【課題】本発明は、貫通電極のサイズ（直径）が縮小化された場合でも、４端子法により貫通電極の抵抗値を正確に測定することの可能な半導体チップ及びその抵抗測定方法、並びに半導体装置を提供することを課題とする。
【解決手段】半導体基板１０１及び回路素子層１０２を有する半導体チップ本体５５と、半導体チップ本体５５を貫通する第１乃至第４の貫通電極６１〜６４と、回路素子層１０２に設けられた回路素子を介することなく、第１の貫通電極６１と第２の貫通電極６２とを電気的に接続する第１の導電経路９６と、回路素子を介することなく、第１の貫通電極６１と第３の貫通電極６３とを電気的に接続する第２の導電経路９７と、回路素子を介することなく、第２の貫通電極６２と第４の貫通電極６４とを電気的に接続する第３の導電経路９８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 従来に比べて小型で、素子機能部間で、高い周波数の信号を高精度に伝送することができる集積型半導体装置を提供する。
【解決手段】
サファイア単結晶基板１０の一方主面１０Ａ上に配置された第１素子機能部２６と、一方主面上１０Ａに配置された第１アンテナ部２３と、他方主面１０Ｂに配置された第２素子機能部３６と、他方主面１０Ｂ上に配置された第２アンテナ部３３とを備え、第１素子機能部２６が第１アンテナ部２３に送信用電気信号を送り、第１アンテナ部２３が送信用電気信号に応じた電波を発信し、第２アンテナ部３３がサファイア単結晶基板１０を透過した電波を受信することで、高い周波数の信号を基板の上下面で高精度に処理することができる。 （もっと読む）

【課題】低損失で差動信号を伝送することができるリドライバＩＣ、半導体装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本実施の形態に係る半導体装置は、差動信号が伝送される差動配線が形成された配線基板１０と、配線基板１０に搭載され、外部機器に対して差動信号を送受信するコネクタ１１と、配線基板１０に搭載され、コネクタ１１から受信した差動信号を中継する受信系のリドライバＩＣ２１と、受信系のリドライバＩＣ２１と離間した位置において配線基板１０に搭載され、コネクタ１１に送信する差動信号を中継する送信系のリドライバＩＣ２０と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】 貫通ビアを用い積層した半導体装置においては、信号を伝送する貫通ビアがオープンやショートした場合に、その貫通ビアを回避して積層チップ全体を正常動作させるために、複雑な回路を構成が必要であった。
【解決手段】 信号を伝送する貫通ビアにおいて、ビアの内壁を構成するシリコンに高い不純物の領域を形成して貫通導体とシリコン基板が接触したときに基板に接続されているＶＳＳなどの基準電位に誘導する。故障モードを固定できるため、冗長化／復号化回路が簡単になるうえ、必要な冗長貫通ビアの本数を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】データ出力バッファの正確なインピーダンスキャリブレーション動作を行う。
【解決手段】電源ラインＶＬ１とデータ端子２４との間に接続されたＰ型トランジスタユニット２０１と、電源ラインＶＬ１とキャリブレーション端子ＺＱとの間に接続されたＰ型トランジスタユニット１１１〜１１４と、キャリブレーション端子ＺＱの電位が基準電位ＶＲＥＦと一致するよう、Ｐ型トランジスタユニット１１１〜１１４インピーダンスを調整し、一致した状態におけるＰ型トランジスタユニット１１１〜１１４の一つのインピーダンスをＰ型トランジスタユニット２０１に反映させるインピーダンス制御回路とを備える。これにより、基準電位ＶＲＥＦが電源電位ＶＤＤの半分のレベルからオフセットしたレベルに設定されている場合であっても、正確なキャリブレーション動作を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】マルチＩＣデバイスをテストするための方法および装置を提供する。
【解決手段】集積回路は、入力信号を受け取るように構成される第１の入力相互接続と、テスト・イネーブル信号を受け取るように構成される第１のテスト・イネーブル相互接続と、前記入力信号に対応する値に基づいて該集積回路のテストを実行するためのコントローラと、入力ポートと、前記第１の入力相互接続、前記コントローラ、および前記入力ポートに結合され、前記テスト・イネーブル信号がアサートされていないことに応答して前記入力信号を前記入力ポートに渡し、前記テスト・イネーブル信号がアサートされていることに応答して前記入力信号を前記コントローラに渡すように制御可能である第１のマルチプレクサとを備える。 （もっと読む）

