【課題】簡単な構成で、上流側と下流側のプラズマの発生状態をバランスさせる。
【解決手段】ハニカム構造体４間の空間１０（１０−１，１０−２）を形成する各ハニカム構造体４間の間隔Ｇ（Ｇ１，Ｇ２）を処理対象ガスＧＳの通過方向の上流側から下流側に向かって狭める。例えば、ハニカム構造体４−２，４−３を傾斜させて配置することにより、間隔Ｇ（Ｇ１，Ｇ２）を処理対象ガスＧＳの通過方向の上流側から下流側に向かって狭める。これにより、間隔Ｇ（Ｇ１，Ｇ２）がプラズマの発生条件のよい上流側では広くなり、プラズマの発生条件の悪い下流側では狭くなり、上流側と下流側のプラズマの発生状態がバランスする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、上流側と下流側のプラズマの発生状態をバランスさせる。
【解決手段】電極９（９−１，９−２）をハニカム構造体４−２および４−３の外側において、このハニカム構造体４−２および４−３の処理対象ガスＧＳの通過方向の上流側の端部から下流方向へ（２／３）・Ｌ程度の範囲を避けた領域に配置する。これにより、空間１０の上流側部分でのプラズマの発生状態が緩和（低下）され、上流側で発生するプラズマにより失われる水分が抑えられ、その分、下流側でのプラズマの発生状態が強くなり、上流側と下流側のプラズマの発生状態がバランスする。 （もっと読む）

【課題】隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマを発生させ、全体のガス処理能力を更に高める。部品点数を削減して製造・組立のコスト・時間を削減する
【解決手段】ガス処理ユニットＧＵ１，ＧＵ２のグランド電極９−１，９−２を一体化し共通電極９とする。ガス処理ユニットＧＵ１，ＧＵ２の高圧電極８−１の印加極性を正、高圧電極８−２の印加極性を負、高圧電極１０−１の印加極性を正、高圧電極１０−２の印加極性を負とする。これにより、対向する高圧電極間に大きな電位差が生じ、隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマが発生し、ガス処理が行われるようになる。また、ガス処理ユニット間で、グランド電極が一体化（共通化）され、部品点数が削減される。 （もっと読む）

【課題】隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマを発生させ、全体のガス処理能力を更に高める。
【解決手段】ガス処理ユニットＧＵ１の第１の電極８−１と第２の電極９−１との間に、電極８−１をグランド電極、電極９−１を高圧電極として、高電圧電源５からの高電圧を印加する。また、ガス処理ユニットＧＵ２の第１の電極８−２と第２の電極９−２との間に、電極８−２を高圧電極、電極９−２をグランド電極として、高電圧電源５からの高電圧を印加する。これにより、対向する電極間に電位差が生じ、隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマが発生して（エリアＡＲ１，ＡＲ２でもプラズマが発生する）、ガス処理が行われるようになる。 （もっと読む）

【課題】揮発性有機化合物含有ガスを吸着塔に導入して吸着させた後、加熱した脱着用水蒸気で脱着させて、脱着用水蒸気に同伴した揮発性有機化合物を、脱着用水蒸気を生成するための燃料として利用する際に、他の燃料の消費量を抑制する。
【解決手段】吸着塔１１への脱着用水蒸気の供給口を吸着塔１１両端方向に複数段となるように設け、脱着後の水蒸気を抜き出して燃焼炉１３へ通じる一端側に設けた供出口１６に近い供給口１５Ａと、吸着塔の他端側に設けた供給口１５Ｅとを少なくとも設けて、供出口１６に近い側の供給口１５Ａから順に開放するようにする。 （もっと読む）

