【課題】クランプ時に基板に無理な力が生じることにより発生する課題を解決する装置の提供。
【解決手段】大型ガラス基板等の基板０をその保持高さを精密に維持しつつ面内方向に自由に移動できるように案内する基板案内手段と、当該基板案内手段に保持された前記基板を面内の特定の方向に移動させるための基板駆動手段とを具備してなり、基板駆動手段が、大型ガラス基板等の基板を把持するための複数のクランプ部と、これらのクランプ部を同期させて駆動することにより、基板を基板案内手段に保持させつつ、特定方向に移動させ位置決めを行う基板駆動部とを具備してなる基板移送装置４において、クランプ部２１により基板０をクランプした際に、その基板０に無理な力が作用しないように、クランプ部２１を基板０の面外方向に逃がすための逃がし機構５９をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】一般的に基板ホルダは基板に比べて非常に重いので、基板ホルダを基板搬送装置で搬送しようとすると、搬送装置の基台部から先端に位置する把持部にかけての伸縮アームに自重撓みを生じてしまう。自重撓みを生じると基板ホルダが水平に保たれず、搬送先であるステージに対して傾斜した姿勢となってしまう。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダを搬送する基板搬送装置であって、基板ホルダを載置し固定する載置部と、載置部を水平軸周りに揺動可能に支持する回転軸と、回転軸に対して載置部と一体的に揺動するバランスウェイトと、回転軸を支持するアーム部と、アーム部を回転させることにより、載置部、回転軸およびバランスウェイトを一体的に上下反転させる反転部とを備え、バランスウェイトは、反転部によりアーム部が上下反転されても、載置部が固定する基板ホルダが水平を保つように設置される。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置には、搬送時の振動等による半導体基板およびこれを保持する基板ホルダの脱落を防止する機構が必要となる。しかし、脱落防止機構の駆動は発塵の原因となる。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダを搬送する基板搬送装置は、基板ホルダを載置する載置部と、載置部に載置された基板ホルダが保持する基板に対して、載置部と同じ側に配置された回転軸と、回転軸の軸周りに回動して、基板ホルダの脱落を防止する防止位置と、基板ホルダを開放するための開放位置を取り得る開閉ロック機構と、載置部、回転軸および開閉ロック機構を一体的に上下反転させる反転部とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡単なセンサレスティーチングによって、ロボットハンドによるカセット内の各段の基板の受け渡しを精度よく行える基板搬送用ロボットのカセットに対する制御方法を提供すること。
【解決手段】基板Ｗを複数段収納するカセット３０と、カセット３０の各段に対してロボットハンド５０を用いて基板Ｗの受け渡しを行う基板搬送用ロボット７０とを用意する。カセット３０に収納される基板Ｗの最下段と最上段の基板Ｗの受渡位置にロボットハンド５０を移動してそれらの受渡位置をロボットハンド５０の位置情報として測定する。次に測定した基板Ｗの最下段と最上段の位置情報と、位置決め式とに基づいて、カセット３０のその他の段に収納される基板Ｗに対するロボットハンド５０の受渡位置の位置情報を算出する。そしてこれら位置情報を用いて、カセット３０の各段に対してロボットハンド５０を移動させることで基板Ｗの受け渡しを行う。 （もっと読む）

【課題】互いのウェハを位置合わせして重ね合わせるときに、ステージの回転量が所定量を超えてしまうと、ステージの正確な位置を把握することが困難となる。ステージの回転量が所定量を超えないように制御するには、そもそも最初にステージに置かれるウェハの位置を厳密に管理する必要がある。
【解決手段】位置検出装置は、第１基板に設けられた少なくとも２個の第１基板指標を一度の撮像動作により撮像する第１撮像ユニットと、第１撮像ユニットにより撮像された画像に基づいて第１基板指標の位置を計測することにより、第１基板の姿勢を測定する測定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】保護テープの剥離方向がいずれの方向であっても、適正な圧力でワークの表面の保護テープに剥離テープを貼着すること。
【解決手段】本発明のある実施の形態において、保護テープ剥離装置は、表面に保護テープ２３が貼着されたワーク２を保持する保持手段１上にワーク２が保持されていない状態で、保護テープ２３の剥離方向に応じた基準面の位置と圧着部材３５との接触による通電を検知することによって剥離方向に応じた基準面の高さ位置を検出する高さ位置検出機構を備える。また、剥離方向に応じた基準面の高さ位置と、予め定められる剥離テープ３１、ワーク２、ダイシングテープ２２および保護テープ２３の厚みとをもとに、下端面によって保護テープ２３の非粘着面を押圧する際の圧着部材送り機構の駆動量を制御する制御手段を備える。 （もっと読む）

