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Fターム[5F038BH19]の内容

半導体集積回路 (75,215) | 保護、誤動作 (9,078) | 対象 (3,895) | 誤動作(ソフトエラー、ノイズ等) (1,289)

Fターム[5F038BH19]に分類される特許

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【課題】半導体集積回路装置において、レイアウトの面積効率の低下を抑制可能となる、マルチハイトセルのレイアウト構造を提供する。
【解決手段】標準論理セル10は、電源配線または接地配線となるメタル配線12を共有するようにY方向に隣接して配置された第1および第2回路領域A1,A2を備えている。X方向において、第1回路領域A1の両端部の位置x1a,x1bと第2回路領域A2の両端部の位置x2a,x2bとは、少なくともいずれか一方が異なっている。すなわち、標準論理セル10の外形形状CFは、第1および第2回路領域A1,A2の外形形状が矩形であるにもかかわらず、非矩形となっている。 (もっと読む)


【課題】キャパシタの電極として機能する配線の延伸方向への電流供給を容易とすること。
【解決手段】第1金属層12と、前記第1金属層の膜厚方向に離間して設けられ、第1方向および前記第1方向に交差する第2方向に配列された複数の孔36を備えた第2金属層14と、前記第2金属層の膜厚方向で前記第1金属層とは反対側に離間して設けられ、前記第1方向および前記第2方向とは異なる方向に延伸し、第1配線と第2配線とが交互に設けられた複数の第1配線16aおよび複数の第2配線16bと、前記複数の第1配線と前記複数の第2配線との間に設けられた誘電体膜26と、前記複数の第1配線を、それぞれ前記複数の孔を通過し前記第1金属層に電気的に接続する複数の第1ビア配線32と、前記複数の第2配線を、それぞれ前記第2金属層に電気的に接続する複数の第2ビア配線34と、を具備するキャパシタ。 (もっと読む)


【課題】実システム動作中に電源状態を監視できる手段を提供する。
【解決手段】半導体集積回路は、発振器14と、電源電圧に応じて発振周波数が変化するリング発振器11と、発振器14の信号に基づいて、所定の判定期間を計測するインターバルタイマ13と、判定期間にリング発振器11が発振する発振周波数を測定する周波数測定用カウンタ12と、発振周波数の上限値と下限値とを保持する不揮発性メモリ15と、カウンタが測定した発振周波数が、不揮発性メモリ15が保持する上限電圧/下限電圧の判定コードの範囲内であるかを判定し、判定結果を出力する電圧判定回路16と、を備える。 (もっと読む)


【課題】セル高さが低減した場合であっても、容量セルの容量値を十分に確保可能なレイアウト構成を提供する。
【解決手段】第1の電源電圧を供給する電源配線11が第1の方向に延びており、電源配線11と平行に、第2の電源電圧を供給する電源配線12および第3の電源電圧を供給する電源配線13が延びている。容量素子16は、ソースおよびドレインに第1の電源電圧が与えられ、ゲートに第2または第3の電源電圧が与えられるトランジスタによって構成されている。容量素子16は電源配線11の下に、電源配線12側の領域から電源配線13側の領域にわたって形成されている。 (もっと読む)


【課題】複数のスパイラルを直列に接続してインダクタを形成する場合において、スパイラルを大面積化することなく、スパイラルの巻線を長くする。
【解決手段】インダクタ10は、第1スパイラル100及び第2スパイラル200を有している。第1スパイラル100は、インダクタ10の巻軸と平行な第1の方向から見た場合、中心から外側に向かって巻かれている。第2スパイラル200は、第1の方向から見た場合、外側から中心に向かって、第1スパイラル100と同一の向きに巻かれている。第1スパイラル100及び第2スパイラル200は、外側の端部同士、または中心側の端部同士が、外側接続部材300又は中心側接続部材400を介して接続されている。第2スパイラル200は、第1スパイラル100を、巻軸を回転中心として右回りに90°回転させてから、巻軸に直交する平面に含まれる水平線を基準に鏡映させ、かつ縦横比を変更した形状である。 (もっと読む)


