国際特許分類[C23C14/24]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | 被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆 (14,491) | 被覆の方法に特徴のあるもの (7,808) | 真空蒸着 (2,572)
国際特許分類[C23C14/24]の下位に属する分類
ソースの抵抗加熱または誘導加熱によるもの (14)
波動エネルギーまたは粒子放射によるもの (271)
爆発によるもの;蒸発およびその後の蒸気のイオン化によるもの (343)
国際特許分類[C23C14/24]に分類される特許
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気化装置、及び、気化装置を備えたプラズマ処理装置
【課題】従来のフラーレン気化装置は、昇華効率が悪く、時間当たり昇華量が少ない、昇華せずに加熱容器中に残るフラーレン量が多い、昇華温度を高くすると突沸が発生するという問題があった。
【解決手段】気化装置に銅製のメッシュ膜などの伝熱部材を挿入し、その中にフラーレンを充填して加熱することにした。フラーレン全体に均一に熱が伝達されるので、昇華効率が向上し、未昇華フラーレンの量が低減し、時間あたりの昇華量が増えた。突沸の防止にも効果があった。
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同軸型真空アーク蒸着源
【課題】同軸型アーク蒸着源のメンテナンスに要するコストを低減する。
【解決手段】本発明の蒸着源5は、円筒状のアノード電極23と、円柱状のカソード電極12と、円筒状のトリガ電極13と、カソード電極12に接続された蒸着材料11と、蒸着材料11とトリガ電極13との間に配置されたハット状の絶縁碍子14とを有し、ハット状の絶縁碍子14は、円筒状部分と円板状部分からなり、円板状部分の側周部に凹所または凸所がある。このため、蒸着材料11とトリガ電極13との間の耐電圧が低下しないように、沿面距離を確保しつつ絶縁碍子14の高さを低くできるので、交換部品である絶縁碍子14のコストを低減することができる。
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位置合わせ方法、薄膜形成方法
【課題】マスク交換後の作業時間を短縮させる。
【解決手段】マスクホルダ上のマスクを撮影し、撮影画像と、候補パターン群に登録されたパターン形状を比較し、登録されたパターン形状毎に一致確率を算出し、一致確率が基準値以上のパターン形状のうち、最大の一致確率のパターン形状を基準パターン形状とし、マスクと基板の位置合わせに用いる。基準値以上の一致確率のパターン形状が無かった場合、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出し、候補パターン群に追加登録する。マスクを交換しても、候補パターン群に一致するパターンが無かった場合だけ、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出すればよいから、マスク交換のための作業時間が短縮する。
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蒸着ボート及び蒸着装置
【課題】膜厚均一性に優れた薄膜を蒸着法によって形成可能とする。
【解決手段】 蒸着装置において蒸着材料を蒸発させるのに使用する蒸着ボートEBであって、非金属材料によって形成され蒸着材料が供給されるべき凹部RSが上面TSに設けられた抵抗発熱体HRと、抵抗発熱体HRの凹部RSを挟むように配置された一対の電極ED1及びED2と、金属材料によって形成され抵抗発熱体HRの上面TSにおいて凹部RSと少なくとも一方の電極ED1との間に配置された被覆体CBと、を備えたことを特徴とする。
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真空蒸着方法
【課題】アルカリハライド系の蛍光体層を真空蒸着するに際し、基板や蛍光体層の変質を防止でき、かつ、成膜材料の利用効率が高い真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸発源と基板との間に成膜材料の蒸気を反射するための発熱体を設け、かつ、この発熱体の温度を成膜材料の融点未満で、成膜材料の融点−200℃以上とすることにより、前記課題を解決する。
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基板上に一次元構造配列又はクロスバー構造を作製する方法
【課題】表面が滑らか若しくは平面的な状態に保たれた密な一次元構造配列又はクロスバー構造を容易に作製できる方法を提供する。
【解決手段】一次元構造配列又はナノクロスバー構造を基板上で、以下のようにして作製する。(i) 基板をセット;(ii) 前記基板上に近接して、スリットを有するシャドーマスク5をセット;(iii) 前記基板上に、第一層を堆積させるための原料を供給; (iv)前記シャドーマスクを、前記基板との平行性を保ちながら、前記基板に対して所定の距離だけ、前記スリットの長さ方向に対する直角方向に移動; (v) 前記基板上に、第二層を堆積させるための別の原料を供給;(vi) 前記シャドーマスクを、前記基板との平行性を保ちながら、前記基板に対して所定の距離だけ、前記スリットの長さ方向に対する直角方向に移動;(vii) シャドーマスク又は基板の総移動距離がスリットピッチに達するまで、上記工程(iii)-(vi)を繰り返す。
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蒸着用マスク
【課題】熱線膨張係数の異なるプラスチック、あるいはガラス基板等の素材を用いた被蒸着基板に対して所定のパターン等を蒸着する際、温度上昇に耐え、高精度のマスキングをすることができる蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】各種の回路パターン等が形成されたマスク1に対して種々の材料よりなる保持基板2を、接着あるいはその他の方法で貼り合わせて一体化し、熱線膨張に対して安定化した高精度な蒸着用マスクを構成する。
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膜厚センサ、薄膜形成装置、有機EL表示装置の製造装置、及び有機EL表示装置の製造方法
【課題】薄膜形成装置の真空槽内で水晶振動子を用いて膜厚を測定する場合に、水晶振動子の温度変化によって膜厚測定値に誤差が生じる。
【解決手段】膜厚センサ5の構成として、膜厚測定用の水晶振動子11と、この水晶振動子11を保持するハウジング13と、このハウジング13を保持するとともに、ハウジング13を介して水晶振動子11を冷却する水冷式のホルダ20とを備えた構成とする。また、ハウジング13とホルダ20との間に、熱伝導性を有する振動吸収部材23を挿入する。
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反射防止膜成膜装置及び反射防止膜製造方法
【課題】反射防止膜を成膜する際の安全性を高めると共に、基板に対する水素パッシベーションを効果的に行って生産性も向上する。
【解決手段】太陽電池用の反射防止膜を成膜する成膜装置1において、成膜室9内にプラズマビームPb2を供給し、酸化珪素からなるタブレットMを昇華させて反射防止膜を成膜する。更に、水素イオン発生ガスを成膜室9内に導入し、アークプラズマ環境で水素イオンを生成し、その水素イオンでダングリングボンドを終端する。この成膜装置1では、酸化珪素からなるタブレットMを用いているため、モノシランガスに比べて安全性は極めて高い。さらに、加熱ヒータ26による加熱によって水素パッシベーションが促進される。その結果として、基板Wに対する水素パッシベーションを効果的に行いながら生産性も向上できる。
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光学膜形成用治具及び光学素子
【課題】合成樹脂で形成された光学素子に光学膜を形成する際に、光学膜形成用治具内で光学素子の位置が変動しても、被接着部位である周縁部に充分に光学膜を形成でき、接着強度の確保できる光学素子及び光学膜形成用治具を得る。
【解決手段】合成樹脂からなり、光学機能面と、該光学機能面の外周部に形成され他部品と接着される被接着部位とが一体的に形成された円形状の光学素子に、光学膜を形成するための穴部及び光学素子の落下防止のための受け部が形成された光学膜形成用治具において、受け部が、少なくとも3箇所の半径方向に延伸された突起部で構成されている光学膜形成用治具とする。
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