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Fターム[5F044KK19]の内容

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Fターム[5F044KK19]に分類される特許

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【課題】半導体チップをフリップチップ実装する回路基板において、半田バンプの高さを高くできる構造を有する回路基板を提供する。
【解決手段】半導体チップがフリップチップ実装される回路基板1は、基板本体2の表面に形成される電極パッド3と、基板本体2の表面を覆うソルダレジスト層4と、を備える。ソルダレジスト層4には、電極パッド3を露出させる開口部4aが形成される。また、基板本体2には、電極パッド3が配置される領域の外周に沿って溝部2aが設けられており、この溝部2aも開口部4aによって露出されている。 (もっと読む)


【課題】電子部品の端子に高い信頼性を持って接続できる電子部品用コンタクタの製造方法を提供する。
【解決手段】コンタクト電極56Uとなる導電部材を電極パッド12A上に搬送する搬送工程と、導電部材を電極パッド12A上に接合する接合工程と、キャビティ部64Pが形成された加圧ツール63Iにて導電部材に対し成形処理を行うことによりコンタクト電極56Uを形成する成形工程と、加圧ツール63Iとコンタクト電極56Uとの間に電圧を印加し放電を発生させることによりコンタクト電極の表面に硬化処理を行う表面硬化工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】実装時の位置ズレを無くし、30μmピッチ程度の微細接続が安定してできるような製造方法を提供する。これにより、ICの小型化に伴うコストダウンにより安価な装置を実現する。
【解決手段】フィルム1基板に金属薄膜を形成し、フィルム基板に含まれる水分の量を0.1Wt%以下にして絶乾させた後、金属薄膜をパターニングして配線を形成し、配線が形成されたフィルム基板を一定の温湿度の環境下に一定時間以上放置した後、ICチップ3に設けられたバンプを配線にフェイスダウンで接合する。又は、フィルム基板に金属薄膜を形成し、フィルムを一定の温湿度の環境下に一定時間以上放置して調湿した後、金属薄膜をパターニングして配線を形成し、配線が形成されたフィルム基板を一定の温湿度の環境下に一定時間以上放置した後、ICチップに設けられたバンプを前記配線にフェイスダウンで接合する。 (もっと読む)


【課題】半導体ダイの電極と回路基板の電極との接合を行うボンディング装置において、接合荷重を低減すると共に簡便な方法で効率的に各電極の接合を行う。
【解決手段】金属ナノペーストを用いて半導体ダイ12の電極と回路基板19の電極とを接合するボンディング装置10において、金属ナノペーストの微液滴を電極上に射出してバンプを形成するバンプ形成機構20と、半導体ダイ12のバンプを回路基板19のバンプに押し付けて各電極を非導通状態で1次接合する1次接合機構50と、1次接合された各バンプを接合方向に向かって加圧及び加熱して各バンプの金属ナノ粒子を加圧焼結させて各電極が導通するよう2次接合する2次接合機構80とを有する。 (もっと読む)


【課題】超音波の印加、加熱などを行わなくても、小さい圧力のみで基板同士を接続できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、複数の第1の電極を備えた第1の基板と、複数の第2の電極を備えた第2の基板とを準備し、前記第1の電極に第1のバンプをワイヤボンディング法で形成し、前記第2の電極に第2のバンプをめっき法で形成し、前記第1のバンプの弾性率と前記第2のバンプの弾性率との差が、500kgf/mm2以下となるように弾性率の調整を行い、前記第1の基板と前記第2の基板とを、前記第1のバンプと前記第2のバンプとが対向して接するように配置し、前記第1のバンプと前記第2のバンプとが電気的に接続されるように、加圧を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 超音波ボンディングによる突起電極の接合強度を高めた半導体素子実装用基板およびその製造方法ならびに半導体装置を提供する。
【解決手段】 絶縁基板11の上面に、下面に複数の電極端子22が形成されて電極端子22に突起電極23を備えた半導体素子21を実装するための、電極パッド12が形成された実装部11を有して成り、電極パッド12に突起電極23を当接させて半導体素子21の上面から超音波を印加して突起電極23を電極パッド12に接合する半導体素子実装用基板19であって、電極パッド12は、突起電極23が当接する領域の中央部12aが外周部12bよりも低く、かつ中央部12aと外周部12bとの間に環状に隙間12cが設けられている。電極パッド12の中央部12aと外周部12bとが突起電極23と噛み合うとともに隙間12cにより接合時の応力を緩和できるので、接合強度および実装信頼性を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】はんだバンプのコプラナリティの測定値を低減でき、しかもボイドの発生を防止できる部品付き配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】はんだバンプ成形工程では、複数のはんだバンプ22の頂部27を平坦化及び粗化する。フラックス供給工程では、平坦化及び粗化された複数のはんだバンプ22の頂部27にフラックス28を供給する。加熱溶融工程では、ICチップ45における複数の接続端子47を、フラックス供給済みの複数のはんだバンプ22に対応させて配置し、この状態で複数のはんだバンプ22を加熱溶融する。これにより、はんだバンプ22に含まれているフラックス28は、加熱溶融工程において加熱溶融される際に気化して確実に頂部27から外部に放出される。 (もっと読む)


