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Fターム[5F033VV05]の内容

半導体集積回路装置の内部配線 (234,551) | 配線の用途 (10,506) | 接地線 (304)

Fターム[5F033VV05]に分類される特許

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【課題】規格により規定された速度による信号の転送を実現し、半導体装置やそれを内蔵した電子機器の誤動作を防止する。
【解決手段】第1の半導体素子101の導体配線層106に、パッケージ基板100の信号端子103と第2の半導体素子102の信号端子117とを接続する信号線導体113aと、パッケージ基板100の電源端子104と第2の半導体素子102の電源端子118とを接続する電源導体114とを、信号線導体113aが導体配線層106において、信号線導体113aとの間に水平方向に一定の間隔をあけて隣接する電源導体114に挟まれるように形成する。 (もっと読む)


【課題】表示パネルに設けられるパッド部として適した構造を提供することを目的の一と
する。酸化物半導体の他、絶縁膜及び導電膜を積層して作製される各種用途の表示装置に
おいて、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することを目的の一とする。
【解決手段】走査線と信号線が交差し、マトリクス状に配列する画素電極層と、該画素電
極層に対応して設けられた画素部を有し、該画素部に酸素の含有量が異なる少なくとも二
種類の酸化物半導体層とを組み合わせて構成される逆スタガ型薄膜トランジスタが設けら
れた表示装置である。この表示装置において画素部の外側領域には、走査線、信号線を構
成する同じ材質の導電層によって、画素電極層と対向する共通電極層と電気的に接続する
パッド部が設けられている。 (もっと読む)


【課題】フリップチップ接続時における腹打ち現象を防止し、プローブテスト時のダメージに対する耐性を低下させることなく、配線のレイアウトの自由度を向上させる。
【解決手段】半導体チップは、外部素子と接続するパッド部15,25が形成されると共に、電源/GND配線16として利用されるパッドメタル層12と、パッドメタル層12と回路領域とを接続する複数の配線層13と、フリップチップ接続面5の周辺部に設けられプローブテストに利用される周辺パッド部15を含み、パッドメタル層12と少なくとも1つの配線層13とからなる積層構造を有する周辺パッド層18と、フリップチップ接続面5の周辺部より内側に設けられプローブテストに利用されない内部パッド部25を含み、パッドメタル層12のみからなる単層構造を有する内部パッド層28とを備える。 (もっと読む)


【課題】ヒューズ(FUSE)を備えた半導体装置の信頼性を向上する。
【解決手段】半導体基板11の主面上に形成にされた多層配線を構成する層M1〜M6のうちの層M4に設けられた電気溶断型の救済用のヒューズ4aおよび試験用のヒューズ4bと、ヒューズ4aの近傍であって層M2および層M6に設けられた一対の導電板10aと、ヒューズ4bの近傍であって層M3および層M5に設けられた一対の導電板10bとから構成する。ヒューズ4bと導電板10bとの間が、ヒューズ4aと導電板10aとの間より近いものとする。 (もっと読む)


【課題】安定した特性のヒューズ素子を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置100は、基板10と、基板10の上方に形成され、空洞部20を画成する被覆構造体30と、空洞部20に収容されたヒューズ素子40a,40b,40cと、を含み、被覆構造体30は、導電層を有し、ヒューズ素子40a,40b,40cの材質は、導電層の材質と同じである。 (もっと読む)


【課題】 チップ面積を縮小可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】 電源配線105とパッド103とは第1の配線層に配される。そして、電源配線105とパッド103とは互いに重ならないように配される。信号配線106a、106bは第2の配線層に配される。信号配線107は第2の配線層とは異なる層に配される。信号配線107は、パッド103と重なるように、パッド103の下部に配される。信号配線106と信号配線107とは、プラグ108によって互いに接続される。パッド103と信号配線107との間に緩衝部109が配される。 (もっと読む)


【課題】高出力の高周波信号の影響を抑制することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、電子回路が設けられた主面を有する半導体基板10と、前記主面の上に絶縁膜2,3,4を介して設けられたパッシブ回路30と、を備える。そして、前記半導体基板と前記パッシブ回路との間に前記パッシブ回路から絶縁されて設けられ、前記主面に平行な少なくとも1方向に流れる電流を遮断する間隙45を有した第1の導体層40と、前記第1の導体層と前記パッシブ回路との間に、前記第1の導体層および前記パッシブ回路から絶縁されて設けられ、前記主面に平行な少なくとも1方向に流れる電流を遮断する間隙55を有し、前記パッシブ回路から見た前記第1の導体層の間隙を覆う第2の導体層50と、を備える。 (もっと読む)