【課題】伝送線路を接続するビア層の周囲のグラウンドを強化することができると共に、ビア部の特性インピーダンスを調整することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】絶縁層14を介して積層された第1の半導体基体11及び第2の半導体基体21と、第1の半導体基体11に形成され、信号線12とグラウンド13とを含む第1の伝送線路と、第2の半導体基体21に形成され、信号線22とグラウンド23とを含む第2の伝送線路と、第1の伝送線路の信号線12及び第2の伝送線路の信号線22に接続された信号線用のビア層と、第1の伝送線路のグラウンド13及び第2の伝送線路のグラウンドに接続された、グラウンド用の第1のビア層と、第2の伝送線路のグラウンド23に接続され、かつ、信号線用のビア層に対向して形成された帯状のビア層を含む、グラウンド用の第2のビア層16を有する半導体装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】基板裏面側にグラウンドプレーンと信号配線との絶縁構造を構成しなくてもすみ、かつ、寄生インダクタンスをゼロに近づけられるようにする。
【解決手段】外側導体2aと中心導体2cとの間に誘電体2bを配置し、外側導体2aを下面配線層6に直接接触させると共に、誘電体2bを中心導体2cの先端に残す。これにより、中心導体2cと外側導体2aとの間の誘電体2bを通じてノイズが流れる。よって、キャパシタ構造部2と下面配線層6との間の寄生インダクタンス成分や寄生抵抗成分をゼロに近づけられ、キャパシタ構造部2でフィルタリングされたノイズをより除去できる。また、中心導体2cが誘電体2bを貫通していないため、中心導体2cと接続するための配線層をシリコン基板1の裏面側に形成しなくても済む。このため、シリコン基板1の裏面側にはグラウンドプレーンとなる下面配線層6のみ形成すれば良く、多層配線等の複雑な工程が不要となる。 (もっと読む)


【課題】オン抵抗が低く、ノイズの発生が抑制された半導体装置を提供する。
【解決手段】実施形態の半導体装置は、ドレイン層と、ドレイン層の表面から内部にかけてトレンチ状に設けられたドリフト領域と、ドリフト領域の表面から内部にかけてトレンチ状に設けられたベース領域と、ベース領域の表面から内部にかけてトレンチ状に設けられたソース領域と、ドレイン層の裏面に対して略平行な方向に、ソース領域の一部からソース領域の一部に隣接するベース領域を貫通してドリフト領域の一部にまで到達する第1トレンチ内に、ゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、ドレイン層の表面から内部にかけて設けられた少なくとも1つの第2トレンチ内に第1絶縁膜を介して設けられた第1抵抗体層と、ドレイン電極と、ソース電極と、を備える。第1抵抗体層は、ソース電極に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】誘導素子と容量素子とを含み、渦電流の発生を防ぎ、適切なシールド効果を備え、且つ効率的な配置を実現した電気回路を提供する。
【解決手段】電気回路は、ある領域を少なくとも部分的に囲む配線を有する誘導素子と、配線の内側の領域又は外側の領域の一方の領域において配線に略垂直な方向に延びる櫛形電極を有する第1の容量素子と、一方の領域以外の領域において、配線に略垂直な方向に延びる櫛形電極を有する第2の容量素子及び配線に略垂直な方向に延びるシールド線を有するシールドの少なくとも一方とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】パッケージの使用する端子を変更するときに、無駄な電力を消費せず、且つチップの設計を容易にして、値が不定な信号を生じないようにすることを目的とする。
【解決手段】本発明の集積回路1は、チップ3を搭載したパッケージ2に形成した入力、出力または入出力を行う端子11〜13と、チップ3に設けた機能ブロック4に端子11〜13からの信号を入力する入力バッファ31B〜33Bと機能ブロック4から端子11〜13に信号を出力する出力バッファ31C〜33Cとのうち少なくとも出力バッファ31C〜33Cを有するバッファ部31〜33と、端子11〜13が使用されていないときに、値が固定された固定信号を出力バッファ31C〜33Cに出力させる固定信号制御部41〜43と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】容量素子を備え、電気的特性の安定化が可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基体1上の配線層に形成されている配線と絶縁層とからなる容量素子10を備える。そして、容量素子10の形成領域内の半導体基体11上に形成されている導体パターンと、導体パターンの電位を固定するための電位固定端子28とを備える半導体装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】高周波回路のワンチップ化を実現し、上層回路と下層回路との間におけるアイソレーション特性を向上し、かつ量産性の高い無線通信デバイスを提供する。
【解決手段】RFICと、キャパシタ32と、インダクタ24とが積層配置され、キャパシタ32の少なくとも一部がRFICとインダクタ24との間に位置するようにして前記RFICに対して積層して実装される受動素子チップ12と、を備えることを特徴とする。このような特徴を有する無線通信デバイスでは、受動素子チップ12は、キャパシタ32の上部電極26を構成する金属パターンとインダクタ24を構成する金属パターンとを横並びに備え、キャパシタ32の下部電極を構成する下層金属パターン18をインダクタ24を構成する金属パターンの下部にまで延設して構成すると良い。 (もっと読む)


