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Fターム[5F092BB34]の内容

ホール/MR素子 (37,442) | MR素子の材料 (13,747) | 中間層 (3,819) | 絶縁物 (3,023) | 酸化物 (2,722)

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Al2O3 (870)
MgO (1,047)
SiO2 (251)

Fターム[5F092BB34]に分類される特許

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【課題】安定した特性の磁気抵抗効果素子を有する半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態にかかる半導体記憶装置は、複数の磁気抵抗効果素子を有し、この各磁気抵抗効果素子は、半導体基板上に形成され、且つ、その膜面に対して垂直な磁化容易軸を有する第1の磁性層と、第1の磁性層上に形成された非磁性層と、非磁性層上に形成され、且つ、その膜面に対して垂直な磁化容易軸を有する第2の磁性層と、からなる積層構造を有し、保護膜を介して各磁気抵抗効果素子の側壁を覆うように設けられ、且つ、磁気抵抗効果素子に対して、磁化容易軸に沿った方向に引張応力を与える側壁膜を備え、側壁膜のうちの第1の磁性層を覆う部分は、側壁膜のうちの第2の磁性層を覆う部分と比べて厚い。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果素子間の磁気的な干渉作用を遮断し、安定した動作を可能にし、且つ、容易に製造することができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態にかかる半導体記憶装置は、半導体基板上にマトリックス状に配列した複数の磁気抵抗効果素子を有し、各磁気抵抗効果素子は、半導体基板上に形成された第1の磁性層と、第1の磁性層上に形成された非磁性層と、非磁性層上に形成された第2の磁性層とからなる積層構造を有し、隣り合う各磁気抵抗効果素子の間には、金属、又は、磁性体材料が分散された絶縁膜が埋め込まれている。 (もっと読む)


【課題】コンパクトな構成でありながら磁場の検出性能に優れ、かつ容易に製造可能な磁気センサを提供する。
【解決手段】磁化固着層63と介在層62と磁化自由層61とを順にそれぞれ含むと共に、信号磁場によって互いに反対向きの抵抗変化を示す第1および第2のMR素子を備える。ここで、第1のMR素子における磁化固着層63は、介在層62の側から順にピンド層631と、結合層632と、ピンド層631と反強磁性結合するピンド層633とを含むシンセティック構造を有する。このシンセティック構造は、ピンド層633の総磁気モーメントがピンド層631の総磁気モーメントよりも大きなものである。一方、第2のMR素子における磁化固着層63は、単一もしくは複数の強磁性材料層からなる。 (もっと読む)


【課題】所与の厚さの反強磁性層に対する交換バイアスが増加した磁気デバイスを提案することによって従来技術の欠点を克服すること。
【解決手段】本発明は、自由層として知られている、可変磁化方向を有する磁気層と、前記自由層と接触している、前記自由層の磁化方向をトラップすることができる第1の反強磁性層とを備えた磁気デバイスに関する。磁気デバイスは、さらに、安定化層として知られている、自由層とは反対側の面を介して第1の反強磁性層と接触している、強磁性体から作製される層を備えており、前記自由層および安定化層の磁化方向は実質的に垂直である。前記自由層および安定化層のうちの第1の層は磁化を有しており、その方向は、前記第1の層の平面内に配向されており、一方、前記自由層および安定化層のうちの2つの層の第2の層も磁化を有しており、その方向は、前記第2の層の平面外に配向されている。 (もっと読む)


【課題】外部放射線に対し耐性を有し、誤動作なく安定した動作する信頼性の高い記憶素子の提供。
【解決手段】記憶素子は、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層と、記憶層に記憶された情報の基準となる磁化を有する磁化固定層と、記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する。そして記憶層、中間層、磁化固定層を有する層構造の積層方向に流れる電流に伴って発生するスピントルク磁化反転を利用して記憶層の磁化を反転させることにより情報の記憶を行うとともに、記憶層は、Bを含有する強磁性層を含み、Bにふくまれる10Bの同位体比率が、自然界における19.9%よりも低くなっている。 (もっと読む)


【課題】書き込み電流(反転電流)および熱安定性のばらつきを抑制し、安定して動作する、信頼性の高い記憶素子の提供。
【解決手段】記憶素子は、情報を磁性体の面内磁化状態により保持する記憶層と、該記憶層に記憶された情報の基準となる磁化を有する磁化固定層と、記憶層と磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する。
そして記憶層、中間層、磁化固定層を有する層構造の積層方向に流れる電流に伴って発生するスピントルク磁化反転を利用して上記記憶層の磁化を反転させることにより情報の記憶を行うとともに記憶層の困難軸方向の異方性磁界が、垂直方向の異方性磁界よりも小さくなっている。 (もっと読む)


