多孔性基体と、該基体の内部および外部表面上に位置する重合架橋重合体被覆とを含む、高い電荷密度を有する負荷電細孔濾過媒体。該被覆は、該基体上でインシトゥで重合される負荷電架橋性重合可能アクリルアミドアルキル単量体とアクリルアミド架橋剤とを含む反応物溶液から形成されうる。該負荷電細孔濾過媒体は、タンパク質凝集物をタンパク質溶液から選択的に除去するための前濾過膜としての使用に適している。 （もっと読む）

親水性多孔質基材、疎水性ポリマーから親水性多孔質基材を製造する方法が開示される。この方法は、１）間隙表面及びその他表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、２）（ａ）少なくとも１つの（メタ）アクリレート基、及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーと、任意に（ｂ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、任意に連鎖移動剤と、を含み、（ａ）及び／又は（ｂ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である第１の溶液で、多孔質ベース基材を飽和する工程と、３）多孔質ベース基材の表面に結合したグラフト化ポリマーを含む第１の官能化基材を形成するために、飽和した多孔質ベース基材を調整された量のガンマ線に曝露する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】自己支持膜性を有し、二酸化炭素分離膜をはじめ様々な利用が可能な、新規の置換ポリアセチレンの合成及び膜の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）〜（３）
【化１】


（式中、Ｒは炭化水素基、ｎは自然数）のいずれかで表される置換ポリアセチレン。好ましくは、Ｒがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アリル基、ベンジル基のいずれかである。自己支持膜性を有し、二酸化炭素分離膜の材料として利用可能である。伸縮により可逆的に色変化を呈する。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性（保存安定性）に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）とを含むホトレジスト組成物を、臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の第１の膜を備えた第１のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第１のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第２の膜を備えた第２のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リガンド構造の制御が容易であり、かつＨＣＰ、凝集体などの夾雑物を有効にかつ迅速に除去することのできる、混合リガンドを有する吸着体を提供すること。
【解決手段】細孔を有する基材からなる多孔質吸着膜であって、前記基材表面にリガンドとしてアニオン交換基と疎水性基とが、共に固定されている多孔質吸着膜。 （もっと読む）

本発明は、ポリマーが電子線により架橋され、表面上に固定される微細孔膜の製造方法であって、初期の微細孔膜を提供すること、溶媒およびこれに溶解または分散したポリマーを含む含浸溶液に含浸し、含浸膜を提供すること、および含浸膜に電子線照射を照射し、その表面に電子線により架橋されたポリマーを有する含浸膜を提供することを含む、前記方法、および該方法により製造された微細孔膜、ならびにかかる膜の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気が含まれる混合ガスであっても特定のガス種を分離することが可能な耐水性に優れるガス分離膜用複合膜を提供する。
【解決手段】エチレン基を２１〜５０モル％含有するエチレン−ビニルアルコール系重合体（Ａ）およびアミン化合物（Ｂ）からなる複合膜であって、該複合膜を６０℃の蒸留水に３時間浸漬させた時の該複合膜の重量保持率が６０〜１００重量％であることを特徴とするガス分離膜用エチレン−ビニルアルコール系重合体複合膜である。 （もっと読む）

【課題】イオン交換材料と相溶性の材料を有する改良された複合膜を提供する。
【解決手段】複合膜２０は相溶化多孔質ベース膜及びイオン交換材料４８を含み、このイオン交換材料４８は相溶化多孔質ベース膜の膜内に含浸している。複合膜２０は、相溶化多孔質ベース膜の外面及び内面にプライマーをコートし、プライマーを架橋することにより相溶化されている。この複合膜２０は耐久性があり、相溶性で、高度に導電性があり、かつ機械的にも安定である。 （もっと読む）

結晶性ポリマーを含む第１の領域、及び第１の平均孔径を有する第１の領域内の第１の濃度を有する第１の核剤と、結晶性ポリマーを含む第２の領域、及び第２の平均孔径を有する第２の領域内の第２の濃度を有する第２の核剤と、を含む多孔性膜であって、第１の領域及び第２の領域内の結晶性ポリマーが同じであり、第１の平均孔径が第２の平均孔径と同じではなく、第１の核剤及び第２の核剤が同じであるか又は異なり、第１の濃度及び第２の濃度の剤が同じであるか又は異なり、ただし、第１の核剤及び第１の濃度が、第２の核剤及び第２の濃度と同じではない、多孔性膜。膜の製造方法も開示される。
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【課題】良好な選択性を維持しながら大気操作条件下においても流量が多くでき、機械的一体性を向上したメンブレンを提供する。
【解決手段】電子線反応性基を有するポリマーを多孔質ベースメンブレンに塗工して皮膜を形成し、被覆された多孔質ベースメンブレンに高エネルギー源を照射し、電子線反応性基を多孔質ベースメンブレンに永久的にグラフトして、ベースメンブレンの気孔を充填する皮膜を形成し、非対称メンブレンを形成する。 （もっと読む）