【課題】入出力(I/O)積層体を含むシステムを提供する。
【解決手段】入出力(I/O)積層体を含むシステム及びこのシステムを製造する方法が記述されている。一実装において、本方法は、I/O素子を含むと共に論理素子を含まないI/Oダイを積層するステップを有する。又、一実装において、本方法は、I/Oダイに対して集積回路ダイを積層するステップを更に含む。集積回路は、論理素子を含み、且つ、I/O素子を含まない。集積回路ダイからI/Oダイを分離することにより、それぞれのダイの独立的な開発や従来のダイのものとの比較におけるI/OダイのI/O基板上のI/O素子用の相対的に大きな空間などの様々な利益が得られる。空間の増大により、多数の論理素子を集積回路ダイの基板の同一の表面積内に収容する集積回路ダイの新しいプロセス世代が可能となる。 (もっと読む)


【課題】 半導体集積回路に電源ノイズが発生した場合に電源配線のインピーダンスおよび電源電圧を低下させることができ、これにより電源ノイズ振幅を抑えかつ消費電力を低減させることが可能な半導体集積回路の電源制御システムの提供。
【解決手段】 可変電圧源2と、その電源が供給される半導体集積回路3,4と、可変電圧源を制御する電源制御回路1とを含み、半導体集積回路は、インダクタンス31と内部素子容量43bとから構成される並列共振回路と、並列共振回路の電源配線上に設けられる可変抵抗41と、可変電圧源から並列共振回路に供給される電圧と基準電圧とを比較しその比較結果を出力する電圧センサー42とを含んでおり、電源制御回路は、電源配線に流れる信号の周波数に応じて可変抵抗の値を選択し、電圧センサーの出力結果に応じて可変電圧源に所定の電圧値を設定する。 (もっと読む)


【課題】特性の良好な半導体装置を形成する。
【解決手段】薄膜領域TA1中に第1の素子領域、第2の素子領域および第1の分離領域を有し、厚膜領域TA2中に第3の素子領域、第4の素子領域および第2の分離領域を有する半導体装置を次のように製造する。(a)絶縁層1bを介してシリコン層1cが形成された基板を準備する工程と、(b)基板の第1の分離領域および第2の分離領域のシリコン層中に素子分離絶縁膜3を形成する工程と、を有するよう製造する。さらに、(c)薄膜領域TA1にハードマスクを形成する工程と、(d)ハードマスクから露出した、第3の素子領域および第4の素子領域のシリコン層上に、それぞれシリコン膜7を形成する工程と、(e)第3の素子領域および第4の素子領域のシリコン膜7間に、素子分離絶縁膜11を形成する工程と、を有するよう製造する。 (もっと読む)