【課題】書き込み電流を増大させることなく、熱安定性を改善することができるメモリを提供する。
【解決手段】情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層を有し、この記憶層に対して、中間層を介して磁化固定層が設けられ、中間層が絶縁体から成り、積層方向にスピン偏極した電子を注入することにより、記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる記憶素子と、この記憶素子の積層方向に流す電流を供給する配線とを備え、記憶素子の上に隣接して積層された層に、記憶層と熱膨張係数の異なる、TiN,WN,TaN,Moのうちのいずれかの材料が用いられ、記憶層に歪が印加されているメモリを構成する。 (もっと読む)


【課題】スピントルク型磁気メモリにおいて、熱安定性及び反転電流のバラツキを抑制する。
【解決手段】上記記憶素子は、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する。そして積層方向に流れる電流に伴って発生するスピントルク磁化反転を利用して記憶層の磁化を反転させることにより情報の記憶を行う。この構成において、記憶層の飽和磁化をMs(emu/cc)、上記記憶層の膜厚をt(nm)としたときに、記憶層の膜厚tは、(1489/Ms)−0.593<t<(6820/Ms)−1.55を満たすようにする。 (もっと読む)


【課題】垂直磁化を有するスピントルク型磁気メモリにおいて、垂直磁気異方性を強化し、高い情報保持特性を実現させる。
【解決手段】記憶素子は、膜面に対して垂直な磁化を有し、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層17と、記憶層17に記憶された情報の基準となる、膜面に対して垂直な磁化を有する磁化固定層15と、記憶層17と磁化固定層15の間に設けられる非磁性体による中間層16とによるMTJ構造を持つものとする。この場合に、中間層16と反対側で記憶層17に隣接する、2層以上の酸化物で形成されたキャップ層18を設けるようにする。 (もっと読む)


【課題】書込電流を増大させることなく、高い保磁力を有し熱安定性を改善することができる記憶素子の提供。
【解決手段】記憶素子は、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層と、記憶層に記憶された情報の基準となる磁化を有する磁化固定層と、記憶層と磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、磁化固定層に隣接し、中間層の反対側に設けられる磁気結合層と、磁気結合層に隣接して設けられる高保磁力層とを有する。
そして記憶層、中間層、磁化固定層を有する層構造の積層方向に流れる電流に伴って発生するスピントルク磁化反転を利用して上記記憶層の磁化を反転させることにより情報の記憶を行うとともに磁気結合層が2層の積層構造となっている。 (もっと読む)


【課題】スピントルク型磁気メモリにおいて、異方性エネルギーを大きくし、微細化しても十分な熱揺らぎ耐性を有するようにする。
【解決手段】記憶素子は、膜面に対して垂直な磁化を有し、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層と、記憶層に記憶された情報の基準となる、膜面に対して垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とにより、MTJ構造を持つ。これに加え、記憶層に隣接する、Cr、Ru、W、Si、Mnの少なくとも一つからなる保磁力強化層と、保磁力強化層に隣接する酸化物によるスピンバリア層を設ける。 (もっと読む)


【課題】書込電流を増大させることなく、高い保持力を有し熱安定性を改善することができる記憶素子の提供。
【解決手段】記憶素子は、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層と、記憶層に記憶された情報の基準となる磁化を有する磁化固定層と、記憶層と磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、記憶層に隣接し中間層と反対側に設けられるキャップ層と、キャップ層に隣接し記憶層と反対側に設けられる金属キャップ層を有する。そして記憶層、中間層、磁化固定層を有する層構造の積層方向に流れる電流に伴って発生するスピントルク磁化反転を利用して記憶層の磁化を反転させることにより情報の記憶を行う。そして中間層とキャップ層は酸化物であり、金属キャップ層はPdもしくはPtで構成されているものとする。 (もっと読む)


【課題】 磁気抵抗読取センサを提供する。
【解決手段】 センサは、浮上面に沿って上部電極と下部電極との間に配置された磁気反応性スタックである。センサ内の電流がスタックと少なくとも1つの電極との間の第1の多層絶縁構造によって浮上面近くの領域に制限されることで、読取機の感度が向上する。 (もっと読む)