【課題】配線基板の接続パッドに設けられたはんだと、半導体チップの電極パッドに設けられたAuバンプとを接合した半導体装置の製造方法に関し、はんだに含まれるSnがAuバンプを介して、半導体チップの電極パッドに拡散することを防止できると共に、配線基板と半導体チップと間の電気的な接続信頼性を向上させることのできる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ12の電極パッド31に形成されたAuバンプ13と対向する配線基板11の接続パッド21の接続面21A及び側面21Bに、めっき法により、はんだ14を形成し、次いで、このはんだ14を溶融させて、接続パッド21の接続面21Aに凸形状とされたはんだ溜り15を形成し、その後、はんだ溜りが形成された接続パッド21の接続面21AにAuバンプ13を載置して、はんだ溜り15とAuバンプ13とを接合させた。 (もっと読む)


【課題】 半田接合後の残存フラックスの洗浄除去、そして、アンダーフィルの充填などが必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、接合強度、信頼性の高い半田接合を可能とした半導体パッケージの製造方法及びその製造方法により得られる半導体パッケージを提供する。
【解決手段】 感光性フラックスを、半導体パッケージの半田ボールが搭載される面の回路パターン上の全面に塗布、乾燥し、感光性フラックス膜を形成後、所定のパターンを載置し、露光、現像して、半導体パッケージの半田ボール搭載用のランド部にフラックスパターンを形成する工程、前記フラックスパターン上に半田ボールを載せて、半田リフローによって半田ボールを半導体パッケージの半田ボール搭載用のランドと半田接合させる工程と、前記半田ボール搭載半導体パッケージを熱処理して感光性フラックスを硬化させる工程とからなることを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 (もっと読む)


【課題】チップキャリアの配線層とバンプ形成面を分離することによりICチップ実装後の高い接合信頼性が得られるチップキャリア及び半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板13の片面に電極パッド16と接合ろう15からなるバンプ21が、もう一方の面に配線層17及び配線層19からなる多層配線を形成してチップキャリア10を得る。さらに、ICチップのパッドとチップキャリア基板のバンプ21とを接合し半田フリップチップ実装して半導体装置を得る。 (もっと読む)


【課題】クラックを生じにくい半田接合部、該半田接続部を備える回路基板などの電子部品、半導体装置、及び電子部品の製造方法の提供。
【解決手段】平坦な基準表面p1を有しているランド112であり、かつ半田を接合するための半田接合部p3が設けられているランド112を備える電子部品であって、半田接合部p3は、ランド112の基準表面に対して陥没した凹部113を形成しており、凹部113の表面にニッケルめっき層114が積層されており、ニッケルめっき層114が半田接合されるときにニッケルめっき層114の半田接合部p3に形成される錫含有合金層116とニッケルめっき層114とがなす界面の位置が、基準表面p1を含む平面からずれている。 (もっと読む)


【課題】基板に電気メッキでバンプを形成するための、リング状のレジストパターンを形成する装置を提供する。
【解決手段】この装置は、少なくとも一部がレジストRでコーティングされた基板Wを保持するように構成された基板ホルダと、レジストの領域を加熱するように構成された加熱装置とを備える。基板ホルダと加熱装置HDとの間で相対移動をすることが可能であり、このリングシール形成装置を使用して、加熱装置HDにより加熱されるレジストの領域がリング形状となるように移動をすることにより、リング状のレジストパターンが形成できる。 (もっと読む)


【課題】 接続部での接続抵抗の増大や接着剤の剥離がなく、接続信頼性が大幅に向上する回路板の製造を可能とする接着剤を提供する。
【解決手段】 相対向する回路電極間に介在され、相対向する回路電極を加圧し加圧方向の電極間を電気的に接続する回路部材接続用接着剤であって、ICチップとプリント基板との接続用の接着剤であり、前記接着剤に3官能以上の多官能エポキシ樹脂及び/又はナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が含有され、前記接着剤の硬化後の120〜140℃での平均熱膨張係数が200ppm以下であることを特徴とする回路部材接続用接着剤。 (もっと読む)


