【課題】 ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られる耐熱性樹脂からなるクリーニング層を形成するにあたり、このクリーニング層の表面平滑性を改善して、搬送性と異物の除去性にすぐれたクリーニング機能付き搬送部材を得る。


【解決手段】 （ａ）ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを有機溶媒中で反応させて耐熱性樹脂の前駆体溶液を得る工程と、（ｂ）上記の前駆体溶液を搬送部材上に塗布し、加熱乾燥して有機溶媒を除去したのち、高温で熱処理して耐熱性樹脂からなるクリーニング層を形成する工程とにより、搬送部材の少なくとも片面にクリーニング層を有するクリーニング機能付き搬送部材を製造するにあたり、上記の（ａ）工程における耐熱性樹脂の前駆体溶液を得る際の有機溶媒として、沸点が１７０℃以下である有機溶媒を少なくとも１種使用することを特徴とするクリーニング機能付き搬送部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
大気とは異なる環境において長寿命を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
移動テーブル４の表面側と裏面側に振り分けて回転台２４と駆動ユニット２５とを配置したので、重量バランスを適正にとることができ、スライダ３の負担を抑えることで超寿命化を図ることができる。また、回転台２４と駆動ユニット２５を支持する移動テーブル４の剛性も低くて足りるので、これを小型化することで構成のコンパクト化を図ることができ、更にモータ９の定格出力も小さくすることができてコスト低減を図れる。 （もっと読む）

【課題】
発塵を効果的に抑えることができる回転保持装置を提供する。
【解決手段】
小ギヤ２０３ａ側で発生した塵等の異物が、開口２２０ｅと台座２０２との間に向かうためには、リングギヤ２１５の半径方向内方に向かって移動しなければならず、このときリングギヤ２１５の表面に付着した塵等は遠心力で半径方向外方へと力を受け、半径方向内方に移動することが抑制される。従って、本実施の形態によれば、効果的に発塵を抑制でき例えば真空雰囲気で用いても、その環境を損なわない回転保持装置２００を提供できることとなる。 （もっと読む）

【課題】耐酸化性を向上させることができるように改良された、給電用電極部材を有する半導体製造装置を提供することを主要な目的とする。
【解決手段】セラミックスで形成されたサセプタ１上にウエハを搭載し、該サセプタ１を加熱して、上記ウエハを加熱する半導体製造装置に使用されるものであり、かつ上記サセプタ１に外部から給電するための給電用電極部材１１に係る。給電用電極部材１１の、室温から５００℃までの熱膨張係数は３．０×１０^-6／Ｋ以上、８．０×１０^-6／Ｋ以下であり、室温における電気導電率は１０^-3Ωｃｍ以下であり、５００℃大気中における酸化による重量増加は０．１％／時間以下にされている。 （もっと読む）

【課題】
大気環境と、大気とは異なる環境とを隔てるハウジングの剛性に関わらず、高精度な移動を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
モータ９を真空チャンバＣの外側即ち大気環境側に取り付けることによって、真空チャンバＣの内部においてアウトガスが発生することを抑制でき、更に、真空チャンバＣを間に介在させることなく、フレーム１にモータ９を取り付けているので、大気圧との差圧に基づいて真空チャンバＣが変形した場合でも、その影響を回避して高精度の位置決めを実現できる。 （もっと読む）

【課題】絶縁性の基板を吸着できる吸着装置を提供する。
【解決手段】表面が絶縁されている基体１０上に第１、第２の電極１１、１２を露出して設け、絶縁性の基板が第１、第２の電極表面に接触するか、非常に近接して配置されるようにする。第１、第２の電極間には、空間変化率の大きな電場が形成されるので、グラディエント力により、基板７は吸着装置１表面に吸着される。グラディエント力の大きさは電場の変化率の大きさに依存しているので、第１、第２の電極１１、１２間に電圧を印加し、１．０×１０⁶Ｖ／ｍ以上の電場を形成するとよい。 （もっと読む）

【課題】
コンパクトであり、分解が容易でありながら、適切なシールを有する回転保持装置を提供する。
【解決手段】
軸受１０７，１１１の半径方向内方に、冷却水用シール１１０，真空シール１０９を配置しているため、それらを点検・交換することが容易であり、且つ回転保持装置１００の軸線方向長を小さく抑えることができる。このような構成を有するため、回転保持装置１００はＸＹテーブルのスライダ上に載置して用いることができ、回転保持装置１００自体をスライダとすることもできる。 （もっと読む）