【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線上の第1の絶縁層と、前記第1の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第2の絶縁層と、前記第2の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】 相互接続ラインを形成するための新規な方法を提供する。
【解決手段】 細線相互接続部(60)は基体(10)の表面内又はその上に形成された半導体回路(42)の上に位置する第1の誘電体層(12)内に設けられる。パシベーション層(18)は誘電体層の上に付着され、第2の厚い誘電体層(20)はパシベーション層の表面上に形成される。厚くて幅広い相互接続ラインは第2の厚い誘電体層内に形成される。第1の誘電体層はまた、基体の表面上に付着されたパシベーション層の表面上に幅広くて厚い相互接続ネットワークを形成するように、省略することができる。 (もっと読む)


【課題】例えばクラック発生などに起因する大量生産段階での低歩留りという問題を防止できる半導体集積回路を提供する。
【解決手段】パッドメタルの下に回路を有する半導体集積回路において、パッド開口部分のパッドメタルの少なくとも下全面に、互いに同一の電位を有する配線メタルを形成し、当該配線メタルの電位を上記パッドメタルと異なる電位に設定した。また、上記配線メタル、及び上記配線メタル以外の電位を有する別の配線メタルは、上記パッドメタルよりも下層に形成される。さらに、上記半導体集積回路の複数のパッドにおいて、バッド開口部分のパッドメタルの少なくとも下全面に形成された複数の配線メタルは互いに同一の電位に設定される。 (もっと読む)


【課題】ソース電極からビアホールまでの距離をさらに短くし、インダクタンスの影響をできる限り低下させる増幅装置を提供する。
【解決手段】電力増幅装置は、接地のためのビアホールと接続する接地部と、接地部を接続するソース電極接地導体と、ソース電極接地導体に連結したソース電極と、ソース電極接地導体に接触しない内側ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、内側ソース電極と接地部とを直接接続する接地ブリッジと、を備える。 (もっと読む)


【課題】チップ面積を拡大することなく信頼性の高い配線レイアウトを実現する。
【解決手段】信号線S1〜S3と電源線VDD1,VSS1がY方向に延在する下層配線層と、信号線S4〜S6と電源線VDD2,VSS2がX方向に延在する上層配線層と、対応する信号線が重なり合うオーバーラップ領域OL1に設けられたビア導体VE1と、対応する電源線が重なり合うオーバーラップ領域OL2,OL3に設けられたビア導体VE2,VE3とを備える。領域OL1のX方向における幅は、領域OL2,OL3のX方向における幅よりも広く、これにより、領域OL1には複数のビア導体VE1a,VE1bが設けられる。また、電源線VDD1,VSS1は、領域OL1との干渉を避けるようY方向に分断されている。複数の下層配線は、一つのビアを含むミニマムピッチで2つのビアを配置している。 (もっと読む)


【課題】異なる電位に対応する複数の外部電源配線間に間隔部分を有する半導体装置に対して,所定電源ピン数のテスタにより短絡試験を行う場合において,より多くの半導体装置の短絡試験を同時に行うことができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は,コア回路と,該コア回路の周囲に配置され且つコア回路と外部装置間の信号を入出力する複数の入出力回路と,複数の入出力回路のうちの第一の入出力回路グループに第一の電位の電源を供給する第一の電源配線と,複数の入出力回路のうちの第二の入出力回路グループに第二の電位の電源を供給し且つ第一の電源配線と間隔をあけて直列に延びる第二の電源配線と,第三の電位の電源を供給する第三の電源配線とを備え,第三の電源配線から延びる配線パターンが,第一の電源配線と第二の電源配線間の間隔部分に設けられる。 (もっと読む)


