説明

Fターム[5F053BB09]の内容

半導体装置を構成する物質の液相成長 (5,002) | 成長装置 (493) | 成長容器(S) (251) | 形態(S) (202) | コーティング (72)

Fターム[5F053BB09]に分類される特許

1 - 20 / 72


【課題】所望の体積抵抗率を有する金属酸化物薄膜を、簡便かつ大面積に作製でき、更に所望の形状の金属酸化物を形成する精度が高い金属酸化物薄膜形成用塗布液などの提供。
【解決手段】無機インジウム化合物と、無機カルシウム化合物及び無機ストロンチウム化合物の少なくともいずれかと、有機溶媒とを含有する金属酸化物薄膜形成用塗布液である。 (もっと読む)


【課題】良好な有機半導体単結晶薄膜/絶縁膜界面を有する有機半導体素子を製造することができる有機半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】親液性の表面S1 を有する成長制御領域およびこの成長制御領域の一辺にこの成長制御領域と連結されて設けられた少なくとも一つの核形成制御領域を一主面に有する基体を形成する。この基体の成長制御領域および核形成制御領域に、有機半導体および有機絶縁体を溶媒に溶解させた不飽和の有機溶液を供給する。この有機溶液中の有機絶縁体を基体の一主面に沈ませることにより有機絶縁体からなるゲート絶縁膜を形成する。続いて、有機溶液の溶媒を蒸発させることにより、ゲート絶縁膜上に有機半導体からなる有機半導体単結晶薄膜を成長させる。この有機半導体単結晶薄膜上にソース電極およびドレイン電極を形成する。 (もっと読む)


【課題】印刷法を用いて薄膜トランジスタを製造する場合において、前処理などを必要とせずに微細パターンを形成可能であり、トランジスタ特性の面内均一性に優れるとともに、インキの利用効率に優れた薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性の基板上に形成されたゲート電極41、ゲート絶縁膜、ソース電極43、ドレイン電極44、半導体層45及び封止層46を有する薄膜トランジスタ1を製造する薄膜トランジスタの製造方法であって、インキ供給手段を用いて凹凸パターンが形成された印刷用版にインキを供給するインキ供給工程と、インキの予備乾燥を経た後に凸版を用いて非画線部のインキ液膜を除去するインキ液膜除去工程と、印刷用版上に残った画線部のインキ液膜を基板40に転写して、半導体層45及び封止層46のうち少なくとも一方を形成するインキ液膜転写工程を有する。 (もっと読む)


【課題】 高いキャリア移動度を与えると共に容易に効率よく有機半導体層を製膜することが可能となるドロップキャスト製膜用溶液を提供する。
【解決手段】 純度98%以上を有する下記一般式(1)で示されるジチエノベンゾジチオフェン誘導体0.01〜10重量%及び炭素数7〜13の芳香族系炭化水素99.99〜90重量%からなるドロップキャスト製膜用溶液。
【化1】


(ここで、置換基R及びRは同一又は異なって、炭素数1〜20のアルキル基を示す。) (もっと読む)


【課題】生産性が高く微細な電界効果トランジスタとその製造方法ならびに製造装置を提供すること。
【解決手段】以下の工程(1)から(3)よりなる印刷工程により前記基板上へラインもしくはスペース最小幅が1から50μmであり、印刷位置精度が100ppm以下の機能性膜の形成を行うことを特徴とする電界効果トランジスタの製造方法としたもの。
工程(1) 版の画線部に相当する溝構造部にドクターブレードを用いたインキング法で、機能性材料が溶媒へ溶解もしくは分散した薬液を充填する工程。
工程(2) 転写シリンダーと前記版を接触させ、前記溝構造部の薬液を前記転写シリンダーへ転移させる工程。
工程(3) 前記転写シリンダー上の薬液を前記基板の所定の位置へ転写し、機能性膜の形成を行う工程。 (もっと読む)


【課題】十分なキャパシタ容量が得られ、リーク電流や寄生容量を抑制した薄膜トランジスタ装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタを備え、そのゲート電極111、ソース電極131、ドレイン電極132、バス配線、画素電極133、ゲート絶縁膜121、層間絶縁膜122、半導体層141の全部もしくは一部が塗布法もしくは印刷法で形成されてなり、ゲート絶縁膜121および/もしくは層間絶縁膜122が連続膜から構成され、連続膜が薄膜部と厚膜部から構成されてなる。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板を成長基板として用いた場合に問題となる、窒化物成長時における線欠陥の発生を低減化できる、シリコン基板を成長基板として用いる窒化物系発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る窒化物系発光素子は、シリコン基板と、前記シリコン基板上に形成される窒化物成長用シード層と、前記窒化物成長用シード層上に形成され、複数の窒化物層が積層されている発光構造体とを含むことを特徴とする。特に、前記窒化物成長用シード層はGaNパウダーで形成される。 (もっと読む)


