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国際特許分類[C21D6/00]の内容

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【課題】耐食性に優れた希土類磁石を提供すること。
【解決手段】本発明の希土類磁石100は、希土類元素R、遷移金属元素T及びホウ素Bを含有するR−T−B系の希土類磁石であって、Cu及びCoを更に含有し、希土類磁石におけるCuの濃度分布が、希土類磁石の表面から内部へ向かう方向に沿った勾配を有し、希土類磁石の表面側のCuの濃度が、希土類磁石の内部側のCuの濃度よりも高く、希土類磁石におけるCoの濃度分布が、希土類磁石の表面から内部へ向かう方向に沿った勾配を有し、希土類磁石の表面側のCoの濃度が、希土類磁石の内部側のCoの濃度よりも高い。 (もっと読む)


【課題】溶接物と溶接対象物とを予熱を不要としながら、十分な強度を確保することができる頑丈な補強部材を提供する。
【解決手段】フェライト/パーライト二相構造を有する金属材料に所定の熱処理を施して高熱状態としたオーステナイト/初析フェライト二相構造を有する金属材料に焼入れ処理を実行し、これを焼戻して得られる焼戻マルテンサイト/初析フェライト系二相構造を有する金属補強部材。ここで、所定の熱処理は、金属材料を860〜950℃で加熱する加熱工程と、加熱した金属材料を780〜820℃まで降温する降温工程と、降温した金属材料の温度を維持する維持工程とを包含する。 (もっと読む)


【課題】ギヤ歯面等の複雑な形状物(例えば機械構造部品)に対しても均一に窒素化合物層を残存させることを担保すると共に微細マルテンサイトの形成を担保することにより、高周波焼き入れ後に当該複雑な形状物に対して、優れた面圧強度、耐摩耗性、曲げ疲労強度等の機械的強度を付与可能な手段の提供。
【解決手段】鉄鋼材料に対して窒化処理と高周波焼入れ処理との組み合わせ複合熱処理を施す方法において、窒化処理後の高周波焼入れ処理前に、窒化処理により鉄鋼に形成された窒素化合物層上のその表層側に厚みとして0.1〜5μmの酸化層を600℃以下で生成させる処理工程を更に含むことに加え、硬度HV550以上かつ1μm以上の窒素化合物層を鉄鋼材料の表層に残存させる条件にて高周波焼入れ処理を実施することを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】球状化焼鈍後において実施される冷間加工において良好な冷間加工性を発揮することができ、また軸受部材等として良好な耐摩耗性や転動疲労特性をも確保できる軸受用鋼を提供すること。
【解決手段】C:0.9〜1.10%、Si:0.05〜0.49%、Mn:0.1〜1.0%、P:0.05%以下(0%を含まない)、S:0.05%以下(0%を含まない)、Cr:0.03〜0.40%、Al:0.05%以下(0%を含まない)、N:0.002〜0.025%、Ti:0.0030%以下(0%を含まない)、およびO:0.0025%以下(0%を含まない)を含有し、残部が鉄および不可避不純物からなり、セメンタイトの平均アスペクト比が2.00以下、セメンタイトの平均円相当直径が0.35〜0.6μmであると共に、円相当直径0.13μm以上のセメンタイトの個数密度が0.45個/μm以上であることに特徴を有する軸受用鋼。 (もっと読む)


【課題】磁気冷凍材料でマイクロチャネルを形成する方法を提供する。
【解決手段】マイクロチャネルにおける一対の空隙幅W1と磁気冷凍材料充填幅W2の合計寸法W1+W2よりも厚い平板状磁気冷凍材料111の一方の面にマイクロチャネルの幅以上の深さを有する溝111aを形成する溝形成工程と、前記溝111aの深さがマイクロチャネルの空隙幅W1と一致するように研削あるいは研磨加工する工程と、前記平板状磁気冷凍材料111のうち前記溝111aを形成した面と反対側の面を、平面となるよう且つ厚みがマイクロチャネルにおける一対の空隙幅W1と磁気冷凍材料充填幅W2の合計W1+W2と一致するように研削あるいは研磨加工する工程と、研削あるいは研磨加工して得られた磁気冷凍材料チップ101を積層させた状態で接合する接合工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】本開示の目的は、コーターブレード、ドクターブレード、及びクレープブレードなどの高摩耗用途に好適なストリップ鋼製品を提供することである。
【解決手段】本発明は、質量%で、以下の組成:C:0.4〜0.8、Si:0.4〜1.2、Mn:0.2〜0.55、Cr:3.5〜4.5、W:1.5〜4.0、Mo:1.0〜1.8、残部Fe及び通常存在する不純物を有する鋼からなるストリップ鋼製品に関する。ストリップ鋼製品は、好ましくは、コーターブレード、ドクターブレード、及びクレープブレードなどの印刷及び製紙ブレードに利用される。 (もっと読む)


