【課題】二部材を接合する際における作業性の低下を抑制しつつ、二部材を接合した後のはんだを再加熱した場合に、はんだの溶融を抑制すること。
【解決手段】第１はんだ６Ｈは、Ｐｂを含まないＰｂフリーはんだである。第１はんだ６Ｈは、少なくともＳｎを含む第１金属６ＨＡと、少なくともＮｉ−Ｆｅ合金を含む第２金属６ＨＢと、を含む。第１金属６ＨＡ及び第２金属６ＨＢは、いずれも粒状である。第２金属６ＨＢの平均粒子径は、３μｍ以上５０μｍ以下である。第２金属６ＨＢの割合は、第１はんだ６Ｈの全質量に対して５質量％以上３０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】 長期間使用できるＮｉ合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提
供する。
【解決手段】 平均結晶粒径１０００μｍ以下のＮｉ合金からなるＮｉ合金スパッタリン
グターゲットにおいて、スパッタ面の結晶配向がランダム配向であり、ターゲットの厚さ
方向の中心面の結晶配向のランダム配向であることを特徴とするＮｉ合金スパッタリング
ターゲット。粉末にしてＸ線回折を行ってもピークの順番が変わらないことが好ましい。
また、厚さが３ｍｍ以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 内外の二層からなる複合構造を備え、金型の背面に接続される先端部において欠けが発生し難い射出スリーブの製造方法を提供する。
【解決手段】 外筒１は、炭素鋼で構成され、内筒の第一部分２１は、Ｓｉ：４．３ｗｔ％、Ｍｏ：２１ｗｔ％、Ｂ：３．０ｗｔ％、Ｎｉ：残部、からなるニッケル合金で構成され、内筒の第二部分２２は、Ｓｉ：５．５ｗｔ％、Ｍｏ：１１ｗｔ％、Ｂ：１．８ｗｔ％、Ｎｉ：残部、からなるニッケル合金で構成される。外筒相当部分１ａと中子３との間の環状の隙間に、第二の焼結原料粉末２２ａを所定の高さまで充填した後、その上に第一の焼結原料粉末２１ａを充填する。これを、熱間静水圧プレス装置を用いて加熱及び加圧し、第一及び第二の焼結原料粉末を焼結し、互いに接合する同時に外筒相当部分に接合する。 （もっと読む）

【課題】摩擦係数が小さく、接触抵抗の経時変化が小さい嵌合型端子用錫めっき付き銅合金板を提供する。
【解決手段】銅又は銅合金板上に、Ｎｉ被覆層（必要に応じて）、Ｃｕ−Ｓｎ合金被覆層及びＳｎ被覆層からなる表面めっき層がこの順に形成され、Ｓｎ被覆層の上に黒鉛粒子が分散して付着している。Ｎｉ被覆層の平均厚さは０．１〜１．０μｍ、Ｃｕ−Ｓｎ合金被覆層の平均厚さは０．１〜１．０μｍ、Ｓｎ被覆層の平均厚さは０．１〜２．５μｍとされている。黒鉛粒子は前記Ｓｎ被覆層の表面を面積比率３〜３０％で被い、黒鉛粒子のうち粒径２μｍ以上の黒鉛粒子の平均粒径が３〜３０μｍで、そのうち粒径１０μｍ以上の粒子の個数の割合が３％以上である。銅又は銅合金板上にＮｉめっき（必要に応じて）、Ｃｕめっき及びＳｎめっきを行い、表面に黒鉛粒子を付着させた後、リフロー処理することで製造する。 （もっと読む）