【課題】より簡便な、かつ高温の焼成を必要としない条件で、基板の所望の位置に複合酸化物の薄膜を形成させることのできる塗布液及びそれを使用した方法を提供すること。
【解決手段】インジウム(In)のキレート化合物(I)、亜鉛(Zn)のキレート化合物又は酢酸塩(Z)、及び有機溶媒(A)を含む複合酸化物膜形成用の塗布液を塗布して基材の表面に塗膜を形成し、次いでこの塗膜を焼成することにより複合酸化物膜に転換させる。 (もっと読む)


【課題】環境負荷が小さく、良好な圧電特性を有する圧電素子の製造方法を提供する。
【解決手段】圧電素子の製造方法は、圧電体層の原料液となる前駆体溶液を第1電極10上に塗布して前駆体層22を形成する工程と、前駆体層22を熱処理により脱脂する工程と、脱脂した前駆体層22を結晶化して、圧電体層を形成する工程と、を含み、前駆体溶液は、ビスマス、ナトリウム、バリウム、およびチタンを含み、熱処理の温度は、425℃以上450℃以下である。 (もっと読む)


【課題】 製造工程が容易であるとともに光電変換効率の高い光電変換装置を提供すること。
【解決手段】 光電変換装置10の製造方法は、多価アルコールを含む第1の有機溶媒に第1の金属元素を含む金属化合物を溶解して原料溶液を作製し、原料溶液を加熱して第1の金属元素を含む金属微粒子を作製する工程と、金属微粒子を第1の有機溶媒から取り出し、第1の有機溶媒の沸点以上の温度で熱処理する工程と、熱処理した金属微粒子を第2の有機溶媒に分散して半導体層形成用溶液を作製し、半導体層形成用溶液を電極上に被着し、乾燥して金属微粒子を含む皮膜を作製する工程と、カルコゲン元素を含む雰囲気下で皮膜を加熱して、金属微粒子とカルコゲン元素とを反応させて成る、光電変換層としての半導体層3を作製する工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】移動度が高く電気的特性に優れ、印刷法でも製造可能な金属酸化物半導体薄膜を提供する。更に、本発明は、該金属酸化物半導体薄膜の製造方法及び該金属酸化物半導体薄膜を用いた薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有する金属酸化物半導体薄膜であって、前記金属酸化物は、下記式(1)に規定する関係を満たすことを特徴とする金属酸化物半導体薄膜。
[数1]
(もっと読む)


【課題】ノズルの動作を簡単に教示することができる基板処理装置およびティーチング方法を提供する。
【解決手段】記録開始指令が制御部4に入力されると、CPU23は、記録開始指令が入力されてからの経過時間をタイマー25によって計測させる。さらに、CPU23は、ノズルの位置を検出するエンコーダ22の出力と経過時間とをメモリー24に記憶させる。そして、記録終了指令が制御部4に入力されると、CPU23は、エンコーダ22の出力と経過時間の記憶を終了させる。記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までのエンコーダ22の出力は、経過時間と関連付けられて1つの動作データとしてメモリー24に記憶される。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、印刷法によって薄膜のほぼ全領域が単一の単結晶からなる単結晶性有機半導体薄膜を作製することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
有機半導体に親和性の高い有機溶媒に該有機半導体を高濃度に溶解して得た第1のインクと、該有機半導体に親和性の低い有機溶媒からなる第2のインクを用意する工程と、該第1及び第2のインクを基板上で混合し、インクを貯留する領域を形成する工程とを含む単結晶性有機半導体薄膜の製造方法であって、
該インクを貯留する領域の一部に種結晶が高効率に発生する形状を付与し、そこを起点としてインクを貯留する領域のほぼ全領域にわたり単結晶を成長させることを特徴とする単結晶性有機半導体薄膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】厚さおよび大きさを制御しながら単結晶の有機薄膜を迅速かつ容易に形成することが可能な有機薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】温度制御可能な支持体1により支持された製膜用基体10の一面(幅広の溶液蓄積領域11およびそれに連結された幅狭の溶液絞込領域12)に有機溶液20を供給したのち、支持体1とは独立して温度制御可能な移動体4を有機溶液20に接触させながら支持体1の表面に沿って移動させる。支持体1の温度TSは、有機溶液20に関する溶解度曲線と過溶解度曲線との間に位置する温度に設定されると共に、移動体4の温度TMは、溶解度曲線よりも高温側に位置する温度に設定される。 (もっと読む)


