【課題】ジテルペン系化合物は、植物界に広く分布する天然物であり、生物学的活性を有するものとされているが、アクネ菌に対する抗菌性を有するかどうか明らかではない。ニキビ（座瘡）の原因菌であるアクネ菌に対して、抗菌作用を有する抗アクネ菌化合物及び抗アクネ菌化合物を含有する皮膚外用剤の提供。
【解決手段】下記構造式に代表される６化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種類の抗アクネ菌化合物を含有することを特徴とする皮膚外用剤。
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本発明は、アミノ含有薬物と結合させてそのインビボ特性を向上させることができるポリマー誘導体に関する。ポリマー誘導体は、後で放出されて本来の形の薬物を生じさせることができる。これらのポリマー誘導体および薬物結合体を調製する方法および、用いる方法が記載される。また別の様相において、本発明は、本明細書に開示される薬物結合体と薬学的に許容される賦形剤との薬学的製剤を提供する。いくつかの実施態様において、製剤は、微粒子中にカプセル化された薬物結合体を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、カルボン酸系化合物を触媒とする多水酸基置換脂肪族炭化水素及び／又は多水酸基置換脂肪族炭化水素のエステルの塩素化反応によるクロロヒドリン類の製造において、触媒の回収を簡略な工程で、低エネルギーで回収する方法を提供することである。
【解決手段】塩素化工程で副生成物として生成する多水酸基置換脂肪族炭化水素のオリゴマー類を、抽出工程で抽出し、分離することにより、クロロヒドリン類のエステルとして存在する触媒を回収できることを見出した。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造に用いられるフォトレジスト用モノマー原料や該モノマーなどとして有用な、露光感度、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、ラフネス改善等に優れた脂環構造含有化合物、（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、（メタ）アクリル系重合体並びにポジ型レジスト用組成物を提供すること。
【解決手段】エステル結合を有する連結基及びエーテル結合を有する連結基を含む脂環構造含有化合物、該脂環構造含有化合物から誘導される（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、該（メタ）アクリル酸エステル類に基づく単量体単位を含む（メタ）アクリル系重合体並びに該（メタ）アクリル系重合体を含有するポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

本発明は、ホウ素及びアルミニウム錯体、その製造方法及びイオン性化合物を可溶性にするためのその使用に関する。前記錯体は、次式を有する。


ここで、ＤはＢ又はＡｌを表わし；Ｒ¹はＲ、Ｒ_F、ＮＯ₂、ＣＮ、Ｃ(＝Ｏ)ＯＲ、ＲＳＯ₂又はＲ_FＳＯ₂を表わし；−Ｘ¹−、−Ｘ²−、−Ｘ³−及びＸ⁴はぞれぞれ二価基＞Ｃ＝Ｏ、＞Ｃ＝ＮＣ≡Ｎ、＞Ｃ＝Ｃ(Ｃ≡Ｎ)₂、＞ＣＲ²Ｒ³又は＞ＳＯ₂を表わし；−Ｙ¹−、−Ｙ²−及び−Ｙ³−はぞれぞれ二価基−Ｏ−、＞Ｎ(Ｃ≡Ｎ)、＞Ｎ(ＣＯＲ_F)、＞Ｎ(ＳＯ₂Ｒ⁴)、＞ＮＲ⁴、＞Ｎ(ＣＯＲ⁴)又は＞Ｎ(ＳＯ₂Ｒ_F)を表わし；Ｒ、Ｒ²及びＲ³はそれぞれＨ、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、オキサアルキル基又はアルケニル基を表わし；Ｒ⁴はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、オキサアルキル基、アルケニル基又はＲ_FＣＨ₂−基を表わし；Ｒ_Fはペルフルオロアルキル基、一部フッ素化アルキル基、又は一部若しくは完全フッ素化フェニル基を表わし；Ｒ'²及びＲ'³基はそれぞれＲ又はＦを表わす。
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【課題】安全性が高く、ステンレスなどの金属材料への腐食性が低いばかりでなく、同時に安価で活性の高い、脱水反応用の酸触媒及びそれを用いたエステル又はエーテルの製造方法を提供する。
【解決手段】各種のエステル又はエーテルの製造において、従来用いられていた硫酸に代えて、フィチン酸を酸触媒として用いるものであり、フィチン酸を、比表面積の大きな担体に固定化する、或いは、ポリエチレングリコール類又はポリエチレングリコール鎖を親水性部とする非イオン界面活性剤で分散させるなどの方法によって、その触媒効率を高めたり、反応液の後処理などの作業性を上げることができる。 （もっと読む）

【課題】リチウムイオン電池用電解液の溶剤又は添加剤として有用なジフルオロマロン酸ジエステル化合物の新規製造方法を提供する。
【解決手段】ジフルオロマロン酸モノエステル化合物をアルコール類と接触・混合させ、ジフルオロマロン酸ジエステル化合物を製造する。 （もっと読む）

【課題】抗アレルギー剤であるフェキソフェナジンおよびその類縁化合物の製造に有用な中間体の提供。
【解決手段】下式化合物


〔式中、ＨalはＣl、Ｂr、又はＩであり；ｎは１乃至５の整数であり；そして（ｉ）Ａはヒドロキシであり；Ｒ₅はＨ、−ＣＨ₂ＯＤ｛ここでＤはＨ、アセテ−ト、又はベンゾエート｝、ＣＨＯ、Ｂr、Ｃl、Ｉ、ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯアルキル、−Ｃ(＝ＮＨ)Ｏアルキル、又は−ＣＯＮＲ₆Ｒ₇で、アルキルは炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖であり、そして、Ｒ₆とＲ₇はそれぞれ独立に、Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシであるか、又はＲ₆とＲ₇は窒素原子と一緒に、ピロリジン、ピペリジン、又はモルホリンを形成し、又は（ii）Ａは水素であり；Ｒ₅はＣＨＯ、Ｂr、Ｃl又はＩである〕。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物、および該液浸露光用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｃ−１）［式中、Ｒ^Ｘは有機基であり、Ａ_Ｎは置換基を有していてもよいナフタレン環であり、Ｒ^２は塩基解離性基であり、ａは１または２であり、Ａ_Ｎおよびａ個のＲ^２のうちの少なくとも１つはフッ素原子を有する。］で表される含フッ素化合物。
［化１］
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ナトリウム依存性グルコース共輸送体ＳＧＬＴに対して阻害効果を有する化合物が提供される。本発明は、ＳＧＬＴ阻害によって影響される疾患および状態の治療用の医薬組成物、該化合物の製造方法、合成中間体、および独立の、または他の治療薬と組み合わせた該化合物の使用方法も提供する。
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