【課題】冷却パイプ等の付着部に付着したフュームを除去する作業時間を短縮できるようにする。
【解決手段】フューム含有気体を本体部３０に取り込み、本体部３０の内部に設けられた冷却パイプ２０の内側にファン３８からの空気を流動させることで本体部３０に取り込んだフューム含有気体を冷却し、該冷却によりフューム含有気体が凝縮したフュームを冷却パイプ２０の外側の表面に付着させる。そして、駆動部１９が、冷却パイプ２０に当接して設けられるフューム除去部１０を冷却パイプ２０の外側の表面に沿って摺動させる。これにより、冷却パイプ２０の外側の表面に付着したフュームを除去できるようになる。この結果、フュームを除去するために本体部３０から冷却パイプ２０を取り外す必要がなくなり、フューム除去に要する作業時間を短縮できる。 （もっと読む）

【課題】二次燃焼部から外部に排出されるＮＯｘの量をより確実に低減することのできる燃焼処理設備における排ガス脱硝方法を提供する。
【解決手段】二次燃焼部２ｃ内に二次空気を供給する二次空気供給工程と、二次燃焼部２ｃのうち二次空気が供給される部分よりも上流の部分において、溶融炉２から二次燃焼部２ｃに導入される排ガス中の一酸化炭素の濃度を検出する一酸化炭素濃度検出工程と、二次燃焼部２ｃのうち前記一酸化炭素の濃度が検出される部分よりも下流の部分に還元剤を供給する還元剤供給工程と、二次燃焼部２ｃに供給する還元剤の量を決定する還元剤量決定工程とを実施し、還元剤量決定工程では、一酸化炭素濃度検出工程で検出された排ガス中の一酸化炭素の濃度に基づき、前記還元剤の量を決定する。 （もっと読む）

【課題】副反応物の生成が抑制できる浸透気化膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に基づく浸透気化膜は、有機溶剤と水とを分離するために使用される、炭素膜からなる浸透気化膜であって、炭素膜に含有される特定の不純物元素のそれぞれの含有量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。また、本発明に基づく浸透気化膜の製造方法は、上記炭素膜からなる浸透気化膜を製造するための方法であって、炭素前駆体を膜化する工程と、膜化された炭素前駆体を加熱することで不融化処理して熱安定化させる工程と、熱安定化された炭素前駆体を不活性雰囲気中において加熱することで炭化処理して炭素膜を形成する工程と、炭素膜を酸を用いて洗浄する工程と、酸を用いて洗浄された炭素膜を水洗処理してその後乾燥させる工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】流体に噴霧された薬剤濃度分布を所望の濃度分布にすることが可能な脱硝装置の制御装置、これを備えた脱硝装置、およびこれを備えたボイラプラント、ならびに脱硝装置の制御方法を提供することを目的とする。
【解決手段】流体に薬剤を投入する薬剤投入手段１５と、流体の温度分布を計測する温度測定装置２１と、温度測定装置２１によって求められた温度分布により流体に投入された薬剤の濃度分布を算出する薬剤濃度算出部２３と、薬剤濃度算出部２３によって算出された濃度分布に応じて薬剤投入手段１５が投入する薬剤の流量を決定する薬剤流量決定部２４と、薬剤流量決定部２４が決定した流量の薬剤を流体に投入するように薬剤投入手段１５を制御する薬剤投入手段制御部２５と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】噴霧する薬剤液の固形成分の析出による二流体ノズルの詰まりを防止すること。
【解決手段】薬剤液Ｄを送る液配管１と空気Ａｂを送る空気配管２とに接続される二流体ノズル３を有した薬剤噴霧装置１０４において、液配管１に接続されて当該液配管１に薬剤液Ｄを供給する薬剤液供給手段５と、液配管１に接続されて当該液配管１に水Ｗを供給する水供給手段６と、薬剤液供給手段５から液配管１への薬剤液Ｄの流通と水供給手段６から液配管１への水Ｗの流通とを選択的に切り換える液切換手段７と、薬剤液供給手段５における薬剤液Ｄの供給圧力を検出する圧力計５ｄと、液切換手段７を薬剤液供給手段５側に切り換えると共に薬剤液供給手段５を駆動した状態で、圧力計５ｄで検出された圧力を入力し、入力した圧力が所定の閾値を超えた場合、液切換手段７を水供給手段６側に切り換えると共に薬剤液供給手段５の駆動を停止する制御手段１９とを備える。 （もっと読む）