【課題】 レチクルのような板部材を強固に保持すると共に、板部材の上面、下面又は板部材を保持する部材に異物が付着していても板部材を歪ませることのないステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第１位置決め部材と、前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第１位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第２位置決め部材と、前記第１位置決め部材の周囲に第１密閉空間を形成する弾性を有する第１密閉部材と、前記第２位置決め部材の周囲に第２密閉空間を形成する弾性を有する第２密閉部材と、前記第１密閉空間と前記第２密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第１密閉空間及び前記第２密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第１吸引機構及び第２吸引機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被搬送物を搬送先にまで高精度に搬送することができる搬送装置および搬送方法を提供する。
【解決手段】基板トレイ搬送装置は、基板３を載せた基板トレイ１７を搬送アーム２６によって把持し、載置台５まで搬送する。搬送アーム２６の先端部には、反射型光ファイバーセンサー２５を有している。搬送アーム２６は縁に到達する直前に減速する。その際、センサー２５は載置台５の縁を検出する。搬送アーム２６が減速しているので、センサー２５による縁位置の検出は安定化する。制御装置３７は、センサー２５による縁位置の検出結果に基づき、載置台５の縁から載置台５の中心までの距離と、基板トレイ１７からセンサー２５までの距離とを加えた距離だけ、載置台５の縁から搬送アーム２６を移動させるように、第一の移動機構２８を制御する。 （もっと読む）

【課題】エンコーダタイプの位置測定システムのグリッドプレート内の欠陥を判定する。
【解決手段】別のオブジェクトに対する可動オブジェクトの位置を測定するエンコーダタイプの位置測定システムを提供するステップであって、前記エンコーダタイプの位置測定システムが、グリッドプレートとエンコーダヘッドとを含むステップと、２つ以上の検出器の各々に反射した光の量を測定するステップと、２つ以上の検出器に反射した放射ビームの結合放射ビーム強度を用いて測定位置でのグリッドプレートの反射率を表す反射率信号を決定するステップと、グリッドプレートの反射率信号に基づいて測定位置の欠陥の存在を判定するステップとを含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】コイルに流れる電流の遅れに起因して生じる、駆動すべき方向とは異なる方向への力を低減させる。
【解決手段】コイル４、及び複数の永久磁石を有するリニアモータと、コイル４に電流を供給する電流ドライバ９と、該電流ドライバ９への指令を生成する制御手段７とを備えたステージ装置であって、制御手段７は、コイル４と永久磁石との相対位置に基づいて算出した電気角を用いた正弦波を、リニアモータへの推力指令値に乗ずるコミュテーション処理により指令を生成し、更に、指令に対して、推力指令値に比例した振幅を持ち、かつ、正弦波と９０度に位相がずれた正弦波の成分を含ませる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、カセットに収納された半導体ウエハ等の基板を所定の場所に移載する基板搬送装置に関し、カセット内においてウエハが所定位置に位置していない場合にもウエハの外周部を確実に保持することを目的とする。
【解決手段】 カセットに水平に収容される基板の奥行き方向の位置を検出する検出手段と、前記基板の下面の外周部を保持する保持部を備え前記基板を搬送する搬送手段と、前記奥行き方向の位置に基づいて前記基板の外周部が前記保持部に保持されるように前記搬送手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い位置合わせ精度を満たすために位置合わせ時間が増加した場合においても生産性を低下させない露光装置を提供する。
【解決手段】基板を保持して移動する基板ステージと、ショットのアライメントマークの位置を計測する位置計測手段と、基板の高さを計測する高さ計測手段と、を有し、これらの計測結果にしたがって基板ステージを位置決めして基板を露光する露光装置において、基板上の一部のショットに関してショット内の複数の計測箇所で高さ計測手段に高さの計測を行わせてショット表面の形状を算出し、各ショットのアライメントマークの位置を位置計測手段に計測させてショットの配列を算出し、アライメントマークの位置の計測に並行して高さの計測を行い基板の表面の形状を算出する処理手段を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、カセットに収納された半導体ウエハ等の基板を所定の場所に移載する基板搬送装置に関し、カセット内においてウエハが所定位置に位置していない場合にもウエハの外周部を確実に保持することを目的とする。
【解決手段】 基板の下面の外周部を保持する保持部をハンド部に備え前記基板を搬送する搬送手段と、前記ハンド部に設けられ、カセットに水平に収容される基板の奥行き方向の位置を検出する検出手段と、前記奥行き方向の位置に基づいて前記基板の外周部が前記保持部に保持されるように前記搬送手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の小型化を図ることで、露光装置全体の小型化を図る。
【解決手段】 本発明のステージ装置は、基板または原版を保持する保持部を有し、平面内を移動する可動体と、前記可動体に設けられ、前記保持部に基板または原版が保持された際に前記基板または原版よりも前記平面に垂直な方向に突出する反射面と、前記反射面に光を照射し、その反射光を用いて前記可動体の位置を計測する干渉計と、を備え、前記光は、前記反射面に対して、前記保持部が設けられた側から前記反射面に照射される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザー光照射による改質現象を用いた電子部品の製造方法における加工精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】本発明は、要切断部１２Ａに沿って高さ認識用マーカー１４を形成する第１の工程と、少なくとも高さ認識用マーカー１４形成部に光を照射し、高さ認識用マーカー１４形成部からの反射光の強度から高さ認識用マーカー１４形成部の高さ情報を算出し記憶する第２の工程と、記憶された高さ認識用マーカー１４形成部の高さ情報を用いてレーザー光の焦点距離を調整し、媒質１２の要切断部１２Ａにレーザー光を照射して要切断部１２Ａを改質させる第３の工程とを有し、レーザー可動ライン１１における高さ認識用マーカー非形成部１４Ｂにおいてはレーザー可動ラインにおいて高さ認識用マーカー非形成部１４Ｂの次に照射される高さ認識用マーカー形成部１４Ａの高さ情報を用いてレーザー光の焦点距離を事前調整しておくものである。 （もっと読む）

