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国際特許分類[B01J3/02]の内容

国際特許分類[B01J3/02]に分類される特許

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【課題】コンパクト高温高圧水マイクロ反応装置を提供する。
【解決手段】0超〜1秒以下の超高速加熱・冷却が可能でマイクロリアクターを内蔵する、コンパクトサイズの小型高温高圧水マイクロ反応装置であって、送液部、混合物、加熱部、マイクロリアクターから構成される反応部、冷却部、及び運転制御部を有し、マイクロリアクターが、複数連絡可能なマイクロリアクター・ユニット、あるいはマイクロチューブの表面にコイルヒーターを巻き付けたコイルチューブで構成されていることを特徴とする小型高温高圧水マイクロ反応装置。
【効果】水媒体による環境に優しい高効率プロセスを提供することができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は洗浄装置等の後の超臨界あるいは液体の二酸化炭素を所定の気液率を保つような温度調整および圧力調整の組み合わせにより、粘性の高い不要物が引き起こす装置への不具合を解消するとともに、洗浄槽と分離槽とを分けることにより、減圧の必要はなく、前工程の一般的な洗浄槽力の高度な洗浄を目的とした装置にまでその排出される二酸化炭素から不要物を連続的に分離することができる気液分離装置を得るにある。
【解決手段】 超臨界あるいは液体の二酸化炭素を用いた洗浄装置あるいは乾燥装置から排出される排出流体を所定の気液率を保つような温度調整手段および圧力調整手段と、この温度調整手段および圧力調整手段で圧力調整された排出流体を気体と液体に分離する気液分離圧力容器と、この気液分離圧力容器の液体である二酸化炭素あるいは液体である二酸化炭素と分離された不要物との液面を制御することができる温度調節手段とで気液分離装置を構成している。 (もっと読む)


【課題】圧力容器の耐圧力を高く設計する必要を無くし、低コスト化でき、充填率を向上できるとともに、反応の条件に柔軟に対応できる反応制御方法を提供する。
【解決手段】圧力容器110のガス排出路111に背圧弁V2を有する反応装置100を用いた反応制御方法であって、背圧弁V2の設定値を反応時に圧力容器110内で維持したい圧力に設定する工程と、圧力容器110に原料を供給する工程と、背圧弁V2を機能させ、圧力容器内の圧力を設定値以下に維持しつつ、反応を進行させる工程とを含む。これにより、圧力容器110の耐圧力を高く設計する必要を無くし、装置を低コスト化できる。また、圧力が一定に決まることから、圧力容器110内の原料の充填率を向上できる。また、圧力容器110とは別個に排出路側に背圧弁V2を設けることで反応の条件に応じた強度の圧力容器110を用い条件に柔軟に対応できる。 (もっと読む)


【課題】反応塔内で原料が充満滞留することなく連続的に亜臨界水処理を行うことができる亜臨界水処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】亜臨界状態の水により被処理物を連続的に処理する亜臨界水処理装置である。被処理物の導入口と、撹拌手段と、処理物の導出口とを有し、被処理物に複数の撹拌媒体を混合して撹拌手段により撹拌し、亜臨界状態の水により被処理物を反応させる反応塔と、反応塔の導入口に被処理物を導入するための供給装置と、反応塔の導出口から、反応塔で処理された処理物を導出するための抜出し装置と、抜出し装置を制御することにより反応塔の圧力を一定に保つ圧力制御手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】洗浄室内の洗浄流体の急激な密度変化を防止することができ、洗浄後の被洗浄物がダメージを受けることがない洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄システム10では、洗浄流体を洗浄容器15の洗浄室に収容されたフィルタの第1面から第2面に向かって通流させることでフィルタを洗浄し、フィルタを洗浄した後、制御装置18が第1温度制御手段と第2温度制御手段と流入量制御手段とを実行することによって洗浄室内の洗浄流体の温度を略一定に保持するとともに、マスフローコントローラ16を介して流体圧力逓減手段を実行することによって洗浄室内の洗浄流体の密度を略一定の下り勾配で低下させる。 (もっと読む)


リグノセルロース原料の処理のための反応器および関連する方法。反応器は、上方部分と下方部分とを有する槽を含む。槽の外壁と槽の下方部分の少なくとも一つの下方壁との間に圧力筒状部は形成され、槽の上方部分と圧力筒状部は圧力ラインで操作上で連結されるので、圧力筒状部の圧力と上方部分の圧力とは等しくなる。
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本発明による鋼板通板装置は、進行する鋼板の厚さ変化に対応しながら鋼板を通板させる上下部シールロールと、前記鋼板の幅変化に対応しながら前記シールロールと協働してチャンバ壁を通過する鋼板を包囲状態でシールするように提供される鋼板シールユニットと、を含む。
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【課題】真空処理装置が大型化すると上蓋開閉に必要な動作範囲が広がり、真空処理装置が設置される空間の天井高さなどに制約を与えることになっていた。また、交換作業時において上蓋等開けた状態に対応できる空間(作業範囲)の確保が必要であり、真空処理装置の周辺には、作業スペースを広げる必要があった。
【解決手段】被処理基板を真空処理する真空容器と、真空容器の開口部を開閉する蓋部材と、蓋部材を真空容器に対して着脱自在に並進移動させる昇降機構と、蓋部材に配置された処理部材を、蓋部材の上方で処理部材のみを表裏反転させる昇降回転機構とを備えて、
処理部材には、被処理基板に対向することにより真空処理を行う構造物が配置されている。 (もっと読む)


【課題】ゲートバルブを2段シール構造とする極めて簡単な構造で、ゲートバルブを介する第1処理室と第2処理室との間のリークを確実に防止する。
【解決手段】ゲート開口部が設けられた弁箱42と、ゲート開口部を開閉する弁体45とからなり、弁体45を移動させて弁箱42のゲート開口部を閉じたとき、弁箱42のゲート開口部に沿って設けられたシール座面64a(64b)に弁体45の周端面であるシール面51a(51b)が対向することによってゲート開口部が遮断される構造のゲートバルブであって、シール面51a(51b)とシール座面64a(64b)との間の全周にわたってシール部材が設けられ、このシール部材53は、スライド移動方向に直交する方向の中央部が両側部よりシール面64a(64b)側に凹んだ凹部に形成されことで、シール部材53自体が2段シール構造となっている。 (もっと読む)


ピストン(3、3’、3”)が設けられたピストンロッド(4)を備えるピストン部材(1、1’、1”)は、シリンダバレル(5、6、7、5’、6’、7’、5”、6”、7”)内で往復動するのに役立ち、前記ピストン(3、3’、3”)は、シリンダバレルチャンバ(34a、34a’、34a”、34b、34b’、34b”)を、ピストン(3、3’、3”)と対向するキャップ付き近位端(35a、35a’、35a”)を有する近位のシリンダバレルチャンバ(34a、34a’、34a”)と、ピストン(3、3’、3”)と対向する遠位シリンダバレル端(35b、35b’、35b”)を有する遠位のシリンダバレルチャンバ(34b、34b’、34b”)とに分ける。ピストン部材は、遠位シリンダバレル端(35b、35b’、35b”)で遠位のシリンダバレルチャンバ(34b、34b’、34b”)内に配置される少なくとも1つのシールリング(8、8’、8”)またはシートを備える。好ましくは、3つの連続するピストン部材(1、1’、1”)は、石炭粉をガス化装置へ輸送するために装置内で順次に動作するように配置される。シリンダバレル内でのピストンの動きは、割り当てられた石炭粉のバッチを高圧反応器へ輸送するために互いに対して制御される。
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