【課題】本発明は、内部応力が小さい酸化スズ薄膜を提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材上に蒸着プロセスを経て形成される非結晶性の酸化スズ薄膜であり、該薄膜はＣｕＫα線を用いたＸ線反射率法により該薄膜の緻密化度（ρ／ρ_０）×１００が９０〜９５％とすること。酸化スズ薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率が２．０３以下である特徴も持つ。当該薄膜は内部応力が小さいため、基板との密着性が向上し、膜自体の剥離や基板の反り発生を抑制するため、低放射膜の部材として有用である。 （もっと読む）

【課題】ポットライフに優れた組成物を用いて形成され、耐擦傷性、耐ブロッキング性、印刷インクに対する密着性、及び印刷インクの印刷精度に優れるアンカーコート層を有する電磁波シールド層形成用基材の製造。
【解決手段】透明基材２０１上に、活性水素を含む基を有する合成樹脂、少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネート、及び有機金属触媒を含む組成物を塗布し、硬化させることによりアンカーコート層２０２を形成する工程を有し、前記有機金属触媒の含有量が、前記組成物の全固形分に対して０．５〜１．０質量％である電磁波シールド層形成用基材。 （もっと読む）

【課題】電極を備えた透明基材を提供する。
【解決手段】特にはガラス製であり、特には太陽電池用の電極を備え、厚さが多くとも５００ｎｍ、特には多くとも４００ｎｍ、多くとも３００ｎｍ、又は、多くとも２００ｎｍのモリブデンＭｏに基づいた導電層を含んで成る透明基材が提供される。好ましくは、モリブデンに基づいた層が、少なくとも２０ｎｍ、特には少なくとも５０ｎｍ、又は、少なくとも８０ｎｍの厚さで、更に好ましくは、特にアルカリ金属に対してバリヤーとして働く、少なくとも１つのバリヤー層を備え、該バリヤー層が前記基材と前記電極の間に挿入されている。 （もっと読む）

【課題】基板上に透明電極層を設け、さらにその上に導電性ペーストを原料とした金属配線を形成した透明電極付き基板において、当該透明電極層と当該金属配線の接着性に優れた透明電極付き基板を提供する。
【解決手段】透明電極層と金属配線の間にカーボン膜などの実質炭素を含有する層を形成することで、金属配線の剥離のない、耐久性に優れた透明電極付き基板を作製することができる。これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】視認性と発熱性に優れた透明性の発熱体（透明発熱体）に用いて好適な透明導電体を提供する。
【解決手段】対向して配置された第１電極１２ａ及び第２電極１２ｂと、第１電極１２ａ及び第２電極１２ｂ間に配置された透明導電部１４とを有する第１透明導電体１０Ａであって、透明導電部１４は、１つの透明フイルム基材上に形成された複数の導電性の金属細線によるメッシュパターン１８を有し、このメッシュパターン１８は、第１電極１２ａと第２電極１２ｂ間の電気抵抗分布が変化するパターンにて形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は表面平滑性・導電性・透明性に優れ、かつ生産性の高い透明電極およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】透明支持体上に金属ナノワイヤおよび導電性高分子を含む導電層を有する透明電極の製造方法において、金属ナノワイヤおよびバインダーを含む液を塗布することにより第一導電層を形成する工程、前記バインダーを架橋または硬化する工程、導電性高分子および非導電性高分子を含有する水系分散液を第一導電層の上に塗布し第二導電層を形成する工程および金属ナノワイヤ除去液をパターン印刷し水洗する工程を有することを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗率が高く、かつ表面抵抗率の材料内での場所による均一性が高く、メッシュ細線の視認性が低い透明導電性材料を提供する。
【解決手段】透明支持体上に断線部を設けた金属細線で描画された任意のメッシュパターンを有する透明導電性材料である。特に、表面抵抗率が１００〜１０００Ω／□であることが好ましい。アナログ方式の抵抗膜式タッチパネル用の電極材として好適な、表面抵抗率が高く、かつ均一であり、メッシュ細線の視認性が低い透明導電性材料である。 （もっと読む）

【課題】電磁波シールド性能（導電性）と印刷適性を両立した、電磁波シールドフィルムを簡便・安価に製造し得るポリマー型導電性ペーストを提供する。
【解決手段】グラビア印刷用導電性ペーストは、有機バインダー、導電粉末、着色剤、および有機溶剤を含有する導電性ペーストであって、前記有機溶剤が７６０ｍｍＨｇおける沸点が２４０〜３３０℃の範囲である溶剤を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で透明性に優れる共に平坦性に優れる透明導電性基板及び該透明導電性基板を安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い接着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、基材２を剥離する。これにより第一導電性層３と接着層７とが一体的に被転写基板８に熱転写させる。その後、熱転写された第一導電性層３の表面１５をエッチングし、エッチングで形成された孔部２１にめっきを施す。これにより低抵抗で透明性に優れる共に平坦性に優れる透明導電性基板１が得られる。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で透明性に優れる、第一導電性層、透明性の高い接着層及び第二導電性層を有する透明導電性基板及び該透明導電性基板を安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い接着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、熱転写して基材２を剥離する。これにより第一導電性層３と接着層７が一体的に被転写基板８に熱転写させる。その後、熱転写された転写層１０の表面１４に導電性樹脂を含む樹脂を塗布し、第一導電性層３と接続する第二導電性層５を形成する。これにより低抵抗で透明性に優れる透明導電性基板２０が得られる。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で透明性に優れる、第一導電性層、透明性の高い粘着層及び第二導電性層を有する透明導電性基板及び該透明導電性基板を安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い粘着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、転写して基材２を剥離する。これにより第一導電性層３と粘着層７が一体的に被転写基板８に転写させる。その後、転写された転写層１０の表面１４に導電性樹脂を含む樹脂を塗布し、第一導電性層３と接続する第二導電性層５を形成する。これにより低抵抗で透明性に優れる透明導電性基板２０が得られる。 （もっと読む）

