【課題】シリンダ型下部電極の剥がれ落ちを防止する、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の第１の開口を有するコア絶縁膜を半導体基板上に形成し、複数の第１の開口の側面を導電膜で覆う、シリンダ状の複数の下部電極を形成し、少なくとも複数の下部電極間のコア絶縁膜の上面を覆うサポート膜を形成し、サポート膜を用いて少なくとも複数の下部電極が形成される領域の外側を除去したマスク膜を形成し、マスク膜を形成した後、複数の下部電極間の一部にコア絶縁膜が残るように、コア絶縁膜に対して等方性エッチングを行うものである。 （もっと読む）

【課題】広範囲、光分解能に周波数を可変することのできるクロック信号を生成する。
【解決手段】オペアンプＡＭＰ１は、正入力部と負入力部が等しい電圧となるようフィードバックがかかり、回路ノードｆｂｃｋは、参照電圧ＶＲＥＦＩに等しい電圧となる。デコーダＤＥＣは、制御信号ＣＮＴ７，ＣＮＴ６をデコードし、トランジスタＴ２〜Ｔ５のいずれか１つをオンさせる。この構成によって、回路ノードｆｂｃｋが、参照電圧ＶＲＥＦＩと同電位となるようフィードバック制御がかかるため、トランジスタＴ２〜Ｔ５のＯＮ抵抗を大幅に低減することができ、周波数精度の悪化を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体チップ内の銅配線が一部消失することを防ぐ。
【解決手段】上層プラグ一本当たりの下層の配線の面積が１００００μｍ^２以上になるような大面積の多層配線を有する半導体装置において、前記多層配線が半導体基板１Ｓの主面においてｎ型拡散層ＮＳを介してｐウエルＰＷに接続される構造を形成せず、前記多層配線をｐ型拡散層ＰＳを介してｐウエルＰＷに接続する構造、前記多層配線をｐ型拡散層ＰＳを介してｎ型拡散層ＮＳに接続する構造、前記多層配線をｎ型拡散層ＮＳを介してｎウエルに接続する構造、または半導体基板１Ｓ上に形成されたＭＩＳＦＥＴのゲート電極に接続する構造を形成する。 （もっと読む）

【課題】被保護回路を静電気放電から保護しつつ、周期性ノイズの印加によって被保護回路が誤動作することを抑制する静電気保護回路を提供する。
【解決手段】静電気放電から、被保護回路を保護する静電気保護回路であって、被保護回路への静電気放電の印加を抑制する抑制回路と、電圧レベルが周期的に変化する周期性ノイズが印加された際に、抑制回路の駆動をオフする制御回路と、を有する。 （もっと読む）

【課題】高出力の高周波信号の影響を抑制することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、電子回路が設けられた主面を有する半導体基板１０と、前記主面の上に絶縁膜２，３，４を介して設けられたパッシブ回路３０と、を備える。そして、前記半導体基板と前記パッシブ回路との間に前記パッシブ回路から絶縁されて設けられ、前記主面に平行な少なくとも１方向に流れる電流を遮断する間隙４５を有した第１の導体層４０と、前記第１の導体層と前記パッシブ回路との間に、前記第１の導体層および前記パッシブ回路から絶縁されて設けられ、前記主面に平行な少なくとも１方向に流れる電流を遮断する間隙５５を有し、前記パッシブ回路から見た前記第１の導体層の間隙を覆う第２の導体層５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】送信端子および受信端子に求められる特性を考慮して設計されたＦＥＴを有する高周波半導体スイッチを提供する。
【解決手段】高周波半導体スイッチ１０は、複数の電界効果型トランジスタ５０を有する。複数の電界効果型トランジスタ５０は、それぞれ、基板１００に間隔を置いて形成されたソース領域１３０およびドレイン領域１４０と、当該間隔上であって基板１００上に形成されたゲート１６０と、基板１００上に形成されソース領域に接続されるソースコンタクト１７２と、基板１００上に形成されドレイン領域１４０に接続されるドレインコンタクト１８２とを含む。受信端子側に接続される受信端子側トランジスタ５０ａのソースコンタクト１７２およびドレインコンタクト１８２間の距離Ｌｒは、送信端子側に接続される送信端子側トランジスタ５０ｃのソースコンタクト１７２およびドレインコンタクト１８２間の距離Ｌｔよりも長い。 （もっと読む）