【課題】引張強さが1150MPa以上で、板厚が7〜50mm程度の高張力鋼板に対して、優れた曲げ加工性と低温靱性を付与する。
【解決手段】質量%で、C:0.10〜0.25%、Si:0.05〜1.5%、Mn:0.5〜2.0%、Cr:0.01〜2.2%、Mo:0.08〜1.4%、V:0.03〜0.1%、Al:0.005〜0.1%、N:0.0005〜0.006%、P:0.02%以下、S:0.005%以下およびB:0.0003〜0.003%を含有し、かつ次式(1)の関係を満足し、残部はFeおよび不可避的不純物からなる鋼組成にすると共に、体積分率で95%以上がマルテンサイト組織でかつ、該マルテンサイト組織における旧オーステナイト粒の平均粒径が円相当径で20μm以下の鋼組織を有し、引張強さが1150MPa以上とする。
0.8≦0.5[%Cr]+1.2[%Mo]+5[%V]≦2.1・・・(1) (もっと読む)


【課題】クロム化成処理などの表面処理が無くともポリオレフィン系樹脂との密着性が確保でき、電解液との接触によっても密着力の低下がない蓄電デバイス容器用ステンレス箔及びその製造方法を提供する。
【解決手段】CrがFeよりも多く含み、かつ、酸素を20mol%以上60mol%以下含む酸化物皮膜を有するステンレス箔であって、該酸化物皮膜の表面における、圧延方向の算術平均粗さRal、又は、圧延方向に対して直角方向の算術平均粗さRacが、0.1μm以上で該酸化物皮膜の表面の最大深さRt未満であり、Rtが、0.8μm以上で該ステンレス箔厚さの50%以下であり、該酸化物皮膜の厚みが6nm以上150nm未満であることを特徴とする蓄電デバイス容器用ステンレス箔、及びその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】高硬度でありながらも磁性/非磁性が共存した複合磁性体を製造する。また、複合磁性体を転がり摺動部材に適用することで、従来にはない機能を有する運動案内装置を提供する。
【解決手段】この複合磁性体の製造方法では、非磁性体であるオーステナイト系ステンレスに対して、低温窒化処理を行うことで非磁性を維持したまま拡張オーステナイトを生成させるS相生成工程と、拡張オーステナイトが生成された非磁性体であるオーステナイト系ステンレスにおける磁性を付与しようとする所望の箇所に対して加熱処理を行うことで、非磁性体であるオーステナイト系ステンレスに対して部分的な磁性領域を形成する部分磁化工程とを含む処理を実行する。S相生成工程では、処理温度450℃以下で低温窒化処理が施され、部分磁化工程では、500℃以上の加熱温度で加熱処理が行われる。 (もっと読む)


【課題】不純物の多い工業原料を用いても安定して製造することが可能であり、且つ優れた磁性特性を有するFe基ナノ結晶合金を提供すること。
【解決手段】組成式FeSiCuの合金組成物。パラメータは、次の条件79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0<c≦8at%、0<x≦10at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び0.08≦z/x≦1.2を満たす。ここで、合金組成物は、不純物として、Al、Ti、Mn、S、O、Nを、0≦Al≦0.3質量%、0≦Ti≦0.3質量%、0≦Mn≦1.0質量%、0≦S≦0.3質量%、0≦O≦0.3質量%、0≦N≦0.1質量%だけ含有している。 (もっと読む)


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