【課題】柔軟性を有する狭ピッチで微細な突起電極を介して、低い加圧力での接続を可能とし、圧接時の応力による電子部品などの破損を防止した信頼性に優れる電子部品実装構造体とその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の電極端子10aを設けた電子部品10と、電極端子10aに対向する位置に接続端子12aを設けた実装基板12と、電極端子10a上または接続端子12a上に設けた突起電極13を介して電極端子10aと接続端子12aとを接続する電子部品実装構造体1であって、突起電極13は、少なくとも導電性フィラー13aと感光性樹脂13bとを含み、感光性樹脂13bの樹脂成分架橋密度が突起電極13の高さ方向に異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板側電極と部品側電極との間の導通抵抗が従来構成よりも小さい電子装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】電子装置は、実装基板1に形成された基板側電極2と電子部品3に形成された部品側電極4とを接続する形で実装基板1に電子部品3をフリップチップ実装して構成される。部品側電極4上にははんだ層6が形成されており、基板側電極2上にはAuのスタッドバンプからなり、はんだ層6を貫通して部品側電極4に当接し基板側電極2と部品側電極とを接続する金属バンプ5が設けられている。部品側電極4は、Al層からなる部品側下地電極層4a上に、はんだ層6よりも導電性に優れ且つ金属バンプ5よりも硬度の高いNi層が変形防止層4bとして形成された構成を有する。 (もっと読む)


【課題】溶融した鉛フリー半田によって浸食され難い耐浸食性の高い溶融金属吐出装置用のノズルプレートを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の溶融金属吐出装置用のノズルプレートは、ステンレス鋼を基材として溶融半田に接する側の表面に鉄と錫からなる金属間化合物の層を有する構成としている。この構成により、半田によるステンレス鋼の浸食を金属間化合物によって抑制できるため、消耗部品であるノズルプレートの寿命を延ばすことができる。 (もっと読む)


【課題】ソルダバンプが絶縁層部分に流れないようにすることができ、かつ、バンプ間のピッチを減らすことができるフリップチップ接続用基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】バンプパッドを備える基板を製造する方法において、回路パターンが陷沒された絶縁層を提供する段階と、バンプパッドが形成される部位の回路パターンをエッチングしてバンプパッドを形成する段階とを含むフリップチップ接続用基板の製造方法は、絶縁層に陷沒されている回路パターンの一部を溝形状で除去してバンプパッドを形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】回路基板の同一表面上に半田プリコート層および金属めっき層を混在させて形成し、半導体素子およびチップ部品の接合性を容易にすることができる電子回路モジュールの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の電子回路モジュール1の製造方法は、接続端子3、4の形成工程A、第1の接続端子3への半田プリコート層11の形成工程B、めっき用レジスト膜20による第1の接続端子3の被覆および第2の接続端子4の露出工程C、第2の接続端子4への金属めっき層10の形成工程D、加熱したバンプ6をめっき用レジスト膜20に埋没させて第1の接続端子3に当接させる工程E、バンプ6と第1の接続端子3との接合工程F、および、第2の接続端子4とチップ部品8との接合工程Gを備える。 (もっと読む)


【課題】弾力性に優れ、アスペクト比が高く、狭ピッチ化に対応し得るバンプが設けられた回路基板材の製造方法を提供する。
【解決手段】基板1の上面の電極2,3の少なくとも一部を含む領域に感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物層4を形成した後に、電極2,3の外周縁よりも露光部の外周縁が内側に位置するように感光性樹脂組成物層4を選択的に露光し、電極2,3上に位置している感光性樹脂組成物の内、露光部において、酸または塩基を発生しつつ、周囲の未露光部の感光性樹脂組成物を露光部側に移動させ、該露光部において硬化を進行させて、樹脂コア6,7を形成し、樹脂コア6,7の外表面を被覆するように導電性被膜8,9を形成してバンプ10,11を形成する、各工程を備える回路基板材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体チップの一つの電極を複数の端子又は電極に電気的に接続した半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、半導体チップ1をフレーム4の上にフリップチップにより接続した半導体装置であって、前記フレームの上又は上方に形成された端子3a及び端子と、前記端子3aと前記端子が電気的に接続され、前記端子3aに第1ボンディング点が形成され、前記端子に第2ボンディング点が形成されたボンディングワイヤ5と、前記半導体チップ1の能動面に形成されたバンプ2と、を具備し、前記第1ボンディング点には前記ボンディングワイヤ5の一部からなる凸部5aが形成されており、前記バンプ2は前記凸部5aに接合されていることを特徴とする。 (もっと読む)


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