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国際特許分類[B22F3/15]の内容

国際特許分類[B22F3/15]に分類される特許

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【課題】結晶粒の粗大化を抑制し、強度の低下を防止し、かつ従来品以上の耐久性および信頼性を高め、高温にて強度がある立体形状の粉末成形体を、歩留良く安価に効率よく製造できるMo成形体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】成形容器1内に中子2を配置し、該成形容器1と中子2の間にMo粉末3を充填してHIP処理することよりなる立体形状のMo成形体4。上記Mo粉末またはMo粉末とNb粉末、W粉末、高融点のセラミックス粉末の1種または2種以上を混合した粉末3を充填してHIP処理した後のMo成形体4を2分割する立体形状のMo成形体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】熱間等方圧加圧を使用してビレットを形成する場合に、高価な粉体合金と熱間等方圧加圧に使用される容器との間における金属の拡散を防ぎ、又は最小限化する方法及び容器を提供する。
【解決手段】粉体(205)と容器(201)との間における拡散を制御するように、容器(201)上で粉体(205)と容器(201)との間に拡散バリア(220)が置かれる。 (もっと読む)


【課題】 熱間等方圧加圧を用いてビレットを成形するための改良容器201及び方法を提供する。
【解決手段】 容器201は、外壁210と、クラウン240の周縁部にリム245が設けられた容器上面200と、容器底面235とを備える。容器上面200は外壁210に嵌挿され、リム245が容器201の内部270に延在するように配置され、容器上面200のリム245は外壁210に沿って摺動して内部270の容積を選択的に調節できるように構成されている。リム245は軸方向Aから角度αで面取り部を画成し、面取り部の厚さはクラウン240に向かって増大する。容器の粉体充填量に基づいて所望の形状のビレットが得られるように、容器201の容積を調節することができる。さらに、容器201の隅部を調節して、縁部効果を解消し、得られるビレットをさらに形状制御することができる。 (もっと読む)


【課題】従来のものに比べて高い温度での稼動を可能にするニッケル基超合金を形成すること、それと同時に、機械抵抗および耐薬品性を改善すること。
【解決手段】構成元素として、少なくとも、重量パーセントで3%から7%までの範囲のクロム、3%から15%までの範囲のタングステン、4%から6%までの範囲のタンタル、4%から8%までの範囲のアルミニウム、0.8%未満の炭素、および残りの割合のニッケルと不純物を含むことを特徴とするターボ機械用の機械部品の加工に特に適しているニッケル基超合金。 (もっと読む)


新規な軸受鋼組成と軸受を形成する方法を提供する。軸受鋼組成は、炭素0.4から0.8重量%、窒素0.1から0.2重量%、クロム12から18重量%、モリブデン0.7から1.3重量%、シリコン0.3から1重量%、マンガン0.2から0.8重量%、及び鉄78から86.3重量%からなる。 (もっと読む)


本発明は、亜酸化ホウ素と二次相を含む亜酸化ホウ素複合材料であって、二次相が金、銀及び銅並びにこれらの金属の1種以上を基礎とするか又は含有する合金の群から選択される金属を含有する亜酸化ホウ素複合材料を提供する。さらに、金属又は合金は、該材料中に約20体積%未満、好ましくは約6体積%未満の量で存在する。 (もっと読む)


【課題】 γ′析出強化ニッケル基超合金を鍛造成形して物品の低サイクル疲労耐性及び高温滞留挙動を向上させる。
【解決手段】 超合金組成は、重量基準で、16.0〜22.4%のCo、6.6〜14.3%のCr、2.6〜4.8%のAl、2.4〜4.6%のTi、1.4〜3.5%のTa、0.9〜3.0%のNb、1.9〜4.0%のW、1.9〜3.9%のMo、0.0〜2.5%のRe、0.05%超のC、0.1%以上のHf、0.02〜0.10%のB、0.03〜0.10%のZr、残部のニッケルと不可避不純物である。超合金からビレットを形成し、超合金のγ′ソルバス温度よりも低温で加工して加工物品を形成し、次いで超合金のγ′ソルバス温度よりも高温で熱処理して結晶粒を均一に粗大化した後、冷却してγ′を再析出させる。本物品(10)はASTM7よりも粗くない平均結晶粒径を有し、臨界結晶粒成長を実質的に含まない。 (もっと読む)


【課題】高温強度、特に底部と側壁部とを連結する角部の高温強度に優れるモリブデン製ルツボを提供すること。
【解決手段】純度99%以上のモリブデンからなり、底部2と側壁部3とが角部4を介して連結された上部開放の有底筒状のモリブデン製ルツボ1であって、前記モリブデンは、粒径が10μm以上100μm以下のモリブデン結晶粒の割合が粒子数の割合で90%以上であるもの。 (もっと読む)


【課題】発光輝度の経時的低下の小さい上部発光型有機EL素子および前記上部発光型有機EL素子の陽極層を構成する反射膜の形成に用いられるAl合金スパッタリングターゲットを提供する。
【課題手段】上部発光型有機EL素子の陽極層を構成する反射膜、および前記反射膜の形成に用いられるスパッタリングターゲットを、合金成分として、質量%で、Ca:0.05〜0.5%、Ni:2〜6%、を含有し、残りがAlと不可避不純物(ただし、0.01%以下)からなる成分組成を有するAl合金で構成する。 (もっと読む)


【課題】膜の成分組成の均一性(膜均一性)に優れたCu−Gaスパッタリング膜を形成でき、かつ、スパッタリング中のアーキング発生を低減できると共に、強度が高くスパッタリング中の割れを抑制できるCu−Ga合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Gaを含むCu基合金からなるスパッタリングターゲットであって、その平均結晶粒径が10μm以下であり、かつ気孔率が0.1%以下であることを特徴とするCu−Ga合金スパッタリングターゲット。 (もっと読む)


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