【課題】冷却性能および絶縁性能に優れ、半導体集積回路の製造において基板を保持するのに好適な静電チャックを提供する。
【解決手段】金属基板２上に直接または接着剤層３を介して形成され、熱伝導率が０．２Ｗ／ｍＫ以上である熱伝導性シリコーンゴムからなる第１絶縁層４と、該第１絶縁層４上に直接または接着剤層５を介して形成された導電性パターン６と、該導電性パターン６上に直接または接着剤層７を介して形成され、絶縁性ポリイミドフィルムからなる第２絶縁層８と、該第２絶縁層８上に直接または接着剤層９を介して形成され、熱伝導率が０．２Ｗ／ｍＫ以上であり、硬さが８５以下であり、表面粗さが５μｍ以下である熱伝導性シリコーンゴムからなる第３絶縁層１０とを含んでなることを特徴とする静電チャック。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ処理能力を向上させることのできるウエハ処理装置を提供する。
【解決手段】 プラテン装置を備えた真空処理室に隣接して、ロードロック台を有する２つのロードロック室を真空中間室を介して設けるとともに前記真空処理室と前記真空中間室との間に連絡開口を設ける。前記プラテン装置と前記真空中間室との間には前記２つのロードロック室に対応させて２つのウエハ保持アームを配設し、該２つのウエハ保持アームは、対応するロードロック台と前記プラテン装置との間を、前記連絡開口を通過するとともに上下で立体交差しながら往復動作可能に構成する。一方のウエハ保持アームで処理前ウエハを保持し、他方のウエハ保持アームで処理済ウエハを保持することにより、一方のロードロック台から前記プラテン装置への処理前ウエハの搬入と、前記プラテン装置から他方のロードロック台への処理済ウエハの搬出とを並行させることができるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】
真空雰囲気下で試料を搬入・搬出する際に生じる異物量を低減することのできる真空処理装置を提供する。
【解決手段】
搬入された試料に真空処理を施す真空処理室１と、室内を大気雰囲気と真空雰囲気に切り換え可能なロードロック室５１と、真空処理室とロードロック室間で試料を搬入出する真空搬送手段３を備えた真空搬送室２と、真空搬送室と真空処理室間及び真空搬送室とロードロック室間をそれぞれ隔離する仕切り弁４，５と、真空搬送室、真空処理室及びロードロック室の圧力を検出する圧力検出手段４３，３５，２３と、前記真空搬送手段により試料を真空搬送室を介してロードロック室と真空処理室間で移動させる制御手段を備え、該制御手段は、試料を真空搬送室と真空処理室間あるいは真空搬送室とロードロック室間の仕切り弁を通して移動させる際、仕切り弁の解放前に、移動させる前および後の室の内圧を分子流領域近傍の中間領域に調整する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハを支持する板状セラミックス体において、ウェハ支持部材の大気側からウェハ支持部材の真空側に、真空保全性を損なうことなく電流が通過できるような、板状セラミックス体を貫通した、導電性且つ真空密封性の接続を提供する、簡便且つ実用的な解決法が存在しなかった。
【解決手段】板状セラミックス体の一方の主面をウェハを載せる載置面とするとともに、該載置面に導電層を備え、該導電層は、上記載置面とは異なる面に形成した通電層、及び上記板状セラミックス体に埋設した埋設導電層を介して、上記板状セラミックス体の他方の主面に備えた通電端子に接続する。 （もっと読む）

シリコンウエハにイオン注入するための、イオン注入機のような低圧又は真空圧でワークピースを処理するためのツールを使用する移送システム。筐体は、低圧領域内のワークピース処理ステーションに置かれたワークピースを処理する低圧領域を定める。二段の、複数のワークピース分離ロードロックは、ワークピースを高圧領域から処理するための低圧領域へ移送し、上記処理後、高圧領域へ戻す。第1のロボットは、低圧領域内のワークピースを、ロードロックから低圧領域内の処理ステーションへ移送する。低圧領域の外側に位置する複数の他のロボットは、ワークピースを処理前に上記ワークピース源から、二段のワークピース分離ロードロックと往復移送し、上記処理後、ワークピースの行き先へ移送する。
（もっと読む）

基板処理装置はチャンバと、処理モジュールの略リニアなアレイと、基板移送部と、駆動システムとを有している。該チャンバは外部雰囲気から分離されることが可能である。該アレイの各処理モジュールはチャンバに連絡自在に結合されており、よって基板がチャンバと処理モジュールとの間で移送されることを可能にする。該基板移送はチャンバ内に位置しており、移動自在にそれに支持されている。移送部はチャンバによって画定されるリニア経路に沿って移動可能であり、基板を処理モジュール群の間で移送する。駆動システムはチャンバに結合されており、移送部を駆動してリニア経路に沿って移動せしめる。チャンバは順に当接する選択可能な数量のチャンバモジュールからなり、よってチャンバを画定する。各モジュールは駆動システムの一体部分を有している。
（もっと読む）

