【課題】本発明は、導電性が良好であり、なおかつ異常突起の少ない（平滑性のよい）、さらには乾燥時間が短縮でき、生産性が向上した透明導電膜の再現性がよい製造方法を提供することにある。
【解決手段】基材上に透明導電膜を形成し、次いで、該透明導電膜上に、少なくとも有機化合物層および対向電極層を形成する、有機エレクトロニクス素子の製造方法において、該透明導電膜を形成する前の基材の水分量を制御する工程を有することを特徴とする有機エレクトロニクス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
高透明のインジウム複合酸化物薄膜の導電性、耐久性、またはリニアリティを向上させたタッチパネル用透明電極を提供することにある。
【解決手段】
透明基板の少なくとも一方の面に、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜およびカーボン膜が積層された透明電極の製造方法であって、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜が１０〜４０ｎｍの膜厚であり、カーボン膜が０．５〜５．０ｎｍの膜厚であるように製膜され、上記カーボン膜が水素を５０〜１００体積％含むガスを用いたスパッタリング法によって製膜され、かつ製膜後の透明電極が７０℃以上１７０℃以下の温度で熱アニール処理して透明電極を製造することにより、課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】
透明導電膜の微細パターニングを可能とするリフトオフ法によるパターニング方法、及び該パターニング方法を用いて形成された透明導電パターン膜を提供する。
【解決手段】
基材上に有機溶媒可溶性でかつ水不溶性のフォトレジストパターンを形成するパターンレジスト形成工程、前記フォトレジストパターンが形成された基材上の全面に導電性酸化物微粒子と無機バインダーと溶媒とからなる透明導電膜形成用塗布液を塗布、乾燥、硬化して導電性酸化物微粒子と無機バインダーマトリックスを主成分とする透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程、前記フォトレジストパターンを有機溶媒で溶解除去による現像をすることでフォトレジストパターン上に形成された透明導電膜を除去して透明導電パターン膜を得る透明導電膜パターニング工程を具備し、前記透明導電膜形成用塗布液の溶媒は、水又は水−アルコール混合溶液を主成分とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低コストで形成可能であると共に低抵抗の導電体基板、導電体基板の製造方法、デバイス及び電子機器を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に設けられ、結晶成長を制御するシード層と、前記シード層上に設けられ、酸化スズ系透明導電体の結晶からなる導電層とを備える。 （もっと読む）

【課題】酸化インジウムを主成分とする透明導電性酸化物層の導電性を向上させ、透明導電性酸化物層の膜厚を大きくせず、透過率を向上させる透明電極付き基板を提供する。
【解決手段】透明導電性酸化物層(2-1,2-n,2-（n+1）)を水素プラズマ処理または水素化カーボン層製膜(3-1,3-n)することで、透明導電性酸化物層のキャリア濃度を向上し、且つ多層構造とすることで増加したキャリアの失活を防ぐことが可能となり、従来よりも薄膜で導電性を確保し透過率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】インクジェットプリンタを用いた塗布法によって良好なパターン形状を形成できる透明導電膜形成用インクを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜形成用インクは、透明導電性粒子と、分散剤と、表面改質剤と、溶媒とを含み、前記溶媒の含有量は、前記インク全体の重量に対して、５５〜８５重量％であり、前記溶媒は、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル及びジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートからなる群から選らばれる少なくとも一種であり、表面張力を２３ｍN／ｍ〜２７ｍN／ｍ、固形分濃度を１５重量％〜４５重量％でることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明基材としてのガラス基板の表面処理と導電性無機粒子の体積含率を含めたコーティングコーティング組成物とを、特定の要件を満たすようにして、製品の製造段階においてはモジュール等への組み立て工程中の洗浄工程に耐えうる硬度や耐溶剤性を保持し、帯電防止機能が高くかつ透明性に優れる透明導電膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜は、透明基材の上に、導電性無機粒子と樹脂成分と含むコーティング組成物を塗布した透明導電膜あって、前記透明基材は、該基材表面をシランカップリング剤で処理したガラス基板であり、前記導電性無機粒子の前記組成物における体積含率が、２５％以上５５％以下であり、前記樹脂成分は光硬化モノマーと開始剤とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 スパッタ条件の適正化により低抵抗率のＺｎＯ系薄膜が得られる透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、Ａｌ、Ｇａ、Ｂの１種または２種以上を０．