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国際特許分類[B28D5/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | セメント,粘土,または石材の加工 (6,498) | 石材または石材類似材料の加工 (2,419) | 宝石類,結晶体の精密加工,例.半導体の材料;そのための装置 (1,411)

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【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なパシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 窒化物から形成されたパシベーション膜が積層された基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すパシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべき基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する酸化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成された基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なパシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 酸化物から形成されたパシベーション膜が積層された基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すパシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべき基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する窒化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成された基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なガラス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 ガラス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すガラス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきガラス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する炭化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたガラス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なガラス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 ガラス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すガラス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきガラス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する窒化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたガラス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 スクライブ時における「カケ」「ソゲ」「交点飛び」などの不具合を抑制する脆性材料基板のスクライブ方法を提供する。
【解決手段】 基板Wにカッターホイール6で縦方向のスクライブライン並びに横方向のスクライブラインを形成するスクライブ方法であって、基板Wを縦方向にスクライブすることによって、2本の縦方向のスクライブラインS1、S2によって形成された縦方向単位製品列を、端材となる縦の狭間D1をあけて複数形成し、次いで、縦方向単位製品列の片側辺を形成する縦方向のスクライブラインS1から、他方側辺を形成する縦方向スクライブラインS2まで横方向にスクライブすることによって、単位製品W1を区分けする横方向のスクライブラインS3を順次加工する。 (もっと読む)


【課題】切断面の品質(端面強度)が強く、かかり性が良好で、内切りが可能で、かつ、交点飛びが少ない構成の脆性材料用スクライビングホイールを提供する。
【解決手段】本発明のスクライビングホイールは、回転軸を共有する二つの円錐台の底部が交わって円周稜線13が形成された外周縁部と、この円周稜線13に沿って円周方向に交互に形成された複数の切り欠き15及び突起16とを有し、突起16は、円周稜線13が切り欠かれて残った、円周方向に長さbを有する円周稜線13の部分で構成され、切り欠き15は、その円周方向の長さaが突起16の円周方向の長さbよりも短く、円周稜線13の全周にわたってピッチPが8μm以上18μm以下に形成されている。 (もっと読む)


【課題】 回転機構を用いずに短冊状基板を分断するときの不具合を抑制してマザー基板の分断し、マザー基板から切り出された短冊状基板を回転させる回転機構を用いることなく分断加工できる分断方法を提供する。
【解決手段】 マザー基板Wからスクライブラインによって区分けされた複数の単位製品W1が長手方向に沿って一列に配列された短冊状基板Waを第1ブレイク部Bにより切り出し、この切り出された短冊状基板Waの向きを変えることなく、その姿勢を維持したまま基板長手方向に沿って搬送部Dにより第2ブレイク部Cに搬送して、前記スクライブラインから順次分断することにより単位製品W1を切り出すようにする。 (もっと読む)


【課題】 基板を分断するときの「カケ」「ソゲ」「交点飛び」などの不具合を抑制するマザー基板のスクライブ方法を提供する。
【解決手段】 (a)マザー基板の第1横スクライブ予定ラインに沿ってスクライブすることによって、これから切り出す短冊状基板の下辺を区分けする横方向の第1スクライブラインを形成する工程、(b)短冊状基板の上辺をなす位置に設定される第2横スクライブ予定ラインまで、短冊状基板中の単位製品の数と同じ数だけ縦方向にスクライブすることによって、単位製品の実質的な右辺および左辺をそれぞれ形成する縦方向の第2、第3スクライブラインを形成する工程、(c)第2横スクライブ予定ラインに沿ってスクライブすることによって、短冊状基板の上辺を区分けする横方向の第4スクライブラインを形成する工程とを行う。 (もっと読む)


【課題】薄板ガラスをレーザビームの照射熱で溶断するに際し、薄板ガラスの溶断端面間の隙間を管理し、溶断端面近傍の形状を良好に維持する。
【解決手段】500μm以下の厚みのガラス基板Gの切断部Cにレーザビームを照射し、ガラス基板Gを溶断する薄板ガラス切断方法であって、ガラス基板Gの厚みをa、切断部Cで対向するガラス基板Gの溶断端面Ga1,Gb1間の最小隙間をbとした場合に、0.1≦b/a≦2なる関係を満足するように最小隙間を管理する。 (もっと読む)


【課題】スクライブ装置において、短時間でチップを交換できるようにすること。
【解決手段】チップホルダ10にチップ14を回転自在に取付ける。チップホルダ10を円筒形とし、その先端に取付部16を設ける。ホルダジョイントに開口部を設け、マグネットによってチップホルダ10を吸着させて取付けることによって、着脱を容易にする。又チップホルダ10の面に、チップのオフセットデータを2次元コード17として記録する。チップホルダの交換時にオフセットデータを読出してスクライブ装置に入力することにより、オフセットを打ち消す。こうすればチップホルダを着脱する際に補正に関連して必要だった操作を省いて、短時間の装置停止の間にチップを交換することができる。 (もっと読む)


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