【課題】回路面積の増大を抑え、回路ブロックに電源供給するための複数の電源スイッチをオンするための時間間隔を適切に制御できるようにする。
【解決手段】回路ブロックに対する電源供給を管理する電源管理ユニット１１と、回路ブロックＡ１２への電源供給を制御する複数の電源スイッチＰＳＷＡと、回路ブロックＡに供給する電源で動作し、その電位に応じた遅延を生成する遅延生成器１３とを備え、電源スイッチは、電源供給を行うためにオン状態に制御されるときに、電源管理ユニット及び遅延生成器１３の出力に基づいて回路ブロックＡに供給される電源電位に応じた時間間隔で順次オン状態にするようにして、電源スイッチをオンするための時間間隔を回路ブロックＡに供給される電源電位に応じて自動的に調整して電源供給を行う。 （もっと読む）

【課題】浅いトレンチ分離および基板貫通ビアの集積回路設計への統合を提供すること。
【解決手段】ＩＣを製造する方法は、第１の側、および第２の対向する側を有する基板を用意すること、基板の第１の側にＳＴＩ開口を形成すること、および基板の第１の側に部分的ＴＳＶ開口を形成すること、および部分的ＴＳＶ開口を延長することを含む。延長された部分的ＴＳＶ開口は、ＳＴＩ開口より基板内への深さが深い。方法はまた、ＳＴＩ開口を第１の固体材料で充填すること、および延長された部分的ＴＳＶ開口を第２の固体材料で充填することを含む。ＳＴＩ開口、部分的ＴＳＶ開口、または延長された部分的ＴＳＶ開口のいずれも、基板の第２の側の外面を貫通しない。少なくとも、ＳＴＩ開口および部分的ＴＳＶ開口は同時に形成され、またはＳＴＩ開口および延長された部分的ＴＳＶ開口は同時に充填される。 （もっと読む）

【課題】本発明では、上記のような問題を解消し、ｄＶ／ｄｔによる誤動作を防止しつつも、外部要因に左右されることのない汎用的な誤動作防止機能を有する半導体回路および半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる半導体回路は、ＯＮ駆動信号に応答してＯＮ駆動電荷を充電するコンデンサ４０と、ＯＦＦ駆動信号に応答してＯＦＦ駆動電荷を充電するコンデンサ４１と、ＯＮ駆動信号に応答して第１トリガー信号を発生させる信号発生回路２０と、ＯＦＦ駆動信号に応答して第２トリガー信号を発生させる信号発生回路２１と、第２トリガー信号に応答して、ＯＮ駆動電荷を放電する放電回路３０と、第１トリガー信号に応答して、ＯＦＦ駆動電荷を放電する放電回路３１とを備える。 （もっと読む）

【課題】出力トランジスタの形成領域から他の素子の形成領域への電子の移動を抑制する効果が高く、素子の誤動作を抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板ＳＵＢと、１対の注入元素子ＤＲと、アクティブバリア構造ＡＢと、ｐ型接地領域ＰＧＤとを備える。半導体基板ＳＵＢは主表面を有し、かつ内部にｐ型領域を有する。１対の注入元素子ＤＲは、ｐ型領域上であって主表面に形成される。アクティブバリア構造ＡＢは、主表面において１対の注入元素子ＤＲに挟まれる領域に配置される。ｐ型接地領域ＰＧＤは、主表面において１対の注入元素子ＤＲに挟まれる領域を避けて１対の注入元素子ＤＲおよびアクティブバリア構造ＡＢよりも主表面の端部側に形成され、かつｐ型領域に電気的に接続された、接地電位を印加可能な領域である。ｐ型接地領域ＰＧＤは、１対の注入元素子ＤＲに挟まれる領域と隣り合う領域において分断されている。 （もっと読む）

