本発明は、概して、コヒーレントな紫外線（ＵＶ）または超紫外線（ＸＵＶ）の極短パルスの発生に関し、より具体的に言うと、５０ｋＨｚと数メガヘルツとの間に含まれる調節可能な周波数において、紫外線または超紫外線領域の、フェムト秒長さのパルスを生成することが可能な、極めて輝度の高い再集束可能な源に関する。本発明は、パルスを含むレーザビームを生成するように構成されたファイバレーザ装置（１０）と、相互作用媒体を含む高調波発生装置（２０）とを備えている。高調波発生装置（２０）およびファイバレーザ装置（１０）は、レーザビームが、少なくとも１０^１３Ｗ／ｃｍ^２の電力で相互作用媒体に衝突してＵＶ−ＸＵＶパルスを発生するように、結合されている。
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【課題】信号帯域内に互いに異なる利得傾斜変化特性を有している場合であっても、確実に、かつ容易に利得傾斜補正を行う。
【解決手段】光伝送路から入力した光信号から光信号を制御する制御信号をＢＰＦ１０５にて抽出し、光信号と光信号を励起する励起光とをＷＤＭカプラ１０３にて結合して光出力信号として出力し、光伝送路に配置されたＥＤＦと同一の信号帯域で動作するＥＤＦ１０２が伝送した光出力信号の信号レベルを可変減衰器１０９にて制御信号に基づいて減衰させ、可変減衰器１０９が信号レベルを減衰させた光出力信号の信号レベルが一定になるような励起光を励起部１１２からＷＤＭカプラ１０３へ出力し、光出力信号を分岐カプラ１１０から光伝送路へ出力する。 （もっと読む）

【課題】ストレーンによって発振波長間の間隔が変化する２つの波長の光源を実現し、２つの波長の光信号をビーティングさせて発振波長間の間隔に対応する周波数の信号を発生させる周波数可変信号発生装置及び方法を提供する。
【解決手段】周波数可変信号発生装置は、光源と、１つ以上の共振器と、ストレーンによって変形可能な構造物と、第１及び第２光ファイバ格子と、及び光電変換器とを含む。第１及び第２光ファイバ格子は、共振器内で発振する光信号のうち第１波長及び第２波長の光信号をフィルタリングする。第１及び第２光ファイバ格子は、構造物上に設けられる反射型光ファイバ格子であってもよい。又は、第１光ファイバ格子は構造物上に設けられる位相遷移光ファイバ格子であり、第２光ファイバ格子は共振器に光学的に連結された反射型光ファイバ格子であることもできる。光電変換器は、第１及び第２波長間の間隔に対応する周波数の信号を生成できる。 （もっと読む）

【課題】 高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】 短光パルスを発生する種パルス光源、パルスを伸長する伸長器、及び複数の鎖状につながった偏光を保持しているファイバ区分とからなり、その偏光保持ファイバの少なくとも１つは増幅器であるチャープパルス増幅システムにより、課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】比較的単純な構成により、ＳＮＲを向上できる小型で安定性が高く、経済性に優れたパルス光源装置およびこれを用いたイメージング装置を提供する。
【解決手段】半導体レーザ（１０）および電気パルス発生装置装置（２０）から構成される光パルス列を出射する光パルス源と、光パルス列とは異なる波長を有する励起光を出射する励起光源（３０）と、光パルス列と励起光とを合波する光カプラ（４０）と、光パルスの時間幅を圧縮する光ファイバ（５０）と、光パルス列を増幅する光増幅手段（６０）とを含んで光パルス光源装置を構成し、励起光源（３０）から出射した励起光を光ファイバ（５０）における誘導ラマン散乱増幅の励起光として使用するとともに、光増幅手段（６０）における励起光として使用し、光パルス列を増幅するようにする。 （もっと読む）

