【課題】 各々の透明導電膜の回路パターンを外部回路と接続できれば、静電容量センサーに適用できる両面透明導電膜シートとその製造方法を提供する。
【解決手段】 本本発明の両面透明導電膜シートの製造方法は、基体シートの両面に、各々、透明導電膜、遮光性膜、レジスト層を順次形成した後、両面同時にレジスト層を露光し、現像してパターン化した後、露出した遮光性膜の一部および透明導電膜の一部を両面同時にエッチングし、次いでパターン化したレジスト層および遮光性膜を剥離することにより、基体シートの両面に、透明導電膜の異なるパターンを位置ずれなく形成する。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いた際のペン入力耐久性に優れ、特に後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製のペンを使用し、５．０Ｎの荷重で１０万回の摺動試験後でも透明導電性薄膜の劣化がない、透明導電性フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材上に、紫外線硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層、及び透明導電性薄膜をこの順に積層した透明導電性フィルムの製造方法であって、前記透明導電性フィルムに含有する揮発成分量が３０ｐｐｍ以下であり、紫外線照射による架橋反応の後に加熱処理を施す透明導電性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いた場合でも、基板上に優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができる、導電性膜の製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工して導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後、網目状のパターンを有する導電性膜を形成する工程、及び、光を照射する工程を含むことを特徴とする導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い可視光透過率、低い抵抗率、高いヘイズを同時に満足する透明電極膜を製膜可能な透明電極膜の製膜方法を提供することを目的とする。また、高い可視光透過率、低い抵抗率、高いヘイズを同時に満足する透明電極膜を用いた高効率な太陽電池を製造可能な太陽電池の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）ＳｉＨ_４とＯ_２とをＯ／Ｓｉ第１比で含む第４原料ガスを供給し、基板上にアルカリバリア膜を形成する工程を具備し、Ｏ／Ｓｉ第１比は、４０以上２００以下であり、アルカリバリア膜の膜厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である透明導電膜及びアルカリバリア膜から構成される透明電極膜の製膜方法である。 （もっと読む）

【課題】任意の色相に着色することができカラーフィルターの機能を有し、低い電気抵抗値を有すると共に低コストで製造できる透明導電体、前記透明導電体を製造するために好適に用いることのできる転写用導電性フィルム、さらに、前記転写用導電性フィルムを用いて、前記透明導電体を製造する方法を提供する。
【解決手段】基材６と、基材６上の透明導電層３と、基材６と透明導電層３との間に介在する接着層５とを有する透明導電体２０であって、前記導電層３は、導電性微粒子２の圧縮層であり、前記接着層５は、活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を少なくとも含む接着性成分と、着色材４とを含む接着剤組成物の硬化物層であり、前記導電層には、前記接着剤組成物のうちの前記接着性成分が含浸され硬化されている透明導電体。 （もっと読む）

【課題】光透過率を低下させることなく薄膜の電導性を向上させることのできる金属ナノ粒子を含むアルミニウム添加亜鉛酸化物（ＡＺＯ）透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】金属ナノ粒子を含むＡＺＯ透明導電膜の製造方法であって、先ず金属前駆体をゾルゲル法により形成されたアルミニウム添加亜鉛酸化物のアルコール含有反応液中に加えて、アルミニウム添加亜鉛酸化物のゾルゲルを形成すると同時にアルコールの還元作用により金属ナノ粒子を生成して、金属ナノ粒子を含むＡＺＯゲル溶液を形成し、塗布成膜後に適切な熱処理を経るものであり、この金属ナノ粒子を含むＡＺＯ透明導電膜の可視光線範囲全体の光透過率が８５％以上に達し、抵抗率が２×１０^-3Ω・cm以下である。 （もっと読む）

【課題】異常放電を抑制することが可能なスパッタリングターゲット、及びそれを用いた膜の製造方法を提供する。またそのようなターゲットとして使用可能な複合酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】主として亜鉛、元素Ｍ（Ｍはアルミニウム及び／またはガリウム）、チタン及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、原子比が、
（Ｍ＋Ｔｉ）／（Ｚｎ＋Ｍ＋Ｔｉ）＝０．００４〜０．０６
Ｍ／（Ｚｎ＋Ｍ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０５８
Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ｍ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０５８
であり、焼結体が主として酸化亜鉛を含有し平均粒径が２０μｍ以下の六方晶系ウルツ型構造を有する粒子、及び元素Ｍおよびチタンを含有し平均粒径が５μｍ以下のＺｎＴｉＯ_３型類似構造を有する粒子等からなる。その焼結体をターゲットとして用いて成膜する。 （もっと読む）

【課題】優れたエッチング加工性を有することで下部材料及びその他物質の侵食を発生させず、且つ残渣などの諸問題を生じさせない透明伝導膜とこれを形成することができるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】本発明は、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化錫（ＳｎＯ_２）及びガリウムを含み、錫原子の含有率が、インジウム原子及び錫原子の合計に対して５ないし１５原子％であり、ガリウム原子の含有率が、インジウム原子、錫原子及びガリウム原子の合計に対して０．５ないし７原子％であることを特徴とする酸化インジウム錫スパッタリングターゲットを提供する。 （もっと読む）

【課題】優れた塗膜強度、即ち耐摺動特性を有する透明導電膜を備える機能性粘着フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、支持体１１と、支持体１１の一方の主面側に配置された透明導電膜１２と、透明導電膜１２上に配置された粘着層１３とを含む機能性粘着フィルム１０であって、透明導電膜１２は、透明導電性粒子と炭素数５〜１５の炭化水素鎖を有する表面処理剤とアニオン性官能基を含む熱可塑性樹脂とガラス転移温度が３０〜９０℃のバインダ樹脂とを含む圧縮層である。 （もっと読む）

