【課題】別の処理ユニットからのケミカル雰囲気の進入を抑制できる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板を保持する基板保持部４２、及び基板に処理液を供給する供給ノズル６１と、この供給ノズル６１を待機位置から基板保持部４２の上方に旋回させるシャフト６３とを有する処理液供給部４１を備えた複数の基板処理部２２と、基板処理部２２の各々を互いに独立して収容する複数のチャンバ４３と、待機位置の各々に設けられ、供給ノズル６１から吐出される処理液を受ける排液ポート８２と、排液ポート８２の各々が接続され、複数の基板処理部２２で共有される主排液配管８１と、排液ポート８２と主排液配管８１との間の各々に設けられ、主排液配管８１からの気体の進入を防ぐ進入防止弁８５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上する。
【解決手段】塗布装置１では、塗布ヘッド１４が主走査方向に主走査しつつ、主走査方向に垂直な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出ノズル１７から基板９上に有機ＥＬ液を吐出し、主走査が完了する毎に基板９が副走査方向に移動する。このとき、一の主走査の直後では、副走査方向における基板９の相対移動方向後側の吐出ノズル１７にて形成された線状要素の周囲の雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が比較的低くなるが、基板保持部１１内の流路１１１を循環する水により基板９が冷却されることにより、有機ＥＬ液の乾燥速度が遅くされて乾燥前に次の主走査が行われ、複数の吐出口から吐出された有機ＥＬ液において吐出直後の異なる条件下にて乾燥が終了することが防止され、有機ＥＬ液の乾燥速度の均一性が向上される。 （もっと読む）

【課題】空気より動粘性係数の高いガスを効率的に使用して塗布膜厚の均一性の向上を図れるようにし、発生するミストの付着を抑制すると共に、スループットの向上を図れるようにすること。
【解決手段】空気より動粘性係数の高いガスの雰囲気中で、塗布液中の溶剤を蒸発させてウエハの表面に塗布膜を形成する基板処理装置において、ウエハＷの表面を下向きにして回転可能に保持するスピンチャック１と、スピンチャックによって保持されたウエハを収容する開閉可能な処理容器１０と、スピンチャックによって保持されたウエハの表面に向かってそれぞれレジスト液を吐出するレジストノズル４１、レジスト液の溶剤であるシンナーを吐出するシンナーノズル４２、Ｈｅガスを供給するガス供給ノズル４０を具備する。これにより、ガス供給ノズルから吐出されたＨｅガスをウエハの表面層に効率的に供給し、Ｈｅガス濃度を高く維持してレジスト塗布処理を行うことができる。 （もっと読む）

艶消し仕上げを有するフィルムを提供するシステム及び方法。システムは、コーティングされた支持体を提供する手段を含み、コーティングされた支持体は、支持体に塗布された第１のコーティング可能材料を含み、コーティング可能材料はコーティングされた支持体の第１の主面を形成し、システムはさらに、第１のコーティング可能材料の粘度を第１の粘度から第２の粘度に変える手段を含み、システムはさらに、コーティングされた支持体の第１の主面上に艶消し仕上げを施すためにコーティングされた支持体の第１の主面に接触するように位置決めされた外面を有するフェイスサイドローラーを含み、そしてシステムはさらに、任意には、第１のコーティング可能材料を固化させる手段を含む。本発明の方法は、（１）支持体上に配置されたコーティング可能材料を含むコーティングされた支持体を用意し、コーティング可能材料がコーティングされた支持体の第１の主面を提供し；（２）コーティング可能材料の粘度を初期粘度から第２の粘度に変え；（３）艶消し仕上げを施すために、コーティングされた支持体の第１の主面を少なくとも１つのフェイスサイドローラーと接触させ；そして（４）任意には、コーティング可能材料を固化させることによりフィルムを提供する、工程を含む。
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【課題】スループットの向上及び塗布膜厚の均一性の向上を図れるようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】被処理基板であるウエハＷを回転可能に保持するスピンチャック５０と、スピンチャックによって保持されたウエハの表面にレジスト液を供給する塗布液供給ノズル５２と、スピンチャックと塗布液供給ノズルを収容する処理室４０と、ウエハに塗布液を供給する前のウエハを所定の温度に冷却する冷却プレート５６と、塗布液が塗布されたウエハを所定温度に加熱する加熱プレート５８と、処理室、冷却プレート及び加熱プレートとの間でウエハを搬送する搬送手段と、を具備する基板処理装置において、処理室、冷却プレート及び加熱プレートを外気と区画し、少なくとも処理室に、空気より動粘性係数の高いガス（Ｈｅガス）の供給源６８ｂを有するガス供給機構６０を接続して、処理室内をＨｅガスの所定濃度に維持する。 （もっと読む）

