【課題】基板を支持して搬送される基板支持機構を備える真空処理装置において、異常を有する基板支持機構を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】直列に連結された真空処理室内で連続的に基板６３を搬送する基板搬送機構は、基板６３を保持した状態で移送される基板支持機構５０を撮影するＣＣＤカメラ１０３を有しており、ＣＣＤカメラ１０３によって撮影された映像から基板支持機構５０が基板６３を支持する位置を測定し、基板支持位置が異常な基板支持機構５０を検出する。 （もっと読む）

【課題】平流し搬送される被処理基板に対し所定の処理を施す基板処理装置において、前記基板の被処理面に対し均一な処理を施す。
【解決手段】基板搬送路３に沿って被処理基板Ｇを平流し搬送する基板搬送手段６と、前記基板搬送路の途中に設けられ、前記基板搬送手段により搬送される被処理基板に所定の処理を施す基板処理部１５と、前記基板搬送路の幅方向に延設された短冊状のダミー基板８，９と、前記ダミー基板を前記被処理基板と同じ高さで基板搬送方向に沿って移動させるダミー基板移動手段１０，１１と、前記ダミー基板移動手段の制御を行う制御手段５０とを備え、前記制御手段は、前記基板処理部において搬送される前記被処理基板に所定の処理が施される際、前記被処理基板に前記ダミー基板を近接させた状態で、前記ダミー基板移動手段により前記ダミー基板と前記被処理基板とを同期して移動させる。 （もっと読む）

【課題】一対の基板を精度よく位置合わせして接合する。
【解決手段】接合装置であって、対向しつつ接近して個別に保持した一対の基板を接合する一対のステージと、基板を支持する複数の支持部材と、複数の支持部材を駆動して、基板の傾きを変化させながら、一対のステージの一方に基板を当接させ、当該ステージに基板を保持させる当接駆動部とを備える。上記接合装置において、個別に保持した一対の基板を接合する場合に、一対のステージの一方を他方に接近させる接合駆動部を更に有してもよい。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ装置を迅速に組み立てる。
【解決手段】基板ステージ装置の製造工場において相互位置などがそれぞれ調整された、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、重量キャンセル装置４０、及び本体部５１を、分解せずにステージユニット２０として輸送し、その輸送先で基板ステージ装置の再組み立てに用いる。再組み立て時におけるＸ粗動ステージ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、重量キャンセル装置４０、及び本体部５１相互間における位置調整が不要となるので、基板ステージ装置を迅速に組み立てることができる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板、若しくはチャック上に異常が発生した場合、大掛かりな装置を使用することなく、効率良く異常の要因及び場所を特定する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板保持装置１０であって、基板Ｗを吸着して保持する保持ユニットと、基板Ｗが保持ユニットに搭載された状態で、保持ユニットの吸着力に関する物理量を計測する計測部１５と、第１の条件と計測部１５の計測結果とに基づく第１の判定と、第１の条件とは異なる第２の条件と計測部１５の計測結果とに基づく第２の判定とを行い、第１及び第２の判定の結果に基づいて、予め設定された少なくとも３つの動作のうち１つを選択し、選択された動作に応じた処理を実行する制御部１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】横並びに複数配置された載置台上の搬送容器から基板搬送機構により基板を取り出して処理を行うにあたり、載置台上の搬送容器内の基板の高さ位置を正確に求めること。
【解決手段】載置台１１を複数配置すると共に、少なくとも２つの載置台１１の並びに沿って前記大気搬送室２２内を移動自在な撮像ユニット４１を設けて、載置台１１上のＦＯＵＰ１内においてウエハＷが収納される収納領域２全体を撮像ユニット４１により一括して撮像し、この撮像結果に基づいて前記ＦＯＵＰ１内のウエハＷの高さ位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィ装置のスループットを改善することができる、インプリントリソグラフィ装置用の振動絶縁システムを提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ装置１００は、基板ホルダ１２０に対してインプリントテンプレートホルダ１１０を変位させるアクチュエータ１３０を備える。インプリントテンプレートホルダ１１０および／または基板ホルダ１２０の支持構造１４０は、基部１６０に取り付けられた振動絶縁システム１５０に取り付けられる。振動絶縁システム１５０は、基部１６０に対する支持構造１４０の振動を絶縁する。インプリント過程中にアクチュエータ１３０を制御する制御ユニットは、振動絶縁システム１５０の調節部材を制御して、インプリント過程の少なくとも一部の間、振動絶縁システム１５０の動特性を調節し、支持構造１４０に作用する力による、基部１６０に対する支持構造１４０の変位を低減させる。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダシステムを用いた位置計測装置において、計測誤差による影響を低減させることを目的とする。
【解決手段】 対象物を搭載して移動可能な移動体と、前記移動体の位置を計測可能なエンコーダ型の第１の計測手段と、前記第１の計測手段による計測と同時に、前記移動体の位置を計測可能、あるいは前記対象物または前記移動体に形成されたマークの位置を検出可能な第２の計測手段と、前記第１および第２の計測手段の計測結果にもとづいて、前記第１の計測手段の計測誤差を算出し、該計測誤差にもとづいて前記第１の計測手段を補正する補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】極薄のウェーハを安全、簡単、確実かつ迅速に単離させることができ、かつ従来と比べて処理スピードが改善されたウェーハ単離方法及びウェーハ単離装置を提供する。
【解決手段】多数枚又は複数枚のウェーハが積層されたウェーハ積層体を液体中に浸漬させて準備するステップと、前記最上層のウェーハの一端部を吸着し、前記最上層のウェーハの他端部は吸着せずにおさえ、前記最上層のウェーハを水平方向で傾斜させる吸着ステップと、前記最上層のウェーハの下面と隣接する下側のウェーハの上面との間に流体を吹き込む流体吹き込みステップと、前記傾斜させた最上層のウェーハを、その傾斜の延長線上に沿って変位させて液中から前記最上層のウェーハを取出せしめるウェーハ変位ステップと、を含み、ウェーハを単離するようにした。 （もっと読む）