【課題】出力バッファにおいて発生したノイズが、他の出力バッファに伝搬することを防止し、且つ各出力バッファに安定した電源供給を行うことが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】外部電圧が供給される複数の電源パッド１１１，１１２と、複数のデータ出力パッド１１３，１１４と、複数の電源パッド１１１，１１２に共通接続された電源幹線４１１，４１２と、電源幹線から分岐した複数の分岐電源配線４１１Ｂ，４１２Ｂと、それぞれ対応する分岐電源配線４１１Ｂ，４１２Ｂから供給される電源電圧によって動作し、それぞれ対応するデータ出力パッド１１３，１１４を駆動する複数の出力バッファ７２と、複数の分岐電源配線４１１Ｂ，４１２Ｂにそれぞれ設けられたローパスフィルタ回路１０００とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体装置においてチップサイズに影響を与えないデカップリング容量を得る。
【解決手段】半導体装置は、基板１、１０と、高濃度拡散層領域１１と、第１ウェル４と、第２ウェル３とを具備している。基板１、１０は第１導電型である。高濃度拡散層領域１１は基板１、１０上に形成され、第１導電型である。第１ウェル４は基板１、１０上に形成され、高濃度拡散領域１１の一方側に設けられ、第１導電型である。第２ウェル３は基板１、１０上に形成され、高濃度拡散領域１１の他方側に設けられ、第１導電型と逆導電型となる第２導電型である。第２ウェル３と高濃度拡散領域１１との間、及び、第２ウェル３と基板１、１０との間でデカップリング容量が形成される。 （もっと読む）

【課題】同一基板上に混載された他の素子の誤動作を抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、ｐ形半導体層１２と、ｎ形のソース領域１３と、絶縁体２３と、ｎ形半導体領域２０と、ｎ形のドレイン領域１４と、ｐ形のチャネル領域１２ａと、ゲート絶縁膜１５と、ゲート電極１６と、ソース電極１８と、ドレイン電極１９と、電極２１とを備える。前記絶縁体は、前記ｐ形半導体層の表面から前記ｐ形半導体層の厚み方向に延びて形成されたトレンチｔ１内に設けられている。前記ｎ形半導体領域は、前記ドレイン領域と前記絶縁体との間の前記ｐ形半導体層の表面に設けられる。前記電極は、前記ｎ形半導体領域に接続される。 （もっと読む）

【課題】マルチプレクサとクロック分割回路との間における相互の電源ノイズの影響を低減する。
【解決手段】外部クロック信号ＣＫに基づいて内部クロック信号ＬＣＬＫ１を生成するＤＬＬ回路１００と、内部クロック信号ＬＣＬＫ１に基づいて、互いに位相の異なる内部クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂを生成するクロック分割回路２００と、内部データ信号ＣＤ，ＣＥに基づいて、クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂにそれぞれ同期した内部データ信号ＤＱＰ，ＤＱＮを出力するマルチプレクサ３００とを備える。クロック分割回路２００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ２とマルチプレクサ３００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ３は、互いに異なる電源回路８２，８３によって生成され、且つ、該半導体装置内で分離されている。これにより、相互にノイズの影響を及ぼし合うことがなくなる。 （もっと読む）

【課題】デュアル電圧パワーアイランドアーキテクチャにおいて、低いオフ状態リークを実現する事が可能な最適な減結合キャパシタンスのための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】チップの低電圧領域において、誘電体膜厚の異なる２つの異なるタイプのコンデンサが使用される。膜厚の薄いコンデンサは常時オン状態の領域で使用され、膜厚の厚いコンデンサーは条件付きで起動される領域で使用される。これによって低いオフ状態リークをで減結合コンデンサーを使用できる。 （もっと読む）