１〜５質量％含有するＺｎＯ系ターゲットを用いて、０．１Ｔを超える漏洩磁束かつ０．４Ｐａ以下のスパッタガス圧の条件で直流マグネトロンスパッタリングにより、１０ｎｍ以上の膜厚を有するＺｎＯ系薄膜を基板上に形成する透明導電膜の製造方法である。好ましくは、漏洩磁束を０．２Ｔ以下とし、スパッタガス圧の範囲を０．１〜０．３Ｐａとする。 （もっと読む）

【課題】タングステン酸化物や複合タングステン酸化物を用いた高い導電性を持つ安価な透明導電膜の製造方法及び得られる透明導電膜、それを用いた透明導電部材、並びに、電子ディスプレイ機器、太陽電池の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるタングステン酸化物（Ａ）、及び／または一般式（２）で示される複合タングステン酸化物（Ｂ）を含む透明導電膜の製造方法であって、原料粉末として、平均粒径が０．０５〜５．０μｍ、及び最大粒子径が１５．０μｍ以下であるタングステン酸化物、及び／または複合タングステン酸化物を用い、エアロゾルデポジション法で、透明基材上に透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法など。透明導電膜は、５．０×１０^−３Ω／□を下回る導電性を持ち、これを組み入れることで透明導電部材、並びに、電子ディスプレイ機器、太陽電池を安価に製造できる。
ＷｙＯｚ・・・（１）
ＭｘＷｙＯｚ・・・（２） （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ用表示電極等に用いられるＩＴＯ系非晶質透明導電膜をスパッタ時に水添加することなく製造でき、高エッチング性と低結晶化温度を有し、結晶化後には低抵抗率と高透過率の特性を高い次元で満足する透明導電膜、該透明導電膜製造用のスパッタ時に異常放電のない焼結体ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化インジウムを主成分とし、Ｇｅ／（Ｇｅ＋Ｉｎ）の原子％で６〜１６％であり、その他の諸特性を有する焼結体ターゲット、該ターゲットを所定の条件でスパッタして得られる非晶質透明導電膜、該非晶質透明導電膜をアニールして得られる結晶質透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】 表面抵抗値が高く、かつ、信頼性の高い透明導電積層体を製造することが可能な透明導電積層体の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 本発明の透明導電積層体の製造方法は、透明基材フィルム１１上に透明導電層１２が形成された透明導電積層体の製造方法であって、スパッタリング用ガスおよび酸素ガスを含む混合ガス中において、Ｉｎ_２Ｏ_３およびＳｎＯ_２を含むターゲットを用いたスパッタリング法により、前記透明基材フィルム１１上に前記透明導電層１２を形成する透明導電層形成工程を含み、前記ターゲットが、さらに、第３の成分を含み、前記ターゲットにおける前記Ｉｎ_２Ｏ_３と前記ＳｎＯ_２との合計含有割合に対する前記ＳｎＯ_２の含有割合が、２０〜４５重量％の範囲であり、前記混合ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が、１〜５体積％の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた塗膜強度、即ち耐摺動特性を有する透明導電性シートを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シート１０は、透明基材１１と、透明基材１１の上に形成された透明導電膜１２とを含む透明導電性シート１０であって、透明導電膜１２は、透明導電性粒子と、炭素数５〜１６の炭化水素鎖を有する表面処理剤と、熱可塑性樹脂とを含み、透明導電膜１２は、ガラス転移温度が５０〜９０℃である。本発明の透明導電性シート１０の製造方法は、透明基材１１の上に、透明導電性粒子と、表面処理剤と、熱可塑性樹脂とを含むコーティング組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、上記塗膜をカレンダ処理して透明導電膜１２を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】良好な光学特性を有しつつ、優れた電気特性と摺動特性を有する透明導電性シートを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性材料は、透明導電性粒子と、表面処理剤と、熱可塑性樹脂とを含み、上記表面処理剤は、含フッ素アルキル基を有する。また、透明導電性シート１０は、透明基材１１と透明基材１１の上に形成された透明導電膜１２とを含み、透明導電膜１２は、透明導電性粒子と、表面処理剤と、熱可塑性樹脂とを含み、上記表面処理剤は、含フッ素アルキル基を有する。また、透明導電性シート１０の製造方法は、透明基材１１の上に、上記本発明の透明導電性材料を塗布して塗膜を形成する工程と、上記塗膜をカレンダ処理して透明導電膜１２を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

