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国際特許分類[B08B5/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 空気流またはガス流の使用を含む方法による清掃 (732) | ジェットの力によるもの,例.空胴内の吹き出し清掃 (206)

国際特許分類[B08B5/02]に分類される特許

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【課題】イオン化された空気を間欠的に放出する動作を実行しつつ圧力異常時に所定の異常時処理を実行できる除電除塵装置を提供する。
【解決手段】放電針と、前記放電針に電圧を印加してイオンを発生させる電圧印加手段と、空気供給源からの空気を前記放電針の針先付近へ供給して前記イオンを除電除塵対象物へ吹き付ける空気供給流路部と、前記空気供給流路部を流れる空気流を間欠制御または強弱制御する空気流制御手段と、前記空気供給流路部内の空気の圧力であって前記空気流制御手段より上流側の空気の圧力を測定する圧力センサと、前記圧力センサで測定された圧力を監視し、圧力異常を検出すると所定の異常時処理を実行する異常処理制御手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ユーザに付着する塵埃の量をより低減することが可能なエアシャワー装置を提供すること。
【解決手段】このエアシャワー装置は、吸込口31bから吸い込んだ空気を吹出口31cから吹き出す第1の送風機31を備える。装置には、エアシャワー室SRが形成されている。装置は、第1の送風機31から吹き出された空気をエアシャワー室SRへ噴射するように構成される。更に、装置は吸引口部61を備える。吸引口部61は、エアシャワー室SRを形成する内壁面10aから突出するように形成されている。吸引口部61は、突出方向側の端部である突出端部にてエアシャワー室SRに開口する吸引口HL2が形成されている。装置は、吸引口HL2からエアシャワー室SR内の空気を吸引する。 (もっと読む)


【課題】簡単かつ安価な構成で、長期的に安定した液除去(液切り)性能を享受する。
【解決手段】基板処理装置は剥離処理室1を有する。剥離処理室1には、剥離処理後の基板表面にエアを吐出し、剥離液を除去する第1エアナイフ14が配置される。このエアナイフ14は、送経路を横切るように支持される円筒状の本体15と、この本体15に所定間隔で配列されてエアを吐出するノズル部16とを備えている。各ノズル部16は、本体15の軸方向と平行な方向に所定の噴角を有し、かつそれと直交する方向に扁平な形状でエアを吐出し、そのエアの吐出方向が基板搬送方向における下流側から上流側に向かう成分を含むように、本体15に対して設けられ、かつ隣接するノズル部16のエア吐出領域同士が基板上で前記軸方向に重複するように、ノズル部16同士の間隔および各ノズル部16から搬送基板Sまでの距離が設定されている。 (もっと読む)


【課題】コンタミネーションを無くして半固形物を切り出す。
【解決手段】洗浄装置70は、容器アタッチメント31に嵌合される略円筒状の受け部材74と、円状の吹出口を有する洗浄水ノズル75a〜75dと、略矩形状の吹出口を有するエアノズル77a〜77dとを備えている。半固形物の切り出し終了後、洗浄装置70の受け部材74を容器アタッチメント31に嵌合させ、半固形物の切り出し時とは逆方向に裁断刃12及び送り刃13を回転させる。裁断刃12及び送り刃13の回転と同時に、洗浄水ノズル75a〜75dの吐出口から水を吹き出して、裁断刃12や送り刃13等に付着した半固形物を除去する。その後に、エアノズル77a〜77dの吐出口からエアを吹き出して、裁断刃12や送り刃13等に付着した半固形物や水を吹き飛ばす。 (もっと読む)


容器、例えば特にガラス管から残留物質および/または粒子を除去する方法および装置(50)は、前記管(5)内の静電力を調整する手段(40)と、前記残留物質を除去する手段(60)とを備える。前記除去手段(60)は、ノズル(2)によって前記容器(5)内に噴射する、調節した速度の流体噴流を用いることができる一方で、前記静電力を調整する手段(40)は、調節した抵抗率を有する導電性流体(8)を前記容器(5)に流入させる要素(1)を有することができる。このようにして、前記流体(8)、例えばイオン化空気は、前記残留物質(30)と前記容器の表面との間の静電荷を、従って静電力を減少させおよび/または消去するために作用し、流体の噴流または吸引手段による除去に役立つ。
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【課題】 圧縮空気をゴルフプレイヤーの身体の何れかの部分に吹き付けることで、付着した汚れを除去する目的を達成することは出来るが、一般に圧縮空気はエアーコンプレッサによって作り出すのが普通であり、その場合に潤滑油が酸化されること等による不快な臭気を発生する場合が多かった。
【解決手段】 圧縮空気に匂いを付加した。 (もっと読む)


【課題】掃除できる面積がより大きくなるが、噴出した空気の圧力が低くならず、且つ、噴気力も従来の小面積型と同じ、乃至それを超えるように均一であり、また、操作も簡便な噴気用ノズルを提供する。
【解決手段】噴気用ノズルは、その内室40が一側から他側へと段々広くなっており、且つ、一側に空気の受け入れ口411が形成されており、他側に空気の噴出し口412が形成されているケーシング4と、内室40にそれぞれ一側から他側へと延長する延長方向を横断するように散在している複数の分流突起5と、からなっており、それにより、複数の分流突起5で受け入れ口411から受け入れて噴出し口412へ流れる空気を分散させてから、噴出し口412により噴出することができる。 (もっと読む)


【課題】フィルムが容器に密着した状態を有効に緩和して、フィルム除去不良の低減を図る。
【解決手段】フィルム処理装置5は、搬送路4上を移動する容器2の側面に巻回されたフィルム3を、容器2に対して周方向に相対変位させる。フィルム切断装置6は、フィルム3を切断する。フィルム除去装置7は、フィルム処理装置5およびフィルム切断装置6による前処理が施されたフィルム3を吸引して、容器2から除去する。 (もっと読む)


【課題】撥水性を有する基板を搬送しながら良好に洗浄、乾燥処理を施す。
【解決手段】基板処理装置は、洗浄室1C及び乾燥室1Dを有し、撥水性を有する基板Sをその表面が傾斜した姿勢で搬送しながらその表面に洗浄、乾燥処理を施す。洗浄室1Cには、搬送方向に沿って連続する状態で、基板Sの上位側端部に対して洗浄水を供給する第1供給手段20と、その下流側端部に近接され、かつ基板Sをその上位側から下位側に亘って横断する方向に沿って設けられ、同方向に沿って連続する状態で洗浄水を基板Sに供給する第2供給手段24とが設けられる。乾燥室1Dには、第2供給手段24に近接し、かつ搬送基板Sをその上位側から下位側に亘って横断する方向に設けられ、同方向に沿って連続する状態で搬送基板Sに対してエアを吹き付けるエアナイフ30が設けられる。 (もっと読む)


【課題】比較的簡素な機構で長期間にわたって高圧ガスを噴出することができるガス噴射ノズルを提供する。
【解決手段】高圧ガスボンベ12から高圧ガスを噴射するためのガス噴射ノズル1であって、上記高圧ガスボンベ12と連通されることにより高圧ガスを噴出させる噴出口2と、上記噴出口2から噴出された高圧ガスをターゲットに向けて案内するとともに先端開口4から噴射させる噴射路3と、上記噴出口2から噴出された高圧ガスに大気を吸引する大気吸引部5とを備えたことにより、比較的簡素な機構で長期間にわたって高圧ガスを噴出することができるようにした。 (もっと読む)


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