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国際特許分類[B32B17/06]の内容

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可撓性材料によってコーティングされたガラスリボンであって、可撓性コーティングはガラスリボンのエッジから外側に少なくとも1mmは拡がる可撓性ウエブ部を形成する。可撓性ウエブ部は、製造プロセスにおけるガラスリボンのハンドリングを容易にするために用いることができ、さらにガラスリボンの精確な位置決めを容易にする位置合せマークまたは送り穴を有することができる。
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【課題】熱処理された強化ガラスを使用せずとも破壊強度に優れたディスプレイ装置用光学フィルタを提供すること。
【解決手段】本発明に係るディスプレイ装置用光学フィルタ20は、ディスプレイモジュール10が内蔵されたディスプレイ装置に使用され、ディスプレイモジュール10前方に配置される。ディスプレイ装置用光学フィルタ20は、非強化ガラス基板と、非強化ガラス基板の一側表面に積層される光学フィルムと、非強化ガラス基板の他側表面に形成され、非強化ガラス基板の内部から溶出する異物質を防ぐ保護層とを含む。 (もっと読む)


【課題】ガラスフィルム縁部から割れや欠け等が生じることを効果的に防止することを可能とし、ガラスフィルムに対して製造関連処理を行う際の取り扱い性をさらに向上させることを可能とするガラスフィルム積層体、該積層体のガラスロール、ガラスフィルムの端面保護方法、及びガラスロールの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスフィルム2と、該ガラスフィルムの一方の面に前記ガラスフィルムから食み出して積層された支持シート3と、前記ガラスフィルムの他方の面に、前記ガラスフィルムの縁部を覆うように剥離可能に積層された保護シート4と、を有するガラスフィルム積層体1、及び該積層体を巻き取ったガラスロール5とする。 (もっと読む)


【課題】 プラズマディスプレイパネルの前面板などに好適に用いられる電磁波シールド用部材を生産性よく、効果的に製造する方法を提供する。
【解決手段】 (a)凝集体粒子含有物(A)と、一般式(I)
M(ORm−n …(I)
(Rは非加水分解性基、Rは炭素数1〜6のアルキル基、MはSi、Ti、ZrおよびAlの中から選ばれる金属原子、mは金属原子Mの価数、nは0〜2の整数)
で表されるアルコキシド化合物の加水分解・縮合物を含むインク受容層形成用塗工液を調製する工程、(b)ガラス基板上に、前記塗工液を塗布、加熱してインク受容層を形成する工程、(c)上記インク受容層上に、スクリーン印刷により、パターン化された導電性ペーストインク層を形成する工程、および(d)上記導電性ペーストインク層を焼成して、電磁波シールドメッシュ層を形成する工程、を含む電磁波シールド用部材の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】高い硬度が得られ、かつ基材追従性に優れ、射出成形用途に適したハードコート付積層体を提供する。
【解決手段】プラスチック基材の片面または両面に、無機粒子濃度の異なる2層以上のハードコート層から構成されるハードコート層ユニットを有し、該ハードコート層ユニット上に、該プラスチック基材の面方向に対して水平方向に、組成の異なる2種以上の表層構成物から構成される表層を有することを特徴とするハードコート付積層体。 (もっと読む)


【課題】 タッチパネル、特に静電容量方式によるタッチパネルをLCDなどの表示素子の上に装着した場合に、透明導電配線膜のパターンが目立つことにより見栄えが優れないなど視認性に課題があった。そこで本発明において、配線パターンを目立たなくステルス化し、しかも高透過率で低反射率の優れた光学特性を有する透明導電配線膜付き光学薄膜を提供すること。
【解決手段】 透明基板上に、ITO等からなる透明導電膜から配線パターンを形成し、その上に、SiO等の低屈折率誘電体材料からなる層と、Nb等の高屈折率誘電体材料からなる層とを交互に所望の膜厚で積層することにより、それらの各層による光干渉効果により、配線パターンがステルス化し、ニュートラルな色調を併せて持ち、薄型軽量で、S/N比が十分に大きく取れる静電容量方式のタッチパネルを提供できる。
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積層物品および層状物品、例えば、光起電性装置に有用な低アルカリガラスおよび/または低ナトリウム積層物品および層状物品が記載される。
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【課題】水晶基材の優れた光学特性を備え、かつ、表面の微細な凹凸形状による種々の機
能を発揮することができる光学物品、および、光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学物品は、水晶基材51と、水晶基材51の少なくとも一面に熱
圧着されたガラス材52と、を備え、ガラス材52の表面に微細な凹凸形状53が形成さ
れたことを特徴とする。本発明の光学物品の製造方法は、複数の金型を用いて熱圧着する
光学物品5の製造方法であって、一方の金型と他方の金型との間に水晶基材51とこの水
晶基材51のα−β相転移温度よりガラス転移温度が低いガラス材52とを配置するとと
もに、これらの金型を型締めし、加熱してガラス材52の表面に微細な凹凸形状53を形
成する加熱プレス工程を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】導電性が低く静電気を帯びやすいガラス板を使用した場合、パーティクル等の異物により、有機EL素子の寿命が低下する等の虞があった。
【解決手段】本発明に係るガスバリア性フィルム状基材は、有機エレクトロルミネッセンス素子の封止に用いられるガスバリア性フィルム状基材であって、厚さが30μm以上300μm以下のガラス基材と、前記基材の少なくとも一方の面に形成された導電膜層と、前記導電膜層上に形成された樹脂層とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1つの支持要素と、アルカリケイ酸塩水溶液及びアルミン酸塩修飾又はホウ酸塩修飾二酸化ケイ素を含む反応生成物を含有する少なくとも1つの保護コーティングとを含む光透過性熱保護要素に関する。本発明は、前記要素を製造するための方法にも関する。 (もっと読む)


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