【課題】ドライバＩＣでのＥＭＩノイズを低減するためのＥＭＩノイズ低減用電源回路を提供することである。
【解決手段】本発明の回路は、入力ポートと、少なくとも１つの出力ポートとを備えて外部機器を駆動するドライバＩＣで、前記出力ポートに流入するＥＭＩノイズを低減するためのものであって、前記ドライバＩＣの前記少なくとも１つの出力ポートと、前記外部機器を接続する出力端との間に、それぞれ直列に配置される、少なくとも１つの抵抗を含む。 （もっと読む）

【課題】良好な伝送性能と小さい配置面積を両立可能なデータバスを備える半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、配線層Ｍ１、Ｍ２と、複数のデータ入出力端子と、Ｎ本のデータ線（ＤＵ、ＤＬ）を含むデータバスとを備え、Ｎ本のデータ線は所定の配線長の長短に応じた２種類のデータ線群を含む。配線層Ｍ１、Ｍ２にはデータ線（ＤＬ、ＤＵ）の各々に隣接する複数のシールド線（Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ）が配置され、各データ線（ＤＬ、ＤＵ）は、配線層Ｍ１、Ｍ２の積層方向で互いに重ならない位置に配置される。このような配線構造により、各データ線（ＤＬ、ＤＵ）の間のカップリング容量を抑え、データバスのクロストークを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】電力用半導体装置がＯＦＦ状態の時に電源電圧の急峻な増加が発生した場合であっても、出力トランジスタがＯＮすることを防止する。
【解決手段】本発明の電力用半導体装置は、電源端子と出力端子との間に接続された出力トランジスタと、出力トランジスタのゲートに接続された第１ノードを充放電し、出力トランジスタをＯＮ／ＯＦＦ制御するゲート充放電回路と、第１ノードと出力端子との間に接続されたショートスイッチ回路と、ショートスイッチ回路を制御するショート制御回路と、を備える。ターンオン期間、ＯＮ期間及びターンオフ期間において、ショート制御回路は、ショートスイッチ回路を介した第１ノードと出力端子との間の電気的接続を切断する。ＯＦＦ期間において、ショート制御回路は、ショートスイッチ回路を介して第１ノードと出力端子との間を電気的に接続する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハテスト後のウェーハ状態において所望の回路を印刷処理により容易に形成することが可能な半導体製造方法および半導体装置を提供することを課題する。
【解決手段】本発明に係る半導体製造方法は、ウェーハの被描画パターン形成領域に所定の深さを有する溝部を形成する工程、ウェーハに対してトリミング要否の検査を行う工程、前記ウェーハにおけるトリミング必要なウェーハの前記溝部に導電性溶剤を射出し描画パターンを描画する工程、描画パターンを描画した後、脱気および低温アニールする工程、脱気および低温アニールした成膜後、当該成膜表面を平坦化する工程、および平坦化した後、高温アニールする工程、を有する。 （もっと読む）

【課題】複数のトランジスタを均一に動作させ、低消費電力及び良好な歪特性を実現する。
【解決手段】高周波信号を増幅する電力増幅器１００であって、上部電極１２０ａ及び下部電極１２０ｂを有し、高周波信号が入力される整合容量１２０と、整合容量１２０の下部電極１２０ｂから出力される高周波信号を増幅する複数のトランジスタ１１０が所定の方向に並んで配置されているトランジスタ列とを備え、トランジスタ列に隣り合う領域において、トランジスタ列の両端から略等しい距離には、接地されたビアホール１７０が形成され、下部電極１２０ｂは、ビアホール１７０を挟んで高周波信号が均等に分配されるように配置されたマイクロストリップ線路であり、複数のトランジスタ１１０のベース端子に接続される。 （もっと読む）