【課題】 移動荷重を受けるワークの高精度な位置補正を行う。
【解決手段】 ベース１の上方に、移動荷重が作用するワークを保持するトップテーブル４ａを配置し、ベース１とトップテーブル４ａとの間にて、荷重移動方向Ｌに千鳥配置となるトップテーブル４ａの中央と四角部に対応する個所に、Ｘ、Ｙ、θの３自由度を備えた支持ユニット１３と、支持ユニット１３と同様の構成に加えて一軸方向のボールねじ直動機構９を有する駆動ユニット１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄを介装する。一方と他方の対角位置の駆動ユニット１４Ａ，１４Ｂと１４Ｃ，１４Ｄは、ボールねじ直動機構９を直交配置させる。ワークを介してトップテーブル４ａに荷重移動方向Ｌに移動しながら作用する移動荷重を、各駆動ユニット１４Ａ，１４Ｃ、支持ユニット１３、各駆動ユニット１４Ｂ，１４Ｄで連続的に受けることで、トップテーブル４ａの変形を抑制させる。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】既存の装置以外には、専用センサ等のハードウエアを追加することなく、ニードル先端の状態を管理可能な半導体チップ供給装置のニードル管理装置を提供する。
【解決手段】この半導体チップ供給装置１０の制御装置は、ニードル３の変形状態を管理するニードル状態管理処理を実行し、半導体チップＣを認識するカメラ１で撮像されたニードル３の先端形状のエッジ情報と、予め設定された閾値情報とに基づいて、ニードル３の交換の要否を判別する。 （もっと読む）

【課題】ワークの浮上高さのバラツキを抑えた浮上ユニット及び浮上装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る浮上ユニットは、空気が吸引される負圧室を形成しているチャンバと、チャンバの天井壁６０に形成された横溝６４及び縦溝６２と、横溝６４の溝底を貫通する気体供給管５６と、天井壁６０を貫通し負圧室と連通するように配設された吸気孔７０と、天井壁６０に固定され吸気孔７０と連通する吸引孔を有する多孔質板と、を備えている。横溝６４には、天井壁６０の外周部６０Ｅに向けて延び出して閉じている横閉溝６４Ｓが配設されている。横閉溝６４Ｓの溝先端６４Ｔは他の溝には繋がっていない。本発明に係る浮上装置は、この浮上ユニットを並列に複数配置してなるものである。 （もっと読む）