【課題】出力を向上可能なスピン伝導素子を提供する。
【解決手段】 このスピン伝導素子は、半導体層3と、半導体層3上に第1トンネル障壁層5Aを介して設けられた第1強磁性層1と、半導体層3上に、第1強磁性層1から離間し、且つ、第2トンネル障壁層5Bを介して設けられた第2強磁性層2と、を備え、半導体層3は、第1強磁性層1からその厚み方向に垂直な方向に沿って、第1強磁性層1から離れる方向へ広がる第1領域R1と、第1強磁性層1からその厚み方向に垂直な方向に沿って、第2強磁性層2に向かう方向に延びており、第1領域R1の不純物濃度よりも相対的に高い不純物濃度を有する第2領域R12と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】改善された硬質磁性体バイアス構造を備える面垂直電流(CPP)磁気抵抗(MR)センサを提供する。
【解決手段】磁気記録ディスクドライブ用CPP−GMR又はCPP−TMR読み出しヘッドのための硬質磁性体バイアス構造が、2つのセンサシールドS1、S2間に位置し、センサの自由層110の側縁に隣接している。絶縁層116は、バイアス構造と下部シールドとの間、及び自由層110の側縁の間に位置する。バイアス構造150は、Ir又はRuのシード層114と、そのシード層114上の強磁性で化学的配列が規則付けられたFePt合金ハードバイアス層115と、そのFePt合金ハードバイアス層115上のRu又はRu/Irキャッピング層118とを含む。FePt合金は、そのc軸が全般的に層の平面内にある面心正方構造を有する。 (もっと読む)


【課題】磁性体中の磁壁を安定して移動させる磁気記憶素子、および磁壁移動方法を提供する。
【解決手段】実施形態による磁気記憶素子は、第1電極11と、第2電極12と、前記第1電極11と前記第2電極12との間に設けられ、複数の第1磁性層141および、この第1磁性層141の間に設けられ、第1磁性層141とは構成元素の組成が異なる第2磁性層142を含む積層構造と、前記第1電極11の前記積層構造側の面の反対の面に設けられる圧電体15と、前記圧電体15の前記第1電極11が設けられる位置と異なる位置に設けられ、前記圧電体15に電圧を印加する第3電極13を有する。 (もっと読む)


【課題】高密度化対応の磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドアッセンブリ、磁気記録再生装置、歪みセンサ、圧力センサ、血圧センサ及び構造物ヘルスモニタセンサを提供する。
【解決手段】基板上に積層された、第1の磁性層12と、第1の磁性層12に積層され、第1の磁性層の組成とは異なる第2の磁性層11と、第1の磁性層12と第2の磁性層11との間に配置されたスペーサ層13と、を有する積層体10と、積層体10に電流を流す1対の第1の電極と、積層体10の近傍に設けられ、積層体に歪みが印加されることで、第1の磁性層12及び第2の磁性層11の磁化方向がそれぞれ異なる方向にバイアスされるよう積層体10に歪みを印加する歪み導入部材と、歪み導入部材に電圧を印加するための第2の電極と、を備える。外部磁界が印加されることで、第1の磁性層12及び第2の磁性層11の磁化方向がともに変化し、磁化方向の変化により、外部磁界を検出する。 (もっと読む)


【課題】 配線の信頼性が劣化しない磁気ランダムアクセスメモリ及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】 実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリは、下部電極、磁気抵抗効果素子、上部電極が下層から順に積層された積層膜が設けられる。前記磁気抵抗効果素子、前記上部電極の側面に接し、上面が前記上部電極の上面と実質的に同一の高さであるストッパ層平坦部が設けられる。前記上部電極上にバリアメタル膜が設けられる。前記バリアメタル膜上にコンタクトプラグが設けられる。 (もっと読む)


【課題】磁壁が静止した状態から移動状態に遷移させるために必要な電流密度を低減化することができるとともに、磁壁の移動を安定に行うことができる磁気記憶素子、磁気記憶装置、および磁気メモリを提供する。
【解決手段】本実施形態の磁気記憶素子は、第1方向に延在し、磁壁により隔てられた複数の磁区を有する磁性細線と、前記磁性細線に前記第1方向の電流および前記第1方向と逆方向の電流を流すことが可能な電極と、電気的な入力を受け、前記磁性細線の全体または一部の領域の磁壁の移動をアシストするアシスト部と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気異方性を有するとともにより大きな磁気抵抗効果を発現することが可能な磁気抵抗素子およびこれを用いた磁気メモリを提供する。
【解決手段】下地層と、下地層上に設けられ、膜面に垂直方向に磁化容易軸を有し、MnGa100−x(45≦x<64atm%)である磁性体膜を含む第1の磁性層と、第1の磁性層上に設けられた第1の非磁性層と、第1の非磁性層上に設けられ、膜面に垂直方向に磁化容易軸を有し、MnGa100−y(45≦x<64atm%)である磁性体膜を含む第2の磁性層と、を備え、第1および第2の磁性層のMnの組成比が異なり、第1の非磁性層を介して第1の磁性層と第2の磁性層との間に流れる電流によって、第1の磁性層の磁化方向が可変となる。 (もっと読む)


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