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国際特許分類[C23C14/06]の内容

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【課題】耐エロージョン性に優れる硬質皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】スチームタービンブレード、ジェットエンジンの圧縮機ブレード、気体または液体圧縮用のコンプレッサースクリュー、ターボ圧縮機のインペラー、燃料噴射用バルブからなる群より選択されるいずれかに使用される基体と、前記基体を被覆する硬質皮膜とを備えた硬質皮膜被覆部材であって、硬質皮膜は、ナノインデンターにより測定した硬さ(H)とヤング率(E)において、硬さ(H)が20GPa以上であり、硬さ(H)とヤング率(E)との比率(H/E)が0.06以上であり、硬質皮膜は、TiおよびCrのうちの少なくとも一種とAlとNとを含有し、皮膜中の非金属元素以外の元素の総量に占めるTiとCrの総量が原子比で0.1以上0.6以下であり、かつ、皮膜中の非金属元素以外の元素の総量に占めるAlの量が原子比で0.4以上0.7以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明性および導電性に優れる透明導電膜を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜は、Ti、P、OおよびNを必須元素とし、任意元素として、V、n、Si、Fe等を含むものでもよい。この透明導電膜が基材表面に形成された導電部材は、従来になく優れた透明性および導電性を発現する。特にTi原子比(Ti/(Ti+P))が0.5〜0.8である場合にその傾向が顕著である。本発明の透明導電膜は、従来の透明導電膜に必須であったInやNb等の希少元素を含まない。従って本発明によれば、資源的リスクがなく、低コストな透明導電膜の提供が可能となる。このような透明導電膜は、各種の薄型ディスプレイ、タッチパネル、太陽電池、バイオ刺激電極などの部材に利用可能である。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、このような透明繊維複合樹脂シート上に、従前よりも緻密な無機質膜を形成し、ガスバリア性に優れる透明繊維複合樹脂層含有多層シートを製造することができる方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る透明繊維複合樹脂層含有多層シート製造方法では、透明繊維複合樹脂シート又は透明繊維複合樹脂層含有多層シートが加熱されながら透明繊維複合樹脂シートまたは透明繊維複合樹脂層含有多層シートの少なくとも片面上に透明無機質膜が成形される。なお、加熱は、透明繊維複合樹脂シート又は透明繊維複合樹脂層含有多層シートの温度が150度C以上「樹脂成分の劣化温度」以下の温度になるようになされるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】流動体を付着させて熱処理を行う工程を繰り返し行うことにより微細パターンの膜を所望の膜厚で精密に作製可能とするパターン形成用基板と、パターン形成用基板を用いた圧電アクチュエータの製造方法を提供する。
【解決手段】所定の流動体を特定領域に付着させて熱処理を行うことによりパターン化された膜を形成するためのパターン形成用基板10で、特定領域を親和性とし、それ以外の領域を非親和性とする表面改質をおこなう。パターン形成用基板10の表面改質処理対象となる金属膜はPt膜53を積層し、基体として、Ti,Ta,Zr,V,Nb,Mo,Wから選ばれる少なくとも1つの金属元素、酸素元素および炭素元素から構成されるMOC膜52を用いる。 (もっと読む)


【課題】軸受鋼からなる軸受部品の軌道面または転動面への硬質膜を形成する方法として、高負荷環境で十分な耐久性を有する硬質膜が形成できる方法を提供する。
【解決手段】上レース1の軌道溝1aと下レース2の軌道溝2aに、炭素と珪素と水素からなるDLC膜5を形成する際に、珪素ターゲットおよび炭素ターゲットを用い、メタンガスとアルゴンガスを導入した非平衡マグネトロンスパッタリング法を採用する。また、スパッタリング装置内の試料支持台をヒーターで加熱し、ヒーターの温度を制御することで、試料支持台に支持された上下のレース1,2の軌道溝1a,2aの温度を150〜180℃の範囲に保持する。また、DLC膜5の厚さが1.0〜1.6μmとなるように時間を設定して成膜する。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた耐溶着性と耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、AlとTiの複合窒化物層からなる下部層と、A層:(111)面配向性のAlとCrの複合窒化物層、B層:AlとTiの複合窒化物層、C層:(200)面配向性のAlとCrの複合窒化物層、B層+A層+B層+C層を1積層周期とした1周期以上の積層構造を有する上部層とからなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】種結晶の側面や表面外周部からの原子の脱離を抑えることができ、高品質な単結晶の作製が可能な単結晶の製造方法を提供すること。
【解決手段】単結晶の製造方法は、種結晶9が固定された坩堝蓋8で密閉される坩堝7内に原料6を配置して、原料6を昇華させて単結晶を製造する単結晶の製造方法であって、坩堝蓋8に固定された種結晶9の露出面を覆うように、予め、種結晶9が昇華しない温度領域で結晶薄膜15を形成する成膜工程と、結晶薄膜15が形成された坩堝蓋8で坩堝7を密閉して、原料6を昇華させて単結晶を成長させる成長工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】窒化物半導体層とオーミック電極とのコンタクト抵抗を低減できる窒化物半導体装置を提供する。
【解決手段】Si基板10上に形成されたアンドープGaN層1,アンドープAlGaN層2と、アンドープGaN層1,アンドープAlGaN層2上に形成されたTi/Al/TiNからなるオーミック電極(ソース電極11,ドレイン電極12)とを備える。上記オーミック電極中の酸素濃度を1×1016cm−3以上かつ1×1020cm−3以下とする。 (もっと読む)


【課題】 スパッタリングを用いて安全・安価な方法で、可視領域において低吸収なフッ化膜を作成する方法を提供すること。
【解決手段】 本願発明は、金属ターゲットと反応性ガスを含む混合ガスを用いて、反応性スパッタにより基板上にフッ化膜を形成するフッ化膜形成方法において、前記混合ガスはOガス及び前記反応性ガスを含み、前記反応性ガスはフルオロカーボン系ガスであることを特徴とするフッ化膜形成方法である。 (もっと読む)


【課題】摺動面に潤滑油を確実に供給し、潤滑性能を高めた摺動部材及び圧縮機を提供すること。
【解決手段】クランクシャフト3またはベーン46は、基材上にダイヤモンドライクカーボン皮膜層54を備え、このダイヤモンドライクカーボン皮膜層54と相手方の部材との間にオイルが供給された状態で摺動する構成とし、ダイヤモンドライクカーボン皮膜層54の摺動面54Aに、孔径の異なる第1の空孔61及び第2の空孔62を形成し、孔径の大きな第1の空孔61と孔径の小さな第2の空孔62とが、摺動方向Xに沿って、交互に配列されている。 (もっと読む)


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