【課題】プローブ針を接触させる外部端子の数を抑制してＤＣテストを行うことが可能な半導体集積回路を提供すること
【解決手段】本発明にかかる半導体集積回路は、入出力端子Ｐ１を介して外部にデータを出力する出力バッファ２１と、外部から入出力端子Ｐ１を介してデータが入力される入力バッファ２２と、入出力端子Ｐ１と入力バッファ２２の入力との間の信号線上のノードＮ１と第１入力端子Ｔ１との間に設けられたスイッチ２６と、外部から第２入力端子Ｔ２に供給される第２基準電位とノードＮ１の電位とを比較して比較結果を出力する比較部２３と、入力バッファ２２から出力されるデータと比較部２３の比較結果との何れかを選択しテスト結果として出力する選択部５２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成でありながらも動的で高分解能の電圧制御可能な半導体集積回路、電子機器及びマルチチップ半導体パッケージを提供すること。
【解決手段】電子機器１００は、電源ＩＣ１１０と、電源ＩＣ１１０から出力される電源電圧Ｖｓｒｃで動作するＳｏＣ＃０〜２とを備える。ＳｏＣ＃０〜２は、三次元実装されたマルチチップ半導体パッケージに搭載される。ＳｏＣ＃０〜２は、第３の端子１２３から入力されるアナログ制御信号の電位と、内部配線１２４の電位とに基づいて、第２の端子１２２から出力するアナログ制御信号を生成する電位制御回路１２５と、電源フィードバック（ＦＢ）電圧入力端子である第２の端子１２２及び第３の端子１２３と、を備える。ＳｏＣ＃０〜２は、ＦＢ出力端子ＦＢ_out／ＦＢ入力端子ＦＢ_inをカスケード接続し、最終段のＳｏＣ＃０のＦＢ出力を電源ＩＣ１１０に接続している。 （もっと読む）

【課題】クランプ電圧を正確な値に設定できる半導体集積回路を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の電圧である電源を供給されて定電流を発生する定電流部６０と、定電流部６０で発生された定電流を供給されて第１の電圧より低い第２の電圧を発生し、第１の電圧の電源を第２の電圧にクランプするクランプ部７１と、クランプ部７１でクランプされた電源を供給されて基準電圧を発生する基準電圧発生部７２とを有し、クランプ部７１は、ゲートとドレインに接続され縦型接続された複数段のＭＯＳトランジスタＭ１１−１〜Ｍ１１−ｎである。 （もっと読む）

【課題】高耐圧の能動素子を含む回路と低電圧で動作するロジック回路とが同一基板上に混載された半導体装置を低コストで実現する。
【解決手段】半導体装置が、ロジック回路５０と、能動素子回路とを具備している。ロジック回路５０は、半導体基板１に形成された半導体素子２を備えている。該能動素子回路は、半導体基板１の上方に形成された拡散絶縁膜７−１の上に形成された半導体層８−１、８−２を用いて形成されたトランジスタ２１−１、２１−２を備えている。この能動素子回路がロジック回路５０により制御される。 （もっと読む）

【課題】スタックエラーを測定することのできる三次元集積回路を提供する。
【解決手段】三次元集積回路１００は、第１ウェハ１１０および第２ウェハ１２０を含む。第１ウェハ１１０は、第１導電パターン１１２を含む。第２ウェハ１２０は、第２導電パターン１２２を含み、第１導電パターン１１２に電気接続される。第１ウェハ１１０と第２ウェハ１２０の間の変位は、第１導電パターン１１２と第２導電パターン１２２の抵抗に基づいて決定される。 （もっと読む）

【課題】チップサイズの増大を抑えつつ、多数の配線間の時定数を一致させる。
【解決手段】半導体装置は、第１のサイズを持つ第１の外部端子と、第１のサイズよりも小さな第２のサイズを持つ複数の第２の外部端子と、第１の外部端子及び複数の第２の外部端子が、前記第１のサイズを基準として配列される外部端子領域と、外部端子領域に隣接して形成され、複数の第２の外部端子にそれぞれ対応付けられる複数の回路と、複数の第２の外部端子とそれら対応付けられた複数の回路との間をそれぞれ接続する複数の配線とを備える第１のチップを含む。複数の第２の外部端子及びそれらに接続された複数の配線は複数のインタフェースを構成し、複数のインタフェースの夫々は、互いに実質的に等しい時定数を持つように、時定数を調整する調整部を少なくとも一つ含む。調整部の少なくとも一部は、外部端子領域内の第１のサイズと第２のサイズとの差により生じるマージン領域に配置される。 （もっと読む）

【課題】積重ねダイ式の集積回路で使用するのに適した基板導通技術を提供すること。
【解決手段】集積回路が、積み重ねて配置された複数の集積回路のダイを備え、積重ねの頂部のダイを除く任意のダイが、それ自身および追加のダイ少なくとも１つのための電流を基板導通により担持する。１つの形態では、積重ねの底部のダイを除く各ダイが、下側のダイのバスまたはその他の電源導体を介して基板導通によりその電源電流を担持する。 （もっと読む）