【課題】保持具から基板を取り外すことなく基板の両面に塗布液を塗布でき、かつ基板の厚みにばらつきがあっても、塗布液を均一に塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】角基板１０両面に塗布液を塗布するための塗布装置であって、角基板１０を保持する保持具２は、角基板１０の一面全体を露出する第１開口部Ｈ１が設けられた第１保持具部本体２１１と、一面を第１開口部Ｈ１の周囲平面と同一平面に固定するため、角基板１０に当接する当接部２１３ａ、および反対側から押圧して角基板１０を固定する押圧部２１３ｂとを備えた第１保持具部２１と、他面全体を露出する第２開口部Ｈ２が設けられた第２保持具部本体２２１を備えた第２保持具部２２とを重ね合わせて、他面が第２開口部Ｈ２の周囲平面と同一平面になるように、第１保持具部２１と第２保持具部２２の間隔をねじ２３による内周壁部２２２への押圧で固定することで調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】シール部材について十分な密着性を得る。
【解決手段】流体吐出装置は、ヘッド、媒体支持部、シール部材、及び、移動部を有する。ヘッドには、流体が吐出されるノズルが、流体が着弾する媒体の搬送方向とは交差する方向に複数設けられている。媒体支持部は、複数のノズルと対向する位置に配置されて、媒体を流体の着弾面とは反対側から支持する。シール部材は、媒体支持部に、ループ状に設けられている。移動部は、複数のノズルとシール部材とを近接又は離隔させるように、ヘッドと媒体支持部の少なくとも一方を移動させる。そして、待機状態では、シール部材をヘッドに接触させて、ヘッド、シール部材及び媒体支持部によって区画される空間に、複数のノズルの開口を臨ませる。 （もっと読む）

【課題】軸芯体の周りに液状ゴムを塗工して弾性ローラを製造する際、その塗工時に装置可動部の振動でローラ形状が安定しないことがある。
【解決手段】リング塗工機において、軸芯体１０１の上下部を保持する保持軸９，１０に複数の動吸振器２１を永久磁石で取り付け、塗工ヘッド８の環状スリットの中に軸芯体１０１を通しながら軸芯体１０１の外周面に液状ゴムを塗布する。動吸振器２１は、塗工時の可動体の発生振動をあらかじめ計測器で観察しながら最も効果的に制振できる位置に取り付けられている。さらに、塗工時に可動体に発生した固有振動数に応じて、振動数を調整可能な制振装置を用いてアクティブに振動を収めることも追加可能である。 （もっと読む）

【課題】
膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】
長手方向に走行する長尺状のウエブ１６を外周面で支持するバックアップローラ２０を有するバックアップローラ部２１と、バックアップローラ２０と一定間隔のクリアランスを有して対向配置され、塗布液をウエブ１６に供給する塗布液供給部１８と、を備え、クリアランスに形成される塗布液のビードを介して塗布する塗布装置であって、塗布液供給部１８とバックアップローラ部２１との両方を１つの架台３０上に支持し、架台３０を能動型除振装置３２上に固定した。 （もっと読む）

【課題】レーザ光によって液状体の配置位置を制御して所望の配置位置で液状体を乾燥させて、高精細、高精密なパターンを形成すことができるパターン形成方法、パターン形成装置及び液状体乾燥装置を提供する。
【解決手段】金属インクＦに対して吸収率が高い波長の第１照射光Ｌｅ１を出射する第１半導体レーザＬＤ１と、金属インクＦに対して吸収率が低い波長の第２照射光Ｌｅ２を出射する第２半導体レーザＬＤ２をキャリッジ２０に備えた。第２照射光Ｌｅ２によって、液状膜ＦＬを第１照射光Ｌｅ１の照射方向と反対方向への移動を付与して配置位置制御しながら、第１照射光Ｌｅ１が入射する液状膜ＦＬの部分（照射位置Ｐ１）を平坦化する。液状膜ＦＬは、第１照射光Ｌｅ１によって乾燥されると、乾燥不足もなく高精細、高精密な層パターンＦＰが形成される。 （もっと読む）