【課題】作業効率の低下を招くことなく、基板における露光領域の変形に関する情報を容易に計測する。
【解決手段】露光光の照射処理が行われる基板Ｂ上の複数の照射領域ＳＡにそれぞれ設けられ、各照射領域における変形に関する情報を計測する変形計測装置Ｇと、温度による基板の変形に関する情報を、変形計測装置とは独立して計測する第２変形計測装置Ｇ２とを有し、変形計測装置及び第２変形計測装置は、露光光の照射処理によりパターニング形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】 定盤から床に伝わる振動を低減することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、定盤５と、前記定盤上で移動可能なステージ１と、前記ステージを駆動するアクチュエータ８と、質量体２と前記質量体を移動させるアクチュエータ９とを有し前記ステージの移動に起因して前記定盤に発生する振動を低減するための反力カウンタと、投影光学系４と、前記投影光学系を支持する構造体５と、前記投影光学系、前記構造体、前記定盤を支持する床６のいずれかに設けられた振動を検出するセンサ５１〜５４と、前記センサからの出力に基づいて、前記振動が小さくなるように前記質量体を移動させるアクチュエータを制御する制御手段１４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】接着シートの表面を傷付けることなく、接着シートを半導体ウエハ等の板状部材に貼付できるようにすること。
【解決手段】半導体ウエハＷに対応した平面形状の接着シートＳ１を剥離シートＰＳから剥離して半導体ウエハＷに貼付する貼付ユニット２４であって、接着シートＳ１の繰り出しと、接着シートＳ１の押圧と、接着シートＳ１の剥離シートＰＳからの剥離とを同時に行いながら当該接着シートＳ１を半導体ウエハＷに貼付可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置などで使用される基板を位置決めするθＺ駆動装置を小型にすることを課題とする。
【解決手段】ベース６に立設する円筒状のフレーム１７と、フレーム１７の内面に設けられてテーブル１をＺ方向とθ方向に駆動するθＺアクチュエータ１５と、テーブル１がＺ方向へ昇降可能となるよう支持する昇降支持部７と、テーブル１がθ方向へ回転可能となるよう支持する回転支持部４と、テーブル１の昇降位置および回転位置を取得するための位置検出部３１と、を備え、昇降支持部７と回転支持部４と位置検出部３１のすべてが、θＺアクチュエータ１５の内側にあって、かつθＺアクチュエータ１５のＺ方向の高さにほぼ収まるよう配置されるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】半導体装置又は電子部品等のデバイスの姿勢矯正を、機械的接触なしに行なうことで、デバイスの品種ごとに部品交換を不要とするとともに、デバイスへの接触ダメージや矯正主体の磨耗によるトラブルを防止しつつ、位置決め精度を高めた位置補正装置及びそれを備えたハンドラを提供する。
【解決手段】吸着保持機構Ｖの先端部分に回転可能に取り付けられ、デバイスを直接的に保持する吸着ノズルＮを備えたフランジ３１と、吸着保持機構Ｖの直下に設けられた筒状の補正ブロック８と、この補正ブロック８にモータの動力を伝達し回転制御するベルト８１及び第１のプーリー８２と、フランジ３１の筒状の開口部８４を通してデバイスを下方より撮像する撮像機構９とからなる。 （もっと読む）