【課題】イオン注入むらや吸着力の低下がなく、被処理体の表面における蓄積電荷量を一定に維持した静電チャックを提供する。
【解決手段】保持面１２を有する誘電体層１３内に、保持面１２に平行な平面を有する単極の平面電極１４を埋設した載置台を有する。誘電体層１３には貫通孔１５が形成され、この貫通孔１５内に先端が保持面１２に延びる導電性針１６が挿入される。平面電極１４にはスイッチ１７を介して直流電源１８が、導電性針１６にはスイッチ１９を介して直流電源２０が接続される。直流電源２０からの電圧は導電性針１６を介して半導体ウェハ１１に直接印加され、半導体ウェハ１１と平面電極１４で挟まれた誘電体層１３間の静電容量による静電力が半導体ウェハ１１に作用して、半導体ウェハ１１は誘電体層１３に吸着される。 （もっと読む）

装置は半導体ウェハのような物体を正確に制御された位置で処理する。物体（１９）は経路に沿って移動可能な作業テーブル（１２）上に支持される。作業プラットフォーム（１２）に取り付けられた懸架アクチュエータ部（１４）は、経路に沿って支持構造上の軟磁素子（３４）の表面に面する極を有する軟磁コア（２４）と、極を介してコア（２４）を通じて流れ、且つ、軟磁素子（３４）を介して戻る磁界を発生するために電流を加えるための巻線（２０）とを含む。センサ（１７）は、位置基準素子（１６）に対する懸架アクチュエータ部（１４）の測定された位置を感知する。制御回路は、外部制御回路（４０）と、内部制御回路（４２）とを含む。外部制御回路（４０）は、感知結果を受信し、アクチュエータ部（１４）の測定された位置を所定値に規制するために、力設定点情報を決定する。内部制御回路（４２）は、力設定点情報を受信し、力設定点情報に従って、アクチュエータ部（１４）と支持構造（１０）との間に力を実現するために、電流を制御する。
（もっと読む）

【課題】絶縁性基板を吸着させるためのグラディエント力を効果的にその基板に発生させることができ、かつ吸着面がパーティクルあるいは異物により損傷を受けることを防止できる静電チャックを提供する。
【解決手段】電極３，４のすぐ上に被吸着基板５を設置できるようにすることで、静電チャックの吸着力を高める。更に、電極３，４には耐摩耗性のすぐれたチタン、チタンを含む化合物、酸化チタン、または窒化チタン若しくは炭化チタンなどの導電性のセラミックを用いることで被吸着基板５との接触による耐久性と、パーティクルなどの異物に対しての強固さを維持できるようにする。 （もっと読む）

半導体処理の構成材は基材および基材の上にある層を含む。層は組成物ＲｅＡ_ｙＯ_{１．５＋２ｙ}を有す、ここで、ＲｅはＹ、Ｌａ、ランタノイド族元素、またはそれらの組み合わせ、Ａは（Ｓｉ_１−ａＧｅ_ａ）、０．２５≦ｙ≦１．２且つ０≦ａ≦ｌである。
（もっと読む）

【課題】絶縁性の基板を吸着できる吸着装置を提供する。
【解決手段】表面が絶縁されている基体１０上に第１、第２の電極１１、１２を露出して設け、絶縁性の基板７が第１、第２の電極１１、１２表面に接触するか、非常に近接して配置されるようにする。第１、第２の電極１１、１２間には、空間変化率の大きな電場が形成されるので、グラディエント力により、基板７は吸着装置１表面に吸着される。グラディエント力の大きさは電場の変化率の大きさに依存しているので、第１、第２の電極１１、１２間に電圧を印加し、１．０×１０⁶Ｖ／ｍ以上の電場を形成するとよい。 （もっと読む）

【課題】 処理室の気密を保持する伸縮部材の温度低下を防止する。
【解決手段】 処理室２０１内にヒータユニット３２７が設けられる。このヒータユニット３２７は、処理室２０１底部から挿入される支持体（駆動軸）３７６によって昇降自在に支持される。この支持体３７６の外側にベローズ（伸縮部材）２７９が設けられる。ベローズ２７９は、支持体３７６の直線軸運動を許容しつつ、支持体３７６の処理室２０１への挿入部３７８をシールする。ベローズ２７９の外側に、ベローズ２７９と空間３８８を介して、筒状加熱手段３８０をベローズ２７９と同軸的に設ける。この筒状加熱手段３８０を、ベローズ２７９の伸縮にともなって伸縮するように、はめ込み式の２つの筒状ヒータ３８１、３８２で構成する。 （もっと読む）

【課題】 サセプタ装置と板状試料との間の熱伝導特性が大きく変化することがなく、パーティクルの発生も少なく、板状試料の裏面へのパーティクルの付着を防止することが可能であり、さらに、サセプタ装置を静電チャックとして用いた場合においても、静電吸着力が変動したり、電圧印加中止後の離脱性が変化することもないサセプタ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のサセプタ装置は、基体の一部を構成する誘電体板２１の上面に複数の突起部３１を設け、これらの突起部３１それぞれの頂面３１ａに複数の微小突起部３２を設け、これら微小突起部３２それぞれの頂面３２ａを板状試料Ｗを載置する載置面としたことを特徴とする。 （もっと読む）