２本のファイバー間のスプライス接合部であって、ファイバー２、３の少なくとも一方が、少なくとも１つの内部信号コア６及び信号コア６を包囲するポンプコア７を含むファイバーコア４と、ポンプコア７に接触して位置すると共にポンプコア内で光を導波するのに用いられるファイバークラッド５とを有する、２本のファイバー間のスプライス接合部が開示される。少なくとも一方のファイバー２、３のファイバークラッド５は、ファイバー２、３の長手方向における所定の長さに沿ってファイバーのスプライス端部１２、１３から延びる接続ゾーン１１、１４において径方向に少なくとも部分的に取り除かれる。さらに、２本のファイバー２、３のスプライス端部１２、１３が内部に配置されると共に、接続ゾーン１１、１４全体に沿って接続ゾーン１１、１４を越えて延びる、支持ジャケット１５が設けられる。支持ジャケット１５は、接続ゾーン１１、１４に隣接してファイバー２、３の双方に機械的に接続されるが、接続ゾーン１１、１４全体に沿っては各ファイバー２、３に機械的に接続されず、ファイバーから或る距離のところにある。
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【課題】簡素な構造を保ちつつ、戻り光を低減可能なファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】励起光を放出可能な励起光源と、希土類元素が添加されたコアを有し、前記希土類元素が前記励起光を吸収して入射レーザ光を増幅可能なアクティブファイバと、前記アクティブファイバの一方の端部と接続され、前記励起光を前記アクティブファイバへ入射可能なコンバイナと、前記アクティブファイバの他方の端部からの出射レーザ光を伝送し且つ被照射体に向けて照射可能な伝送用ファイバと、前記他方の端部と前記伝送用ファイバとの間に設けられ、前記被照射体からの散乱光及または反射光の少なくともいずれかの一部を分岐して外部に放出することにより前記他方の端部へ向かう戻り光を低減可能なディバイダと、を備えたことを特徴とするファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】希土類で高度にドープされ、かつファイバを損なうことなく高い光出力で使用可能な増幅光ファイバを提供すること。
【解決手段】増幅光ファイバは、光信号の送信および増幅に適した中心コア（１０）と、中心コアを取り囲み、送信される光信号をコア内に閉じ込めるのに適した光クラッド（１１）とを含み、中心コアは、主マトリックスで形成され希土類でドープされたナノ粒子（５）を含む。各ナノ粒子内の希土類ドーパントの重量濃度は、１重量％（ｗｔ．％）と２０重量％の間に含まれ、中心コアの主マトリックス内のナノ粒子濃度は、０．０５体積％と１体積％の間に含まれる。そのような光ファイバは、高出力での光黒化の現象を回避しながら、希土類イオンを高濃度で組み込む。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、波長を連続的に走査でき、波長範囲が青色〜近赤外にわたる広帯域な波長可変レーザを提供することである。
【解決手段】 波長範囲が４２０〜４７５ｎｍのＧａＮ系レーザダイオードからなる励起光源と、該励起光源からの励起光を透過し且つ励起光を除く所望の波長帯の光を反射する第１のミラーと所望の波長帯の光を反射する第２のミラーの光路間に該励起光により発光するレーザ媒質が配置され、さらには該レーザ媒質と第２のミラーの光路間に第１の波長選択手段が配置されている共振器とを備えるレーザ装置において、
レーザ媒質に少なくともＰｒ^３＋が添加されているフッ化物ガラスを用いることにより連続的に変化可能であることを特徴とする波長可変レーザ装置。 （もっと読む）

【課題】強力な電離放射線環境において、限られた光損失で使用されうる増幅ファイバ、またはレーザファイバを提供すること。
【解決手段】増幅光ファイバまたはレーザ光ファイバは、光信号の送信および増幅に適した中心コアと、中心コアを取り囲み、送信された光信号をコア内に閉じ込めるのに適した光クラッドとを含む。コアは、マトリックスを有し、かつ希土類ドーピングのシリカベースナノ粒子を含む。各ナノ粒子は、少なくとも８５重量％（８５ｗｔ％）のシリカを含む。そのようなファイバは、強力な電離放射線環境において、限られた光損失で使用されうる。 （もっと読む）

ここで説明する様々な実施形態は、レーザ及び／又は増幅器装置であって、リンケイ酸ガラス中にイッテルビウムイオンを有するドープ利得ファイバ（１４０４）を含む。ここで説明する様々な実施形態は、ポンプ吸収を少なくとも約１０００ｄＢ／ｍ〜９０００ｄＢ／ｍに増加させる。利得ファイバの使用は、増加したピークパワー及び／又はパルスエネルギーの増加を提供する。リンケイ酸ガラス中にイッテルビウムイオンを有するドープ利得ファイバ（１４０４）の様々な実施形態は、イッテルビウムドープシリカファイバの等価ドープレベルで得られる光黒化レベルと比較して光黒化レベルを低減することが示される。
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【課題】誘導ラマン散乱の発生を抑制し、高ビーム品質かつ高出力のファイバレーザを実現するファイバレーザ用光ファイバを提供する。
【解決手段】希土類元素が添加されたコア２の周囲にクラッド３が形成された光ファイバ４と、光ファイバ４の所定の位置に配置され、中空コア７の周囲に複数の空孔３３ｂを有するクラッド８が形成されたフォトニックバンドギャップファイバ６とからなり、フォトニックバンドギャップファイバ６は、光ファイバ４内を伝搬するレーザ光Ｌ１の波長が含まれると共に、レーザ光Ｌ１を伝搬する際に発生するラマン散乱光の波長が含まれないバンドギャップを有するものである。 （もっと読む）

本発明は、高光学的流束による光黒化が低減した、光信号を増幅するための高パワー増幅器導波路に関する。これは、クラッドポンプ増幅器導波路の提供によって達成され、導波路の活性材料に対する光学モード重なり合いが小さいか、活性材料が導波路の大きな断面領域の上に分布しているか、その両方である。
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【課題】コアの屈折率プロファイルを制限することなくフォトダークニングを効果的に抑制したＹｂ添加光ファイバ及び該ファイバを用いたファイバレーザの提供。
【解決手段】コアとそれを囲むクラッドとを有し、コアに少なくともＹｂとＡｌとが添加されたＹｂ添加光ファイバを用意し、該Ｙｂ添加光ファイバにガンマ線、Ｘ線、電子線のいずれかを照射する第１の工程と、次いで、該Ｙｂ添加光ファイバを水素を含む雰囲気中で水素添加処理し、フォトダークニングを抑制したＹｂ添加光ファイバを得る第２の工程と、を有することを特徴とするフォトダークニングを抑制したＹｂ添加光ファイバの製造方法。この製造方法により得られたフォトダークニングを抑制したＹｂ添加光ファイバ。該ファイバを用いたファイバレーザ。 （もっと読む）