【課題】接着シートの剥離不良が発生することを防止することができるようにする。
【解決手段】シート剥離装置１０は、ウエハＷの一方の面に貼付された接着シートＳを剥離用テープＰＴを介してウエハＷから剥離する。接着シートＳは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とを含む。シート剥離装置１０は、基材シート及び接着剤層を切断する切断手段１６と、剥離用テープＰＴを繰り出す繰出手段１２と、接着シートＳに剥離用テープＰＴを貼付する貼付手段１４と、ウエハＷと剥離用テープＰＴと相対移動させることで接着シートＳを剥離可能な移動手段１５とを備えている。切断手段１６は、一端のみが基材シートの外縁に達する切り込みを形成可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】接着シートの剥離不良が発生することを防止することができるようにすること。
【解決手段】シート剥離装置１０は、ウエハＷの一方の面に貼付された接着シートＳを剥離用テープＰＴを介してウエハＷから剥離する。接着シートＳは、基材シートＢと、この基材シートＢの一方の面に設けられた接着剤層ＡＤとを含む。シート剥離装置１０は、基材シートＢ及び接着剤層ＡＤを切断する切断手段１６と、剥離用テープＰＴを繰り出す繰出手段１２と、接着シートＳに剥離用テープＰＴを貼付する貼付手段１４と、ウエハＷと剥離用テープＰＴと相対移動させることで接着シートＳを剥離可能な移動手段１５とを備えている。切断手段１６は、両端が基材シートＢの外縁にそれぞれ達する切り込みＣを形成して接着シートＳを複数の分割シートＳ１、Ｓ２として形成可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面においてサブミクロンの精度で高速に位置合わせを行うことが困難になってきている。特に、一方のウェハに対して他方のウェハを、位置合わせ指令に従って正確にかつ高速に移動させることができる重ね合わせ装置が望まれている。
【解決手段】複数の基板を位置合わせして重ね合わせる重ね合わせ装置は、第１基板を保持する第１ステージと、第１基板に対向して配置される第２基板を保持する第２ステージと、対向方向に直交する方向へ移動可能な第３ステージと、第２ステージを重力方向に支持する支持機構と、第３ステージの移動に非接触で追従して第２ステージ及び支持機構が一体的に移動するように、第３ステージと支持機構の間に設けられた推力伝達部とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハ搬送装置の自己診断及び自動補正において、停止時間を短縮し、メンテナンスを簡略化し、半導体ウェーハ搬送装置の原価を低減する。
【解決手段】ウェーハ収納容器を設置可能なロードポート部と、ウェーハを把持するハンドを有し、前記ウェーハを搬送する搬送ロボット部と、前記ウェーハの方向決めを行うアライナとを含む半導体ウェーハ搬送装置であって、前記ロードポート部及び前記アライナの少なくとも一つが前記ロードポート部又は前記アライナに備えられたセンサを有し、前記センサを用いて前記ロードポート部及び前記アライナの少なくとも一つに対する前記ハンドの位置を計測し、この計測値に基づいて前記ハンドの位置の補正を行うコントローラを有する。 （もっと読む）

【課題】 アームをキャリア内に侵入させたとき、ウエハの姿勢に不正なゆがみがあると、アームがウエハに接触してしまう場合がある。
【解決手段】 アームが、ウエハを保持する。アーム駆動機構が、アームを退避位置から、ウエハを受け取る受取位置まで、または受取位置から退避位置まで移動させる。ガス吸引装置がガスを吸引する。第１のガス流路が、ガス吸引装置から、アームの内部を経由して、アームの表面に開口する。第１の検出器が、第１のガス流路内のガスの圧力または流速を測定する。 （もっと読む）