【課題】コプレーナ線路の信号線路とエアブリッジとの交差容量の影響を抑制しつつ、複数のエアブリッジを容易に使用できるようにする。
【解決手段】エアブリッジ構造100のうち、下層配線層8に、接地線路2A,2Bのうち信号線路1を挟んで互いに対向する位置を切り欠いて形成した空孔領域12A,12Bをそれぞれ設けるとともに、上層配線層7に、空孔領域12Aの上部位置に下層配線層8の接地線路2Aと電気的に接続された上層接地電極13Aと、空孔領域12Bの上部位置に下層配線層8の接地線路2Bと電気的に接続された上層接地電極13Bとを設け、エアブリッジ3で、上層接地電極13A,13Bを介して接地線路2A,2B間を電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】センシング部を複数の基板で封止した半導体装置において、基板の平面方向に配線を設けたとしても、配線のレイアウトを簡略化することができる構造、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】キャップ部300は、センサ部100に設けられた第1固定部と第2固定部とを電気的に接続したクロス配線部323を備え、クロス配線部323はキャップ部300の一面301に配置されたクロス配線322を備えている。また、キャップ部300は、キャップ部300を貫通し、一端がクロス配線322に電気的に接続され、他端がキャップ部300の他面302に配置された貫通電極344を備えている。これにより、貫通電極344を介してクロス配線322の電位、すなわち、センサ部100の第1固定部および第2固定部の電位をキャップ部300の他面302に取り出すことができる。 (もっと読む)


【課題】半導体基板に設けられた穴に、絶縁体を介して2つの導電体を充填してなる電極部を有する半導体装置において、2つの導電体間の容量を大きくするのに適した構成を提供する。
【解決手段】半導体基板10の第1の領域1には、表面11に開口する複数個の有底穴20が設けられ、第2の領域2には貫通穴30が設けられ、有底穴20は貫通穴30よりも小さい穴幅を有する。絶縁体50を両導電体40、60で挟んでなる積層構造体が、有底穴20および貫通穴30に充填され、さらに、第1の領域1において複数個の有底穴20間にて連続して形成されており、第1の領域1は、当該積層構造体による容量形成部として構成される。有底穴60における各導電体40、60は、それぞれ貫通穴30における各導電体40、60に電気的に接続されて、半導体基板10の表裏両面11、12に取りだされている。 (もっと読む)


【課題】不良箇所を容易に特定し得る半導体装置及びその形成方法並びにその設計方法を提供する。
【解決手段】配線パターン32aと、ダミーパターン32bと、一方の端部が配線パターンに電気的に接続され、他方の端部がダミーパターンに電気的に接続されたヒューズ32cとを有している。 (もっと読む)


【課題】信号線の上面に微小な凹凸が形成されても、伝送線路の伝送特性が劣化することを抑制できるようにする。
【解決手段】信号線522は、多層配線層400及び再配線層500の第a層(a≧2)に形成されている。プレーン配線444は多層配線層400及び再配線層500の第b層(b<a)に形成されており、平面視で信号線522と重なっている。2つのコプレーナ配線524は多層配線層400及び再配線層500の第c層(b≦c≦a)に形成されており、平面視で信号線522と平行に延伸しており、かつ信号線522を挟んでいる。信号線522からプレーン配線444までの距離hは、信号線522からコプレーナ配線524までの距離wより短い。信号線522の上方のうち、信号線522からwと同じ高さの範囲内には、電源線、グランド線、及び他の信号線が位置していない。 (もっと読む)


【課題】チップサイズを縮小し、再配線層の配線を容易にすることが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】略矩形のLSI基板1の上面に、パッド電極4a1、4a2、4c1を被覆する絶縁膜3a、3bが設けられ、前記絶縁膜3b上に、前記パッド電極4a1、4a2、4c1の何れかに接続された第1のコンタクト配線7a1、7a2、7c、および前記第1のコンタクト配線7a1、7a2に接続された再配線8b1、8b2が設けられ、第1の再配線エリア3上に設けられたボール電極2b、2cと、第1のパッド電極4c1が上面の端部に設けられたLSIコア1a3と、前記第1のパッド電極4c1に接続された第2のコンタクト配線9b1に接続された配線層6b1と前記パッド電極4a1、4a2のうちの第2のパッド電極4a1とに接続された第3のコンタクト電極9b2が形成され、前記LSIコア1a3に隣接した第2の再配線エリア1a2、とを有する。 (もっと読む)


【課題】低電位領域と高電位の配線が交差することの無い優れた耐圧性能を示す半導体装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の半導体装置は、ロジック回路(501)と、ロジック回路からの制御信号に従い低電位側パワー素子を駆動する低電位側駆動回路(502)と、ロジック回路からの制御信号がレベルシフト回路を介して入力され、高電位側パワー素子(506)を駆動する高電位側駆動回路(505)と、複数に重なったトレンチ分離領域により、前記高電位側パワー素子を含む高電位島を分離する多重トレンチ分離領域(508)と、を有する。 (もっと読む)


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