【課題】 製造が容易であり、コア部を伝播する信号光を十分に増幅することができる光ファイバ、及び、光ファイバ増幅器を提供する。
【解決手段】 光ファイバ１０は、少なくとも１種類の希土類元素が添加されたコア部１１と、コア部１１を被覆し、断面の外周が円形である第１クラッド部１３と、第１クラッド部１３を被覆し、第１クラッド部１３よりも屈折率が低い第２クラッド部１４とを備え、コア部１１の屈折率は、第１クラッド部１３の屈折率よりも高く、第１クラッド部１３において、屈折率は、コア部１１側から第２クラッド部１４側に向かって低くなり、かつ、屈折率の勾配は、コア部１１側から第２クラッド部１４側に向かって大きくなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】希土類元素の添加濃度を増加させずに、高出力のレーザ光が得られるファイバレーザ用ファイバを提供する。
【解決手段】希土類元素が添加されたコア２と、そのコア２の外周に形成されたクラッド３とを備えたファイバレーザ用ファイバ１において、コア２は、１７２０℃〜２０００℃の仮想温度を有するものである。 （もっと読む）

【課題】励起光の結合効率を高めると共に、ファイバ端面の損傷を抑制する。
【解決手段】光増幅成分がドープされたコア１、コア１を被覆するように設けられた第１クラッド２、第１クラッド２を被覆するように設けられ、コア１に沿って延びる複数の細孔が形成された第２クラッド３、及び第２クラッド３を被覆するように設けられたサポート層４を有するダブルクラッドファイバ本体部９と、ダブルクラッドファイバ本体部９のファイバ端面に融着され、第１クラッド２に励起光Ｌを入射させるための励起光入射部６ａとを備えた光ファイバ１０ａであって、励起光入射部６ａが融着された側のダブルクラッドファイバ本体部９のファイバ端部では、第２クラッド３及びサポート層４が取り除かれて第１クラッド２が露出している。 （もっと読む）

【課題】 フォトブリーチングによる増幅用光ファイバの特性回復を好適に実行することが可能なファイバ光学装置、及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】 増幅用光ファイバ１０と、光ファイバ１０に対してパルス種光を供給する種光源１５と、励起光を供給する励起光源２１〜２５と、フォトダークニングによる光透過損失を低減するためのブリーチング光を供給するブリーチング光源４０と、各部の動作を制御する制御装置５０とによってファイバ光学装置１Ａを構成する。制御装置５０は、第１出力光パルスと、その次の第２出力光パルスとの間を、第１出力光パルスの出力直後を含み反転分布が非飽和状態の第１期間と、第２出力光パルスの出力直前を含む第２期間とに区分し、光ファイバ１０に対して、第１期間においてブリーチング光を供給するとともに、第２期間において励起光を供給する。 （もっと読む）

【課題】より小型化を可能とするファイバレーザ発振装置、及びファイバレーザ発振装置をより小型化するためのファイバレーザ用ＮＡ変換光学系を提供する。
【解決手段】ファイバレーザ用光ファイバＦ２は、励起光Ｌ１を内部に閉じ込めることが可能な径で円状に巻回されている。励起光源モジュール１０は、巻回されたファイバレーザ用光ファイバの中央部近傍に配置されて、ファイバレーザ用光ファイバの前記円を横切るように励起光Ｌ１を出射する。ファイバレーザ用ＮＡ変換光学系３０は、励起光Ｌ１を反射するとともにレーザ光Ｌ２を透過する選択反射ミラー３５と第１レンズ３１と第２レンズ３２とで構成され、選択反射ミラーは、円状に巻回されたファイバレーザ用光ファイバに接する方向に励起光の進行方向がなるように所定角度で配置され、選択反射ミラーとファイバレーザ用光ファイバの端面との間に、第１レンズと第２レンズとが配置されている。 （もっと読む）

【課題】高い効率で高出力パルスレーザ光を得ることが可能なファイバレーザ装置、レーザ加工装置、並びにレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】第１のパルスシード光を放出可能な第１のシード光源と、前記第１のパルスシード光の波長とは異なる波長を有する第２のパルスシード光を放出可能な第２のシード光源と、励起光を放出可能な励起光源と、コアに添加された希土類元素が前記励起光を吸収し、前記第１のパルスシード光が増幅された第１の増幅光と前記第２のパルスシード光が増幅された第２の増幅光とを有する第１のレーザ光を放出可能とする光ファイバと、を備えたことを特徴とするファイバレーザ装置、レーザ加工装置、並びにレーザ加工方法が提供される。 （もっと読む）