【課題】高性能でばらつきの少ない有機薄膜トランジスタとその簡便な製造方法の提供。
【解決手段】(1)基板上にソース電極、ドレイン電極、及びソース電極とドレイン電極の間のチャネル部を構成するインクジェット法で形成された有機半導体層を有し、前記チャネル部は、平面視において前記有機半導体層の輪郭の最大幅Rを与える線分の中点を含まず、チャネル長Lが、前記最大幅Rに対し「L<R/2」を満たす有機薄膜トランジスタ。
(2)前記有機半導体層では、前記輪郭から中点に向かって結晶粒が配向しており、前記ソース電極領域から成長した結晶粒と、ドレイン電極領域から成長した結晶粒とが衝突して形成される結晶粒界αが前記チャネル部に無い(1)記載の有機薄膜トランジスタ。
(3)有機半導体材料を含むインクを用い、インクジェット法により有機半導体層を形成する有機薄膜トランジスタの製造方法。 (もっと読む)


【課題】微細電子回路を安価かつ簡便に作製する方法を提供することを課題とする。特に従来法では困難であった印刷法を利用する高精細な回路描画を達成することを課題とする。
【解決手段】特定の窒素原子含有オリゴマー鎖がπ共役縮合芳香環に結合した化合物を薄膜化し、光照射することにより、導電性またはキャリア移動特性を付与する。光照射をレーザー光線による走査あるいはフォトマスクを利用して実施することにより、微細回路を印刷法で形成可能である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高価なクリンルームと高価な真空プロセス装置を使うことなく低コストで製造でき、廃棄部分も少なく環境性に優れ、かつ結晶品質が高いことによる例えば半導体性能の高い有機単結晶薄膜作成法を提供すること。
【解決手段】溶媒中に有機材料を有する溶液の液滴を基板上に設け、該液滴の一端を薄くくし他端を厚くして、該一端側の溶媒を蒸発させることにより結晶を析出させるとともに、薄い部分を他端に移動させることにより結晶を順次析出させることを特徴とする有機単結晶薄膜の作成法である。前記液滴は反磁性とし、一端から強磁場を付加する。
溶媒中に有機材料を有する溶液の液滴を基板上に設け、該液滴の一端から反対端に向かい所定の速度で磁場を移動させて該液滴の一端の厚みを減少させて結晶を該一端から順次析出させることを有機単結晶薄膜の作成法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、薄膜材料となる微粒子を分散した液体を、被処理部材の表面に塗布して薄膜を製造する方法であって、均一な薄膜を製造する方法の提供を目的とする。
【解決手段】金属または半導体を含む薄膜の製造方法であって、溝(または凹部)4を有する被処理部材10の表面に、金属の微粒子、半導体の微粒子、金属の酸化物を含む微粒子、および半導体の酸化物を含む微粒子、のうちの少なくともいずれかを溶媒中に分散した液体8を塗布する塗布工程と、被処理部材10の表面に塗布した液体8の溶媒を揮発させる第1の熱処理工程と、マイクロ波を照射することにより、溶媒を揮発させた液体8に分散された微粒子を加熱し、液体8に含まれる微粒子または液体8に含まれる微粒子の成分で溝(または凹部)4を埋める第2の熱処理工程と、を備えたことを特徴とする薄膜の製造方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】有機半導体として実用上十分に高移動度で、且つ安定した半導体特性を発現することができる有機半導体用混合物、並びに、有機電子デバイスの作製方法及び有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】有機半導体材料と下記一般式(I)で表されるカルボン酸又はそのエステルを含む有機半導体用混合物、並びに、基板上に有機半導体用塗布液を塗布し乾燥させて有機半導体層を形成する有機電子デバイスの作製方法において、有機半導体用塗布液が、有機半導体材料と前記カルボン酸又はそのエステルと溶媒とを含む有機半導体用混合物である有機電子デバイスの作製方法、及び、基板上に有機半導体と前記カルボン酸又はそのエステルを含有する有機半導体層を有する有機電子デバイス。


〔式(I)中、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜50の脂肪族炭化水素基を示す。但し、RとRの各炭素数の和は5以上である。〕 (もっと読む)


【課題】CZTS系半導体からなる光吸収層の上に良好な特性を持つCdSバッファ層を形成することが可能なCZTS系半導体用バッファ層の製造方法、このような方法に用いられるCZTS系半導体用CBD溶液、及び、このような方法により得られるバッファ層を備えた光電素子を提供すること。
【解決手段】酢酸カドミウム、硫黄源、及び、硫化物合成助剤を含むCZTS系半導体用CBD溶液。CZTS系半導体用CBD溶液に、CZTS系半導体層が形成された基板を浸漬し、前記CZTS系半導体層の表面にCdS膜を形成するCBD工程と、前記CdS膜を200℃以下で熱処理する熱処理工程とを備えたCZTS系半導体用バッファ層の製造方法。本発明に係る方法により得られるバッファ層を備えた光電素子。 (もっと読む)


1 - 20 / 72