【課題】不良電流パスの選別に要する時間を短縮する。
【解決手段】半導体装置は、それぞれ少なくとも１つの貫通電極を含み、インターフェイスチップ内に第１のノードｎ１を有する複数の電流パス１０１_Ｘと、互いに異なる複数の電圧値からなる比較電圧ＤＡＣＯＵＴを生成する比較電圧生成部１０２と、複数の電流パス１０１_Ｘそれぞれの第１のノードｎ１の電圧ＴＳＶＣ_Ｘと、比較電圧ＤＡＣＯＵＴの上記複数の電圧値それぞれとを比較し、比較の結果を示す比較結果信号ＣＭＰ_Ｘを電流パス１０１_Ｘごとに出力する比較部１０３と、比較結果信号ＣＭＰ_Ｘに応じて、複数の電流パス１０１_Ｘのそれぞれが高抵抗化しているか否かを示す結果信号ＲＥＳＬＴ_Ｘを生成する結果信号生成部１０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】高周波回路に於いては、トランジスタ等の能動素子間および能動素子と外部端子の間を直流的に遮断する必要がありため、ＭＩＭキャパシタ等が多用される。これらのＭＩＭキャパシタのうち、外部端子に接続されたものは、外部からの静電気の影響を受けやすく、静電破壊等の問題を発生しやすい。
【解決手段】本願発明は、半絶縁性化合物半導体基板上に形成された半導体集積回路装置であって、外部パッドに電気的に接続されたＭＩＭキャパシタの第１の電極は前記半絶縁性化合物半導体基板に電気的に接続されており、一方、前記ＭＩＭキャパシタの第２の電極は前記半絶縁性化合物半導体基板に電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】より小さな単位に切り離しも可能なマルチコア半導装置において、前記より小さな単位に切り離した場合に相互接続配線を伝って生じる可能性のある水の侵入を阻止する。
【解決手段】半導体装置は、素子領域を有する半導体基板と、前記素子領域に形成され、第１の開口部を有する内側シールリングと、前記素子領域に形成され、第２の開口部を有する外側シールリングと、前記半導体基板上に形成された、各々配線層を含む複数の層間絶縁膜を積層した積層体よりなる多層配線構造と、前記多層配線構造に含まれる第１の層間絶縁膜とその上の第２の層間絶縁膜の間に形成された耐湿膜と、前記耐湿膜の下側および上側のいずれか一方である第１の側を延在し、前記第１の開口部を通過する第１の部分と、前記耐湿膜の下側および上側の他方である第２の側を延在し、前記第２の開口部を通過する第２の部分と、前記第１の部分と前記第２の部分とを、前記耐湿膜を貫通して接続するビアプラグとを含む配線パターンと、を有する。 （もっと読む）

【課題】低フラックスを用いている間のノイズレベルを減少することを可能にするような検出回路を提供する。
【解決手段】ソースフォロワ検出器型の検出回路は、結合ノードＮに接続されたフォトダイオード１を備える。バイアス回路３は、逆バイアスである第１の状態とフローティングである第２の状態との間にフォトダイオード１をバイアスすることを可能にする。読み出し回路４は、結合ノードＮに接続され、フォトダイオード１により測定された現状を示す信号を生成する。金属シールド５は結合ノードＮの周りに配置される。金属シールド５は、読み出し回路４の出力に接続され、結合ノードＮの電位と同じ方向に変動する電位を持つように構成される。 （もっと読む）

【課題】処理装置の入出力パッドの端子数を低減することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】処理装置２１のバス制御回路３４に含まれる入出力回路は、外部Ｉ／Ｆ２２と接続されるパッドに接続される。入力部は、パッドから入力される信号に応じた入力信号を出力する。この入力信号は、処理回路３１に供給される。パッドは、入力部の入力端子に接続され、出力端子は電源電圧ＶＤＤを伝達する電源配線に接続されている。入力部は、外部Ｉ／Ｆ２２のバス制御回路４４から入力されるＨレベルの信号の電圧を出力端子から出力する。従って、電源配線には、外部Ｉ／Ｆ２２から入力されるＨレベルの信号による電圧が供給される。 （もっと読む）

【課題】 従来のＰＤ製造プロセスと同じ工程で大受光径ＰＤの帯域を拡大して、光受信部の高速化を図る。
【解決手段】 受光デバイスは、半導体基板の上方に形成された第１導電型の第１半導体層、前記第１半導体層上の光吸収層、および前記光吸収層上の第２導電型の第２半導体層の積層構造を有する光検出素子と、前記半導体基板の上方で、前記光検出素子に接続されるインダクタと、前記光検出素子で生成された電流を前記インダクタを介して取り出す出力電極と、前記光検出素子にバイアス電極を印加するバイアス印加用電極と、前記インタダクタの金属配線と交差して、前記光検出素子と、前記出力電極又は前記バイアス印加用電極との間を電気的に接続する交差配線と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＰのチップ間を接続するための端子数が増加する。
【解決手段】パッケージ内部に第１の半導体チップと第２の半導体チップが集積される半導体集積回路であって、前記第１の半導体チップは、第１の通信部と、複数のアナログ回路とを備え、前記第２の半導体チップは、第２の通信部と、前記複数のアナログ回路の特性調整用データを格納するメモリ部とを備え、前記第１の通信部と前記第２の通信部とがシリアルデータ通信線で接続され、前記シリアルデータ線を経由して前記第１の半導体チップが備える複数のアナログ回路の特性調整用データをそれぞれ複数のアナログ回路に転送する半導体集積回路。 （もっと読む）