放射線で露光した時に固化するように設計された材料の表面層（１４）を支持する基材（１２）に、構造化された表面（１１）を有するテンプレート（１０）からパターンを転写する方法であって、インプリント装置中で、構造化された表面が表面層に面するように、テンプレートと基材とを互いに平行に配置し、ヒーター装置手段（２０）によって、テンプレートおよび基材を温度Ｔ_ｐに加熱し、温度Ｔ_ｐを維持しながら、テンプレートを基材に向かって押しつけ、パターンを前記表面層の中にインプリントし、表面層を放射線（１９）で露光して、表面層を固化させ、そして前記表面層を後焼き付けすることを含む方法。
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一側面に形成されたパターンを利用して基板上に目標パターンを形成する鋳型は、非結晶性フッ素樹脂からなる。前記鋳型は、前記パターンに対向するパターン構造を有するマスターモールドを利用して製造される。 （もっと読む）

本発明は、基板表面上にパターン、特に一、二または三次元の選択された長さのマイクロサイズおよび／またはナノサイズの特徴部を有する構造を含むパターンを作製するための方法、デバイスおよびデバイスコンポーネントを提供する。本発明は、各種基板表面および表面形態上に高解像度パターニングを与えるために、ヤング率および曲げ剛性等の選択された機械的特性、厚さ、表面面積およびレリーフパターン寸法等の選択された物理的寸法、および熱膨張係数等の選択された熱的特性をそれぞれが有する複数のポリマー層を備える複合パターニングデバイスを提供する。 （もっと読む）

【課題】ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロスケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。 （もっと読む）

成形サイクルを短くすることができ、生産性を高くすることができる加圧成形装置、金型
及び加圧成形方法を提供する。第１の金型と、第１の金型と対向させて配設され、かつ、基板（１４）、基板（１４）より第１の金型側に配設された断熱材（２１）、及び断熱材（２１）より第１の金型側に配設され、第１の金型と対向する面に凹凸が形成された加工部材を備えた第２の金型と、第１の金型に被加工部材を装填する装填処理部と、加工部材を、被加工部材を構成する材料の状態変化点より高い成形温度に加熱する加熱処理部と、加工部材を被加工部材に押し付けて、凹凸を被加工部材に転写するための転写処理部とを有する。この場合、加工部材が断熱材より第１の金型側に配設されるので、短時間で、加工部材を加熱して成形温度にし、加工部材を冷却して離型温度にすることができる。 （もっと読む）

本発明は、転写パターン層とは異なる材料からなるベースによって支持された、ポリマー材料からなるポジ型突起パターン表面を備えた転写パターン層を有する転写用成形型に関する。転写パターン層は、周囲温度で硬化可能な組成物から形成される。本発明はまた、転写用成形型のポジ型又はネガ型複製品を製造する方法ならびに転写用成型型の成形後の複製品（レプリカ）から微細構造体（例えば、プラズマバリアリブ）を製造する方法に関する。
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物質表面上への三次元ミクロ構造形成方法、その使用及び得られたミクロ構造化製品。詳細にはサポートの平面上に三次元ミクロ構造を形成する方法であり、上記サポート表面上への平らで均一な第一シリコーン層の適用ステップ及び上記第一シリコーン層上への三次元的にミクロ構造化された第二シリコーン層の適用ステップを含み、上記第一シリコーン層及び第二シリコーン層は積層的に結合されて、サポート表面上に規則的に分散され抗粘着性を確保する通常の三次元ミクロ構造を形成し、基板のフレキシブル表面、特に上記シリコーン層上に配置された粘着材の表面も２個のシリコーン層により形成された三次元ミクロ構造の逆転写によりミクロ構造化され、上記シリコーン層は、加熱、紫外線若しくは電子線照射等による硬化により固定される方法、その使用及びミクロ構造化されたフィルム、特に自己粘着性フィルム。
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【課題】 パターンの形成を低コスト化、高効率化することができ、またアスペクト比の高いパターン等も形成することのできるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 パターン形成装置１０Ｂでは、ヒータブロック４１で、基板表層部のガラス転移温度以上に加熱した型１００を押し付けて基板にパターンを形成した後、型１００を基板から離型させるに際し、超音波ホーン７２で型１００に超音波振動を加えるようにした。そして、型１００を加熱するためのヒータブロック４１を、型取付部材９０によって緩衝材９１Ａ、９１Ｂに挟み込まれた状態で保持するようにした。また、超音波ホーン７２と、ヒータブロック４１とを、高温ハンダ、銀ロウ等の接合剤を介して接合するようにしても良い。 （もっと読む）

構造化された表面を有するテンプレート（１０）から放射重合可能流動体（１４）の表面層を保有する基板（１２）へパターンを転送する装置および方法。装置は、対向する表面（１０４、１０５）を有する第１の主要部分（１０１）および第２の主要部分（１０２）、上記主要部分の間の間隔（１１５）を調整する手段、上記構造化された表面が上記表面層と対面するように上記間隔の中で上記テンプレートおよび基板を相互に平行した係合関係に支持する支持手段（１０６）、上記間隔の中へ放射を放出するように構成された放射源（１１０）を備える。キャビティ（１１５）は、上記テンプレートまたは基板を係合するように構成された可撓性膜（１１３）を含む第１の壁を有し、上記キャビティの中に存在する媒体へ調整可能超過圧力を加える手段（１１４、１１６）が設けられ、基板とテンプレートとの間の接触面の全体にわたって均一に分布する力が得られる。
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本発明は、（ｉ）形状を含有する種型の表面が硬化されたシリコーン樹脂基材に面するように、種型と該シリコーン樹脂熱硬化性基材とを重ねること；（ｉｉ）該種型の軟化点よりは低いが該シリコーン樹脂のＴｇよりもわずかに高い温度での加圧下で（ｉ）の生成物に圧力をかけること；（ｉｉｉ）（ｉｉ）の生成物を冷却して、かつ該型への圧力を維持すること；および（ｉｖ）該基材を剥離して、それゆえ該形状が該シリコーン樹脂基材上に刻まれること；を含む、硬化されたシリコーン樹脂熱硬化性基材をエンボス加工して種型から該基材上にパターンを刻む方法に関する。硬化されたシリコーン樹脂熱硬化性基材は、非常に滑らかな表面を提供することによって熱エンボス加工リソグラフィーに有機熱可塑性プラスティック以上の利点を提供し、マイクロメーターおよびナノメーターの領域内で複製の高忠実性を促進し、離型のための剥離剤が必要ない。

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