【課題】透明導電膜、透明導電膜付き基材、及びそれを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子において、導電性を低下させることなく、機能層が形成される一面を平滑化する。
【解決手段】透明導電膜付き基材６は、基材２と、基材２上に形成される透明導電膜３と、を備え、透明導電膜３は、導電性を有する複数の金属細線３ａと、透明樹脂層３ｂと、を含む。複数の金属細線３ａは、透明樹脂層３ｂの作用面３ｃから一部が突出する。作用面３ｃにおける複数の金属細線３ａの存在割合Ｐ１と、透明樹脂層３ｂの基材２と平行で、作用面３ｃよりも基材２側に存在する断面３ｄにおける金属細線３ａの存在割合Ｐ２とが、Ｐ１＜Ｐ２となっている。従って、突出する金属細線３ａが少なくなり、作用面３ｃを平滑化できる。また、作用面３ｃよりも基材２側における金属細線３ａの存在割合が多くなり、導電性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、導電積層体をタッチパネル等に使用する電極部材に加工形成する際のアルカリ処理に対し耐性を有する導電積層体を提供せんとするものである。
【解決手段】基材の少なくとも片面に、下地層、線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分を含む導電層と、保護層とを積層した導電積層体であって、該下地層が下記（Ｉ）（ＩＩ）を満たす導電積層体。
（Ｉ）Ｓ元素、および、金属イオンを、いずれも含まない親水性官能基（Ａ）を有する。
（ＩＩ）メラミン系架橋剤（Ｂ）を含む。 （もっと読む）

【課題】優れた視認性を有する透明導電性素子を提供する。
【解決手段】透明導電性素子は、第１の表面および第２の表面を有する基材と、第１の表面および第２の表面の少なくとも一方に形成された透明電極パターン部および透明絶縁パターン部とを備える。透明電極パターン部と透明絶縁パターン部とが、基材表面に交互に敷き詰められる。透明電極パターン部には、複数の孔部が離間してランダムに形成され、透明絶縁パターン部には、複数の島部が離間してランダムに形成されている。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜が導電性繊維を含むものであるにもかかわらず、外部引き回し配線との接触抵抗を小さくでき、しかも導電パターンの寸法精度に優れる導電パターン形成基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明絶縁基板と、該透明絶縁基板の片面に設けられ、透明絶縁材料と該透明絶縁材料内に２次元ネットワーク状に配置された導電性繊維とを含む透明導電膜とを備える導電性基板に導電パターンを設ける導電パターン形成基板の製造方法であって、前記透明導電膜の表面の一部に、複数の金属端子１５を設けた後に、前記透明導電膜にパルス状レーザ光を走査しながら照射することにより、透明絶縁材料内の導電性繊維を除去し、導電性繊維が存在していた部分に空隙を形成して、絶縁ラインＢにより構成された絶縁パターン１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】熱ＣＶＤによるグラフェン膜成膜の高温プロセス、かつプロセス時間が長いという問題を解決すべく、より低温で短時間にグラフェン膜による結晶性炭素膜を用いた透明導電性炭素膜を形成する手法を提供する。
【解決手段】基材温度を５００℃以下、圧力を５０Ｐａ以下に設定し、かつ含炭素ガスと不活性ガスからなる混合ガスに基材表面の酸化を抑制するための酸化抑制剤を添加ガスとして加えたガス雰囲気中で、マイクロ波表面波プラズマＣＶＤ法により、銅又はアルミの薄膜の基材表面上に透明導電性炭素膜を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】配線領域の形成に手間がかからず製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板１１上の表示領域１３及び配線領域１５に、透明基体内に網状部材が配置される基礎膜ａを形成する工程と、基礎膜ａ上の表示領域１３に対応する部位にマスク手段を形成して、基礎膜ａのうち配線領域１５に対応する部位をエッチングにより除去する工程と、基礎膜ａのうち表示領域１３に対応する部位にレーザ光Ｌを照射することにより、空隙を形成して、透明導電膜１２とする工程と、配線領域１５の絶縁基板１１上に、透明導電膜１２の導電部Ｃに電気的に接続する配線ライン１４を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、カーボンナノチューブの分散性を維持しつつ高い導電性を示す導電性複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】分子内にスルホン酸基を有する分散剤（Ａ）とカーボンナノチューブを含有する組成物（Ｂ）を基材上へ製膜する第一の工程、および組成物（Ｂ）が製膜された面にオーバーコート剤を積層する第二の工程を含む導電性複合体の製造方法であって、第一の工程における導電層の表面抵抗値Ｒ_Ａと第二の工程を経た後の導電層の表面抵抗値Ｒ_Ｂとの関係がＲ_Ａ＞Ｒ_Ｂとなることを特徴とする導電性複合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
カーボンナノチューブを導電材して用いた透明導電複合材において、透明導電性の高い透明導電複合材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
透明基材上に、カーボンナノチューブを溶媒に分散した分散液を塗布後、該分散液中の溶媒を蒸発させて除去し、カーボンナノチューブ含有層を形成する透明導電複合材の製造方法であって、
分散液を塗布する面の水接触角を３５〜５５°となるよう調整した透明基材上に、以下の（Ａ）および／または（Ｂ）の特性を満たす様に調整したカーボンナノチューブの濃度が０．０２〜０．１５質量％の分散液を塗布することを特徴とする透明導電複合材の製造方法。
（Ａ）ｐＨが６〜１０
（Ｂ）カーボンナノチューブの濃度を０．００３質量％に希釈した分散液のゼータ電位が−６０ｍＶ〜−４０ｍＶ （もっと読む）