本発明は、ａ）ＵＶ硬化型官能基含有バインダー樹脂；ｂ）フッ素系ＵＶ硬化型官能基含有化合物；ｃ）光開始剤；ｄ）ナノ微粒子；およびｅ）導電性無機粒子を含むことを特徴とするコーティング組成物およびコーティングフィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】電磁波シールド性能（導電性）と印刷適性を両立した、電磁波シールドフィルムを簡便・安価に製造し得るポリマー型導電性ペーストを提供する。
【解決手段】グラビア印刷用導電性ペーストは、有機バインダー、導電粉末、着色剤、および有機溶剤を含有する導電性ペーストであって、前記有機溶剤が７６０ｍｍＨｇおける沸点が２４０〜３３０℃の範囲である溶剤を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材表面が親水性および疎水性のいずれであっても、自己組織化反応によってナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成することのできるナノシートとポリマーとの複合薄膜の製造方法、およびナノシートとポリマーとの複合薄膜を提供すること。
【解決手段】ナノシートとポリマーとの複合薄膜の製造方法において、正電荷層を形成した後、正電荷層に自己組織化反応によって酸化ルテニウムナノシートを吸着させてナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成する。その際、カチオン部（ＮＨ₂⁺）、親水部（ＯＨ）および疎水部（−ＣＨ₂−ＣＨ₂−）を備えたＰＶＡ共重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】 良好な導電性と透明性を有し、所望の形状にパターニングされた酸化チタン系透明導電性膜を備えた透明導電性基板を容易に得ることができる透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基板上に酸化チタン系透明導電性膜形成用前駆体液を塗布し、３５０℃以下の温度で乾燥させ、得られた被膜にエッチング処理を施した後、アニール処理を施す。前記酸化チタン系透明導電性膜形成用前駆体液は、（Ａ）チタン化合物を過酸化水素と反応させて得られる反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物を過酸化水素と反応させて得られる反応生成物とを含んでなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた多層フィルムを作製し、供給する。
【解決手段】透明な樹脂基板１１の少なくとも一方の面に該樹脂基板とは屈折率の異なる光学膜１３、１４を形成し、最外層１５に透明導電膜１５を有する多層フィルムにおいて、該多層フィルムの40℃90%Rhにおける水蒸気透過速度を1.0g/m2・day以下とする。前記光学膜は透明な樹脂基板に近い層から順に、屈折率n1が1.50〜2.20で膜厚d1が1〜10nmである第１の薄膜層１３と、屈折率n2が1.35〜1.50で膜厚ｄ2が10〜40nmの第２の薄膜層１４からなり、また、透明導電膜１５は、屈折率n3が1.90〜2.20で膜厚d3が10〜30nmの第３の薄膜層からなる。 （もっと読む）

【課題】成膜の生産性が高く、低い体積抵抗率を有しかつ高湿環境下において体積抵抗率の上昇が抑制されるＺｎＯ蒸着膜、及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】希土類元素を０．１〜１５質量％含むＺｎＯ焼結体を蒸着材に用い、反応性プラズマ蒸着法により酸素ガス流量０〜５００ｓｃｃｍ、成膜速度０．５〜５．０ｎｍ／秒で成膜を行い、高耐湿性のＺｎＯ膜を成膜する。希土類元素は、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ又はＳｍの少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供すること。
【解決手段】積層フィルム１０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６とを具備している。光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６は、樹脂基板１１の屈折率とは異なる屈折率を有している。積層フィルム１０は、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であるように形成されている。積層フィルム１０は、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることが望ましい。 （もっと読む）