【課題】可撓性と共に高い導電性とを備えながらも導電性の劣化が防止された透明導電性フィルム、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性のフィルム基材１１と、フィルム基材１１上に設けられたカーボンナノチューブ層１３と、カーボンナノチューブ層１３に積層された光透過性の金属酸化物層１５-1とを備えた透明導電性フィルム１-1であり、金属酸化物層１５-1はクラックＡが設けられたクラック含有金属酸化物層１５-1である。クラックＡは、フィルム基材１１の端縁と略平行で互いに垂直をはす２方向に延設されている。 （もっと読む）

【課題】ウェットエッチング法によることなく、簡便な工法で、パターン認識性の低い導電パターンを形成することができる透明導電パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材１の表面に金属ナノフィラーを含む樹脂溶液を塗布して、金属ナノフィラーを含有させた透明導電膜２を形成する工程。この透明導電膜２の表面に、パターン状の開口部３が形成されたマスク４を配置する工程。このマスク４の透明導電膜２と反対側からプラズマ処理またはコロナ処理を行なって、マスク４の開口部３に対応する部分の透明導電膜２中の金属ナノフィラーを強制酸化することによって、酸化された金属ナノフィラーで透明導電膜２に非導通部５を形成すると共に酸化されていない金属ナノフィラーで導通部６を形成する工程。これらの工程を備えて透明導電パターンを作製する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、従来のＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が希少金属インジウムを使用しているのに対し、希少金属を用いず、炭素元素により透明導電性膜を実現することにある。
【解決手段】本発明の透明導電性膜は、グラフェン小片が互いに重なり合った多層構造を用いている。グラフェン小片の平均サイズが５０ｎｍ以上であり、層数が９層以下である。抵抗率が１×１０^-6Ωｍ以下、５５０ｎｍの光に対する透過率が８０％以上である。 （もっと読む）

【課題】従来に比べて導電膜の製造に要する時間の短縮と製造コストの低減を図ることができ、生産性の向上を図ることのできる導電膜の製造方法及び製造装置並びに導電膜を提供する。
【解決手段】表面に所定の凹凸形状１ａが形成されたモールド１と基板３との間に、繊維状導電性物質２ａを含み流動性を有する材料２を介在させた状態とする工程と、材料２の流動性を低下させる処理を行う工程と、モールド１を材料２から剥離する工程とを具備した導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】他の基板に効率よく転写することが可能で密着性の良い転写用導電性フィルムを提供する。
【解決手段】極細導電性繊維を含有する紫外線硬化型樹脂組成物からなる粘着層が剥離フィルム（Ａ）と剥離フィルム（Ｂ）で挟持され、前記極細導電性繊維の一部が前記粘着層から剥離フィルム（A）側に突出している転写用導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】ＶＯＣが主溶媒でない組成物を用いて、光透過性、耐久性、導電性のいずれも優れた塗膜を提供する。
【解決手段】導電性高分子、ドーパント、カーボンナノチューブ、水および分散剤を混合し、カーボンナノチューブ含有組成物を調製する。得られたカーボンナノチューブ含有組成物を塗布、乾燥することにより塗膜を作製する。分散剤は水溶性キシランを含むことが好ましく、更にアルコールを含むことがより好ましい。また水溶性キシランの主鎖の数平均重合度は、６以上５０００以下であること。 （もっと読む）

（ｉ）ポリマーベース層およびポリマー結合層を含むポリマー基材であって、ベース層のポリマー材料が軟化温度Ｔ_S-Bを有し、結合層のポリマー材料が軟化温度Ｔ_S-HSを有するポリマー基材；および（ｉｉ）多数のナノワイヤを含む導電層を含む透明導電性フィルムの製造方法であって、ナノワイヤが結合層のポリマーマトリックス中に少なくとも部分的に分散するように、前記ナノワイヤが結合層のポリマーマトリックスによって結合されており、ポリマーベース層およびポリマー結合層を含むポリマー基材を準備するステップ；前記ナノワイヤを結合層の露出した表面上に配置するステップ；および複合フィルムを温度Ｔ₁に加熱するステップであって、Ｔ₁がＴ_S-HS以上であり、Ｔ₁がＴ_S-Bより少なくとも約５℃低いステップを含む方法；ならびに、前記方法により得られる透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】
高透明のインジウム複合酸化物薄膜の導電性、耐久性、またはリニアリティを向上させたタッチパネル用透明電極を提供することにある。
【解決手段】
透明基板の少なくとも一方の面に、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜およびカーボン膜が積層された透明電極の製造方法であって、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜が１０〜４０ｎｍの膜厚であり、カーボン膜が０．５〜５．０ｎｍの膜厚であるように製膜され、上記カーボン膜が水素を５０〜１００体積％含むガスを用いたスパッタリング法によって製膜され、かつ製膜後の透明電極が７０℃以上１７０℃以下の温度で熱アニール処理して透明電極を製造することにより、課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】電気伝導度に優れ、製造が容易な導電性フィルムの製造方法及び導電性フィルムを提供する。
【解決手段】導電性フィルム製造方法は、金属前駆体及び導電性高分子物質の少なくとも一方が混合された混合溶液を形成する段階と、導電性構造体が形成されるように、混合溶液を微粒化して基板の表面に噴射する段階と、電気伝導度が向上するように、導電性構造体にカーボンナノチューブを結合させる段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】光透過性及び電気伝導度に優れ、かつ製造が容易な導電性フィルムの製造方法、及びその製造方法により製造される導電性フィルムを提供する。
【解決手段】導電性フィルム製造方法は、超音波による切断及び酸との化学反応の少なくとも一方により、カーボンナノチューブを前処理する段階と、前記カーボンナノチューブを溶媒に分散させる段階と、前記カーボンナノチューブ分散液にメタルワイヤを混合する段階と、前記メタルワイヤが混合されたカーボンナノチューブ分散液を基板上にコーティングして電極層を形成する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れる上に、ＩＴＯ膜（異導体）に対する接触抵抗を小さくかつ均一にできる導電性塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、表面平均細孔径が０．１〜１００ｎｍの細孔を有するメソポアカーボンと、溶媒とを含有し、メソポアカーボンの含有量が、π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量部に対し、０．００５〜１５質量部である。 （もっと読む）