【課題】入力の整合回路における損失の低減、並びに、回路の簡略化及び小型化が可能な電力分配合成器を提供する。
【解決手段】入力信号が入力される1次巻線としての環状の第1金属配線、及び、2次巻線としての複数の第2金属配線を有し、入力インピーダンスの整合をとるとともに、入力信号を複数の分配信号に分配する入力側トランスフォーマ120と、出力信号が出力される2次巻線としての環状の第3金属配線、及び、1次巻線としての複数の第4金属配線を有し、複数の分配信号を合成することで出力信号を出力するとともに、出力インピーダンスの整合をとる出力側トランスフォーマ130とを備え、入力側トランスフォーマ120が有する金属配線と出力側トランスフォーマ130が有する金属配線とは、互いに異なる金属配線層を用いて構成され、かつ、平面視した場合に交差している。 (もっと読む)


【課題】回路モジュール毎に電力供給のオン/オフを切り換える電源制御機能を有する半導体集積回路であって、回路規模及び配線規模の増加を極力抑えながら、ある回路モジュールへの電力供給のオン/オフを切り換える際に発生するインラッシュ電流による影響を根本的に除去する。
【解決手段】電源制御機能を有する半導体集積回路1は、回路モジュール11,12,21,22と電源制御回路3とを含む。回路モジュール21,22への電力供給は、電源制御回路3の制御下でオン/オフ制御される。電源制御回路3は、1つの回路モジュールへの電力供給のオン/オフを切り換えるとき、他の回路モジュールに、当該他の回路モジュールの内部におけるデータ転送を停止させるように制御する。 (もっと読む)


【課題】基板を貫通するトレンチによって複数の部分領域に分割されてなる領域分割基板およびそれを用いた半導体装置ならびにそれらの製造方法であって、部分領域の側壁に導電層を形成するメリットだけを享受して、該導電層の形成に伴う悪影響を排除することのできる領域分割基板およびそれを用いた半導体装置ならびにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基板30の第1表面S1から第2表面S2に亘って、当該基板30を貫通するように形成されたトレンチ31aによって、当該基板30が複数の部分領域Ce,Cea〜Ced,Cek,Celに分割され、前記複数の部分領域のうち、一部の部分領域Cea〜Cedの側壁に、第1表面S1の側から第2表面S2の側に亘って、当該基板30より高い導電率を有する導電層35が形成され、トレンチ31aに絶縁体31bが埋め込まれてなる領域分割基板A20とする。 (もっと読む)


【課題】センス電流を抵抗で検出する場合であっても、カレントミラー回路を用いて検出する場合であっても、誤検出や電流検出精度の低下を起こさないパワーモジュールを提供する。
【解決手段】IGBT1の電流センス素子STのセンスエミッタにエミッタが接続されたトランジスタQ5と、トランジスタQ5のコレクタに一方端が接続され、他方端が共通接続部BPに接続された電流検出抵抗SRとを有し、トランジスタQ5のベースがGNDに接続された電流検出回路C3と、電流検出抵抗SRによって発生する共通接続部BPを基準とした電位差を電流検出電圧Vsとして検出し、所定の閾値電圧との比較を行い、両者の大小関係によってIGBT1に過電流が流れているか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】マルチフィンガーFETセル内のループ発振を抑制させ、かつチップ面積の増大を抑制する。
【解決手段】ユニットフィンガーの並列接続からなるマルチフィンガー単位FETセルと、マルチフィンガー単位FETセルのゲートフィンガーを並列接続する指定ゲートバスラインと、指定ゲートバスラインに接続されたゲート引き出しラインとを備え、ゲート引き出しラインと指定ゲートバスラインの接続点をマルチフィンガー単位FETセル内の中心からずらすことによって、接続点の一方に接続されたゲートフィンガー数が、他方に接続されたゲートフィンガー数よりも多くする。 (もっと読む)


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