基板の位置を修正する。
【解決手段】 基板Ｐは、基板トレイ９０上に載置された状態で基板搬入装置８０により搬送される。基板搬入装置８０は、搬送時における基板Ｐの移動経路上に基板ＰのＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に関する位置情報を計測する基板位置検出装置を有し、その計測結果に基づいて押圧装置８８ａ、８９ａ、８８ｂ、８９ｂを用いて基板トレイ９０上で基板Ｐの位置調整（アライメント）を行う。この際、基板トレイ９０は、基板Ｐの下面に対して加圧気体を噴出し、該基板Ｐを浮上支持する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度位置決めを実現できるステージ装置，それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置，およびステージ制御方法を提供することにある。
【解決手段】ステージ装置は、ステージ１０を駆動するモータ３０と、モータにより駆動されるステージの位置が最終目標位置となるような前記アクチュエータの駆動量を算出するステージ制御演算器１００を有する。ステージ制御演算器１００は、ステージの目標位置とステージの位置の差分に基づいて、ＰＩＤ制御する補償演算器１２０を有する。また、ステージの特性を同定するモデル同定器１３０と、モデル同定器によって得られた情報を基に、補償演算器におけるステージ制御用補償パラメータを演算する制御ゲイン演算器１４０を備える。 （もっと読む）

【課題】 ウェーハのツイスト角度を、イオン注入条件の一つとして与えられる角度に精度良く合わせることができる方法および装置を提供する。
【解決手段】 光源６４からの光７４を導いてウェーハ２の外周部に光照射領域を４箇所形成するライトガイド６６、７０ａ〜７０ｄと、カメラ８４と、画像処理装置とを設けておく。そして、アライナー４０において、ウェーハ２をプラテン１４へ移載したときに上記光照射領域の内の一つ内にノッチ４が位置するようにアライメント角度αを調整し、ウェーハ搬送装置４２ａ、４６によってアライナー４０からプラテン１４へウェーハ２を搬送する。更に上記画像処理装置を用いて、プラテン１４上のウェーハ２のノッチ４の角度を検出して、その角度とアライメント角度αとの第１の差に、アライメント角度αとイオン注入条件の一つとして与えられるツイスト角度との第２の差を加味した角度ぶん、ウェーハ２を回転させる。 （もっと読む）

【課題】ワークの大きさに予めカットされていないテープ体ロールを用いて、ワークに対応した大きさの粘着テープを貼着することが可能なテープ貼着装置を提供すること。
【解決手段】テープ体９の剥離テープ７側に接触して支持する支持面１３Ａを有する支持板１３と、テープ体９を粘着テープ８側から切り込む切り刃１４と、この切り刃１４をテープ体９の切断動作を行わせる幅方向移動部１５と、この切り刃１４を進退移動させる進退移動部１６と、支持体１３の支持面１３Ａと切り刃１４との接触を検出する接触検出部１７とを備え、テープ体９の粘着テープ８をワークの大きさに分割するようにした。 （もっと読む）

【課題】 ウエーハ搬送機構によりチャックテーブル上に搬送されたウエーハの中心位置のずれ量を容易に測定して、ウエーハ搬送機構の調整をすることが可能な方法を提供することである。
【解決手段】 ウエーハ搬送機構の調整方法であって、ウエーハ搬送機構によりチャックテーブル上に搬送された試験用ウエーハにチャックテーブルを回転させながら環状罫書き線を形成する。環状罫書き線の任意の３点からチャックテーブルの回転中心位置座標（Ｘ１，Ｙ１）を割り出し、試験用ウエーハの外周縁の任意の３点から試験用ウエーハの中心位置座標（Ｘ２，Ｙ２）を割り出す。チャックテーブルの回転中心位置座標（Ｘ１，Ｙ１）と、試験用ウエーハの中心位置座標（Ｘ２，Ｙ２）とのずれ量を求め、所定値以上のずれ量があった場合には、吸着パッドが装着されるウエーハ搬送機構の支持アームの長さ及び／又は吸着パッドの移動距離を補正する。 （もっと読む）