【課題】容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
【解決手段】基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、
基板上にＳｎＯ_２−ｘ膜（０．３≦ｘ≦１．９５）を形成する工程、前記ＳｎＯ_２−ｘ膜の一部を除去してパターニングする工程、パターニングされた前記ＳｎＯ_２−ｘ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含む透明電極の製造方法、または、
基板上に膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜を形成する工程、前記膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜の一部を除去してパターニングする工程、パターニングされた前記膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含む透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透明導電性積層体を用いて形成したタッチパネルを備える機材の応答性や作動性の低下を抑制することが可能な、透明導電性積層体及び透明導電性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】透明なフィルムである透明基材２と、透明基材２の一方の面に形成された導電性を有する導電機能層４と、導電機能層４の上に形成された配線用電極６と、配線用電極６の上に形成された粘着層８を備える透明導電性積層体１であって、配線用電極６と粘着層８の合計厚さを、２６０μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はディスプレイ用アレイ基板及びディスプレイ用基板の製造方法に関する。
【解決手段】本発明によるディスプレイ用アレイ基板は凹んだ切断溝が形成される基板ウェーハと、前記基板ウェーハの一面にコーティングされて形成される透明電極部とを含み、前記透明電極部と高さの異なる前記切断溝に沿って前記基板ウェーハを切断し、切断時に発生する衝撃が前記透明電極部に伝達されることを防ぐことを特徴とすることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラスチックフィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性と耐久性を持ち、且低温成膜でき、カールが低いＩＴＯ導電膜を作製とすることを目的とする。
【解決手段】透明基板の両面に透明硬質な有機物質層による膜厚が異なる第１のハードコート層と第２のハードコート層が設けられる。低温下で、その薄い第１のハードコート層の表面に、金属酸化物層と酸化珪素層を順次に成膜する。その上で酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）はマグネトロンスパッタリング法にて高電力密度で成膜した。得られた透明導電薄膜は透明性高く、優れた密着性と耐久性を持ち、且低温成膜されたものである。さらに、得られた透明導電薄膜はカールが低い特徴を持っている。 （もっと読む）

【課題】可視光領域だけでなく赤外領域においても透過性に優れ、耐熱性の高い酸化物透明導電膜、その膜を成膜しうるスパッタリングターゲット、そのターゲットに使用しうる複合酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】主として、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、
・焼結体中の元素の原子比が、Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｍｇ）＝０．００５〜０．１、Ｍｇ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｍｇ）＝０．００１〜０．０５であり、
・焼結体が酸化亜鉛を含有し平均粒径が１０μｍ以下の六方晶系ウルツ型構造を有する粒子（ａ）と、アルミニウムを含有し平均粒径が５μｍ以下のスピネル構造を有する粒子（ｂ）からなる
焼結体から成るスパッタリングターゲットを用いて成膜する。 （もっと読む）

【課題】パターン形状を目立たなくする上で有利な透明導電性積層体およびその製造方法並びに静電容量タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明基板としての透明基材１１の両面に光学機能層の一部を構成するＵＶ硬化性樹脂層１２および１２’を形成し、一方のＵＶ硬化性樹脂層１２上に光学機能層の残りを構成する光学機能層１３を形成する。次に、光学機能層１３の上に透明導電膜１４を形成する。次に、透明導電膜１４に導電性パターン領域と非導電性パターン領域とを形成する（パターニングする）。次に、導電性パターン領域および非導電性パターン領域の表面に有機層としてのＵＶ硬化性樹脂１５を形成する。これにより、透明導電性積層体１０を得た。 （もっと読む）

【課題】低抵抗化を実現可能な導電体基板、導電体基板の製造方法、デバイス及び電子機器を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に設けられ、Ｃａ_２Ｎｂ_３Ｏ_１０からなるシード層と、前記シード層上に設けられ、Ｎｂがドープされたアナターゼ型構造の二酸化チタンの結晶を含む導電層とを備える。 （もっと読む）

【課題】低コストで低抵抗化を実現可能な透明導電体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上に設けられた透明導電体の製造方法であって、透明導電体は、アナターゼ型ＴｉＯ_２の酸素をフッ素に置換して得られるアナターゼ型結晶構造を有するＦ：ＴｉＯ_２であり、パルスレーザ堆積法を用い、制御された酸素分圧の雰囲気下において、ＴｉとＦとからなる化合物にパルスレーザを照射し、３００℃以上６５０℃以下加熱された基板１１上に反応生成物をエピタキシャル成長させることにより行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現状のＬＣＤ製造プロセスにおけるＩＴＯ透明電極形成技術をＺｎＯ系に適用した場合の膜厚が２００ｎｍ程度より薄くなるに伴って、電気的特性が膜厚に大きく依存する（膜厚の減少に伴って抵抗率が大幅に増加する）こと解決する酸化亜鉛系透明導電膜製造技術並びに成膜に使用する焼結体ターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】酸化亜鉛系透明導電膜の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスにおいて、成膜の開始（初期）段階は、その後に続く通常の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスとは異なる条件下で成膜を開始することにより、膜の最低抵抗率特性が大幅に改善できることを見出した。 （もっと読む）

本発明は、太陽電池のためのＺｎＯコンタクト層の製造方法に関する。この層は、テクスチャを生成するためにフッ化水素酸でエッチングされる。
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【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に少なくとも２層のアンダーコート層を介して、透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電体層はパターン化されており、かつ前記透明導電体層を有しない非パターン部には前記少なくとも２層のアンダーコート層を有し、透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層は厚みが１００〜２２０ｎｍであり、かつ、有機物により形成されていることを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）