【解決手段】高性能バルク磁気構成部品は、一体に接着結合されて多面体形状部を形成する、複数の結晶性強磁性金属帯板層を含む。励磁周波数「ｆ」でピーク誘導レベルＢ_maxまで励磁させると、磁気構成部品は、以下の「Ｌ」よりも小さいコア損失を示す。Ｌは、式Ｌ＝０．０１３５ｆ（Ｂ_max）^1.9＋０．０００１０８ｆ^1.6（Ｂ_max）^1.92によって与えられ、前記コア損失、前記励磁周波数および前記ピーク誘導レベルの単位は、それぞれワット毎キログラム、ヘルツおよびテスラである。
【効果】高性能バルク磁気構成部品の性能特性は、同じ周波数範囲で動作させたケイ素鋼構成部品に比べて、相当に良好である。 （もっと読む）

【課題】飽和磁化の高いナノサイズのニッケル−鉄合金粒子を容易かつ安価に作製することが可能な高飽和磁化ニッケル−鉄合金ナノ粒子の製造方法、及び、この高飽和磁化ニッケル−鉄合金ナノ粒子の製造方法により得られた高飽和磁化ニッケル−鉄合金ナノ粒子を提供する。
【解決手段】本発明の高飽和磁化ニッケル−鉄合金ナノ粒子の製造方法は、ニッケル塩及び鉄塩を含むエチレングリコール等の多価アルコール溶液に、ヒドラジン（Ｎ_２Ｈ_４）及び水酸化ナトリウムを併用した還元反応補助剤を添加して、多価アルコール溶液に含まれるニッケルイオン及び鉄イオンを同時に還元することにより、ニッケル−鉄合金ナノ粒子を生成する。 （もっと読む）

【課題】 絶縁基板との接着性及びエッチング性の両方に優れ、ファインピッチ化に適した、環境負荷が小さい環境配慮型プリント配線板用銅箔を提供する。
【解決手段】 プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、該銅箔基材表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備え、被覆層には、Ｃｏが２５〜９００μｇ／ｄｍ²の被覆量で存在し、ＸＰＳによる表面からの深さ方向分析から得られた深さ方向（ｘ：単位ｎｍ）のコバルトの原子濃度（％）をf(x)とし、銅の原子濃度（％）をg(x)とし、酸素の原子濃度（％）をh(x)とし、炭素の原子濃度（％）をｉ(x)とし、その他の金属の原子濃度の総和をj(x)とすると、区間［０、１．０］において、∫g(x)dx/(∫f(x)dx + ∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx)が１０％以下で、∫f(x)dx/(∫f(x)dx + ∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx)が２０％以上を満たす。 （もっと読む）

【課題】 低電気抵抗で、かつ繰返しの加熱環境にあって抵抗率安定性に優れるＮｉ合金電極膜、そのＮｉ合金電極膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 基板上に形成される電極膜であって、０．５〜２．０原子％のＷを含有し、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなる組成を有し、抵抗率が３０μΩｃｍ以下である繰返し加熱における抵抗率安定性に優れるＮｉ合金電極膜である。また、繰返し加熱に曝される電極膜形成用に用いられる０．５〜２．０原子％のＷを含有し、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなる組成を有するＮｉ合金電極膜形成用スパッタリングターゲットである。 （もっと読む）

【課題】ヒドラジンの分解反応を利用する水素発生方法において、水素を選択性よく高効率で発生させることができる方法を提供する。
【解決手段】白金とニッケルの複合金属からなる、ヒドラジン及びその水和物からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物の分解反応による水素発生用触媒、並びに該触媒を、ヒドラジン及びその水和物からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に接触させることを特徴とする水素発生方法。 （もっと読む）

【課題】相対的に低い温度の熱処理によっても、比抵抗、抵抗温度特性、高温安定性、耐塩水性のいずれにも優れた薄膜抵抗器、およびその製造のための抵抗体材料および製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｒ、ＡｌおよびＹから選択される１種以上の添加元素を１０〜６０質量％含有し、残部がＮｉと不可避不純物からなるＮｉ合金に、ＳｉＯ₂を主成分とし、Ｂ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｒおよびこれらの酸化物から選択される１種以上を０〜９０質量％含有するシリケート系ガラスが３〜２０質量％添加されている抵抗体材料を使用する。 （もっと読む）