【課題】耐熱安定性、耐湿熱安定性に優れ、高導電性の導電性体、またその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブ［Ａ］と、カルボキシメチルセルロース［Ｂ］とが、［Ａ］に対する［Ｂ］の質量比（［Ｂ］の含有量／［Ａ］の含有量）が０．５〜９で含まれる、水［Ｃ］を分散媒とした分散液を、基材上に［Ａ］を１〜４０ｍｇ／ｍ^２の範囲となるよう塗布し乾燥した塗布面に、酸触媒［Ｄ］とアルコール［Ｅ］とを、［Ｅ］に対する［Ｄ］の質量比（［Ｄ］の含有量／［Ｅ］の含有量）が０．００５〜０．１である処理液を２５℃〜１００℃、５秒〜２０分の条件で接触させた後、乾燥させることを特徴とする導電体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性線状構造体を溶液に分散させ基材に室温、大気圧下で導電体を形成させる際に、導電性線状構造体の配向性が極めて小さい導電体を提供し、電磁波シールド、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパーやタッチパネル電極などのディスプレイ関連のＸＹ電極に搭載した際に、位置検出精度が高く、誤作動の少ない導電体を提供することを目的とする。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に導電性線状構造体を含有する導電体層を有する導電性フィルムであって、該導電体層上で無作為に場所を選択して撮影した画像の中心に直径が実寸法で７０μｍに当たる円を作図し、該円の中心を通り該円を３６等分する１８本の直線を引き、前記円の内部における前記導電性線状構造体と前記直線との交点の数を各直線ごとに計数し、該交点の数が最も多い直線をｌ_０、ｌ_０となす角が９０度である直線をｌ_９０としたとき、ｌ_０の前記交点の数ｎ_０とｌ_９０の前記交点の数ｎ_９０の比である交差本数比ｎ_０／ｎ_９０が１．００〜１．２５である導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有するタッチパネルにおいて、銅配線のパターニング工程においての付着性を向上させると共に、透明導電膜の抵抗が安定に保持されることができる透明導電膜を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜は、プラスチック材料からなり、一面の中央に作動エリア１３と、外周縁に該作動エリア１３を取り囲んだ縁枠エリア１４とが画成されているベース板１と、ベース板１の一面に形成された透明導電膜層２と、縁枠エリア１４内にベース板１から離れて透明導電膜層２の上に形成された銅配線層３と、透明導電膜層及び銅配線層の間に接して形成されたアンカー層４とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】混合ナノ粒子を利用した透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は基板部及び導電部を備える。前記基板部は少なくとも１つのプラスチック基板を備える。前記導電部は少なくとも１つの透明導電フィルム及び少なくとも１つの導電ナノ粒子群が同時に形成されたものであり、前記透明導電フィルムは前記プラスチック基板上に形成される。前記導電ナノ粒子群は前記透明導電フィルム内に複数混入或いは組み込まれる導電ナノファイバーである。 （もっと読む）

【課題】塗布プロセスを用いて、色味がなく、透明導電性の高い透明導電膜を低コストで容易に製造することができる透明導電膜の製造方法およびそれに用いるカーボンナノチューブ・導電性ポリマー複合分散液を提供する。
【解決手段】表面に親水基を付与したカーボンナノチューブに対して親水性の導電性ポリマーを重量比で０．５以上４以下となるように混合し、溶媒に分散させ、カーボンナノチューブの濃度を０．１ｇ／Ｌ以上２．０ｇ／Ｌ以下とすることにより、カーボンナノチューブ・導電性ポリマー複合分散液を製造する。このカーボンナノチューブ・導電性ポリマー複合分散液を透明基材上に塗布することにより透明導電膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】 水分に対する高いガスバリア性を有するにもかかわらず、プラスチックフィルムが吸湿した含有水分の除去が容易であり、表示素子の表示性能の低下などの問題が生じにくい、表示素子などへの用途に適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 基材プラスチックフィルムの一方の面にガスバリア機能層を有し、他方の面に透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記ガスバリア機能層の水蒸気透過度を０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下とし、前記透明導電層の水蒸気透過度を１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上としたことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】微細な線幅のパターンを高精度で容易に形成することができ、かつ、導電性微粒子の粒径が小さくとも優れた電磁波シールド性を発現し得るプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド材用導電性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）平均一次粒径０．５〜２．０μｍの導電性粉末を７５．０〜９０．０質量％、（Ｂ）重量平均分子量５万〜２６万、エポキシ当量２８４〜９４６ｇ／ｅｑ、水酸基価５８〜１５５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル樹脂を４．０〜７．０質量％、及び、（Ｃ）溶剤を５．０〜１５．０質量％、含み、かつ、せん断速度５００ｓ^−１における粘度が３０．０Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用電磁波シールド材用導電性樹脂組成物 （もっと読む）