本発明は、炭素ナノチューブ導電膜及びその製造方法を提供する。本発明の望ましい実施例による炭素ナノチューブ導電膜は、基底層と、炭素ナノチューブ電極層と、保護層と、を含む。基底層上に炭素ナノチューブ電極層が形成される。保護層は、炭素ナノチューブ電極層上に形成され、疎水性反応基を側鎖として有する基本骨格の他の側鎖に極性反応基が結合されたセラミックバインダーを含んでなる。本発明によれば、導電膜の導電性を落とさず、耐久性が向上した炭素ナノチューブ透明導電膜を製造することができる。
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【課題】薄膜でも光透過度と電気伝導度に優れる透明電極、伝導性積層体および伝導性樹脂膜を提供すること。
【解決手段】本発明の透明電極は、炭素ナノチューブを含有し、２００℃〜９００℃で少なくとも５％の重量減少を示す熱分解領域が現れ、当該熱分解領域は、２００℃〜４５０℃で熱分解を開始し且つＷ１（％）の重量減少率を示す第１熱分解領域、および４５０℃〜７００℃で熱分解を開始し且つＷ２（％）の重量減少率を示す第２熱分解領域からなり、Ｗ１／Ｗ２の値が０．１〜２０の伝導性樹脂膜を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブの濃度が高くても分散安定性が良好で、簡便に製造（調製）することができるカーボンナノチューブ分散液と、このカーボンナノチューブ分散液の塗膜を形成した導電性部材を提供する。
【解決手段】水のみの単独溶媒、又は、水と水溶性有機溶媒との混合溶媒に、カーボンナノチューブと、パーフルオロアルケニル基を有するノニオン性のフッ素系分散剤、又は、このノニオン性のフッ素系分散剤とパーフルオロアルケニル基を有する両性のフッ素系分散剤が含有され、カーボンナノチューブが均一に分散しているカーボンナノチューブ分散液とする。ノニオン性のフッ素系分散剤、又は、これと両性のフッ素系分散剤とによって、長期の分散安定性を向上させる。このカーボンナノチューブ分散液は、上記溶媒にカーボンナノチューブと上記フッ素系分散剤を添加して超音波を照射するだけで簡便に調整できる。 （もっと読む）

【課題】基板上に透明電極層を設け、さらにその上に導電性ペーストを原料とした金属配線を形成した透明電極付き基板において、当該透明電極層と当該金属配線の接着性に優れた透明電極付き基板を提供する。
【解決手段】透明電極層と金属配線の間にカーボン膜などの実質炭素を含有する層を形成することで、金属配線の剥離のない、耐久性に優れた透明電極付き基板を作製することができる。これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】透明導電性が高く、かつ透過光の色調がニュートラルであるＣＮＴを導電膜とする透明導電積層体を提供する。
【解決手段】透明基材の少なくとも片面上にカーボンナノチューブ導電膜と透明保護膜とが透明基材側からこの順に設けられた透明導電積層体であって、該透明保護膜側の反射率曲線の極小値が３５０〜５５０ｎｍの波長範囲にあり、かつ波長３８０〜７８０ｎｍにおける透明保護膜側の平均反射率が４％以下である透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】光学特性を低下させることなくブロッキング現象を防止することができるとともに、良好な加工適正を持ちフィルム表面へのオリゴマーの析出を防止することができる被膜を持つシートを提供する。
【解決手段】シート１０は、フィルム基材１１の表面に厚みが１２０ｎｍ以下の被膜１２を有する。被膜１２は硬化性組成物の硬化物で構成されている。硬化性組成物は金属酸化物ゾルと有機金属化合物を含有する。被膜１２に金属キレート化合物を含有させることで、光学特性を低下させることなくブロッキング現象を防止する。被膜１２を１２０ｎｍ以下で形成することにより、良好な加工適正が確保され、フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止する。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、高温下においても安定な特性を示す耐熱性に優れた導電性複合体を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブおよび非共役系分散剤からなる組成物であり、さらに不揮発性有機酸を含むことを特徴とする導電性組成物。非共役系分散剤がイオン性高分子であることを特徴とする導電性組成物。不揮発性有機酸が芳香族系有機酸であることを特徴とする導電性組成物。不揮発性有機酸がカーボンナノチューブ１００重量部に対して５０〜３００重量部含有される導電性組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。狭小溝９及び微小ピンホール７には、絶縁材料が埋められている。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。絶縁パターン層５は、目視により認識することができない幅の狭小溝９を有している。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。 （もっと読む）