【課題】焼成しても、膨れや剥離が生じることがない、導電性基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属ナノ粒子（Ａ１）とこの金属ナノ粒子（Ａ１）を被覆する保護コロイド（Ａ２）とで形成された金属コロイド粒子（Ａ）、沸点が１００〜２５０℃である極性溶媒で構成された分散媒（Ｂ）、及び沸点又は分解温度が２５０℃を超え、かつ数平均分子量が２００〜２０００である親水性化合物で構成されている分散助剤（Ｃ）を含む金属ナノ粒子ペーストを調製する。この金属ナノ粒子ペーストを用いると、焼成しても膨れが生じることなく、基材（特に、ＩＴＯやＦＴＯなどの金属酸化物で構成された透明電極膜）に強固に密着した焼結膜を形成できる。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル端部領域での筆記耐久性を向上させることができる導電性フィルム及びタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明導電性フィルムは、透明基材フィルムの一方の面に導電層が積層されて構成されている。そして、透明基材フィルムと導電層との間に膜厚８〜２０μｍのアンカー層が形成されている。また、透明導電性フィルムの導電層とは反対の面にハードコート層、防眩層、耐指紋性層等の機能層を形成し、それぞれハードコート機能、防眩機能、耐指紋性機能等の機能を発揮させることができる。タッチパネルは、その表面に上記透明導電性フィルムが配置されて構成されている。 （もっと読む）

【課題】構成が簡単で製造コストが低く、かつ透過光の着色の少ない透明導電材料およびそれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明導電材料は、基材（Ａ）の片面もしくは両面に、基材側から順にハードコート層、層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）および層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）を積層されている。しかも、ハードコート層の屈折率が１．４５〜１．６５および中間屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．７〜１．８５で、ハードコート層の屈折率＜中間屈折率層（Ｂ）の屈折率＜導電層（Ｃ）の屈折率の関係を満たす。中間屈折率層（Ｂ）は金属酸化物と紫外線硬化性単量体とより形成され、金属酸化物の平均粒径は０．０１〜０．０５μｍであり、金属酸化物と紫外線硬化性単量体との重量比は５０／５０〜９０／１０である。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルの端部領域での筆記耐久性（端押し耐久性）を向上させることができる透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明導電性フィルムは、透明基材フィルムの一方の面に第１緩衝層と第２緩衝層と導電層とがこの順に積層されて構成されている。そして、２０℃、５０％相対湿度の雰囲気下で測定した第１緩衝層単独のマルテンス硬度が０．１〜７０Ｎ／ｍｍ^２、第２緩衝層単独のマルテンス硬度が１００〜５００Ｎ／ｍｍ^２に設定されている。前記第１緩衝層、第２緩衝層及び導電層全体のマルテンス硬度は、１００〜５００Ｎ／ｍｍ^２であることが好ましい。また、透明基材フィルムの導電層とは反対の面に機能層を形成することができる。この透明導電性フィルムは、タッチパネルの表面に配置されて使用される。 （もっと読む）

【課題】 従来型のフォトリソグラフィーの工程を必要とせず、かつ、透明で十分な導電性を示す導電膜の厚膜を印刷法で実現する透明電極の製造方法、当該製造方法で得られる透明電極、用いる導電インキ、撥液性透明絶縁インキを提供する。
【解決手段】 樹脂、及び、シリコーン系又はフッ素系の界面活性剤を含有する撥液性透明絶縁インキを用いて、印刷法によりパターンを形成する工程、前記した撥液性透明絶縁インキの乾燥皮膜に対してはじき性を有する導電インキを全面に塗布し、該導電インキが、該撥液性透明絶縁インキの乾燥皮膜に、はじかれることにより、基板上の、該撥液性透明絶縁インキの乾燥皮膜が形成されていない部分に導電インキ層を形成する工程を有する透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高透過率、高導電性を有し、表面が平坦であり、且つ耐熱性と耐候性に優れた金属微粒子で構成される網目状構造物を含有する透明導電性膜及び前記透明導電性膜積層基板とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 金属微粒子で構成される網目状構造物を内包した酸化ケイ素を主成分とした酸化物膜であることを特徴とする透明導電性膜及び該透明導電性膜をガラス基板又はセラミックス基板に積層した透明導電性膜積層基板である。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。狭小溝９及び微小ピンホール７には、絶縁材料が埋められている。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と透光性とを同時に有する導電膜を低コストで製造するための導電膜形成用感光材料を提供する。
【解決手段】支持体上に銀塩含有乳剤層を有する導電膜形成用感光材料であって、前記銀塩含有乳剤層または銀塩含有乳剤層側のいずれかの層に導電性微粒子及びバインダーを含有し、前記導電性微粒子及びバインダーの質量比（導電性微粒子／バインダー）が１／３３〜１．５／１である導電膜形成用感光材料。 （もっと読む）

【課題】透明性及び耐熱性に優れるのみならず、強度、生産性及び安定性が高められた透明導電性フィルム等を提供すること。
【解決手段】基材と該基材の少なくとも片面に積層された透明導電膜とを備え、前記基材は、少なくともスチレン系樹脂を含む樹脂組成物からなる位相差フィルムであり、該位相差フィルムのＮＺ係数が−０．７以下である、透明導電性フィルム （もっと読む）