【課題】シート抵抗が十分に低く、可視光透過率が十分に高く、全面にわたって高い導電性を確保することができ、しかも電解液に対する耐食性に優れた透明導電膜およびその製造方法ならびにこの透明導電膜を用いた光電変換装置および電子機器を提供する。
【解決手段】透明導電膜は、金属細線ネットワーク層１２と、この金属細線ネットワーク層１２の少なくとも一方の面に設けられた一層または複数層のグラフェン層１３とを有する。金属細線ネットワーク層１２は、銅、銀、アルミニウム、金、鉄、ニッケル、チタンおよび白金からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属からなる。金属細線ネットワーク層１２は透明基板１１上に設ける。フレキシブルな透明導電膜を得るためには、透明基板１１として透明プラスチック基板を用いる。 （もっと読む）

【課題】
湿式法で塗布と焼成といった簡便な工程と簡便で安価な設備で、透明性や導電性に優れた透明導電材料に適するグラフェン薄膜の作製方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
少なくともベンゼン環が4個以上連結した構造を核とし、炭素数3以上の脂肪族炭化水素を置換基として有する多環式芳香族炭化水素誘導体に触媒を加えた液状組成物を基体に塗布して塗膜を形成したのち、前記基体上の塗膜を不活性ガス雰囲気中で焼成することを特徴とするグラフェン薄膜の製造法。 （もっと読む）

【課題】耐熱安定性に優れ、高導電性でかつ透過性にすぐれた透明導電性体、またその簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブ［Ａ］と分散剤［Ｂ］と分散媒［Ｃ］とを、カーボンナノチューブ［Ａ］に対する分散剤［Ｂ］の質量比（［Ｂ］／［Ａ］）が１〜９、カーボンナノチューブ［Ａ］の含有率｛［Ａ］／（［Ａ］＋［Ｂ］＋［Ｃ］）｝が０．０００３〜０．０１５質量％となる範囲で含む被処理分散液を、分散剤［Ｂ］の分子量より分画分子量が大きい限外濾過膜を用いて被処理分散液のカーボンナノチューブの濃度を１０〜５００倍に濃縮して塗布用分散液を調製し、該塗布用分散液を透明基材上に塗布した後、乾燥させることを特徴とする透明導電体の製造方法。限外濾過法によって事前に分散剤を取り除くことで、透明導電性および耐熱安定性を向上させることを見出した。 （もっと読む）

【課題】透明導電性が高く、透過光の色調がニュートラルであり、かつ耐屈曲性に優れたＣＮＴを導電膜とする透明導電積層体を提供する。
【解決手段】透明導電積層体１０３は、厚み２０〜１８８μｍの透明基材１０１の少なくとも片面上にカーボンナノチューブ導電膜１０２と透明保護膜とが透明基材側からこの順に設けられた透明導電積層体であって、前記透明保護膜の厚みが１０〜１２０ｎｍの範囲にあり、前記透明保護膜側の反射率曲線の極小値が２８０〜７００ｎｍの波長範囲にあり、かつ波長３８０〜７８０ｎｍにおける透明保護膜側の平均反射率が２．５％以下のものである。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、透明導電性及びガスバリア性が高く、かつ耐屈曲性に優れたＣＮＴを導電性の層とする透明導電積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の透明導電積層体は、厚み２０〜１８８μｍの透明基材の少なくとも片面上に［Ａ］厚みが１０〜５００ｎｍである含ケイ素無機層、［Ｂ］厚みが１〜５０ｎｍであるカーボンナノチューブ層、［Ｃ］厚みが１０〜１２０ｎｍである透明保護層が透明基材側からこの順に設けられ、［Ａ］層の層内に、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．７〜０．９である硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相からなる、厚みが［Ａ］の層の全厚みの４０〜１００％である層状の領域を有することを特徴とする透明導電積層体。 （もっと読む）