【課題】 従来以上の高画質（輝度）が得られる放射線画像変換パネル及びその製造方法の提供。
【解決手段】 支持体上にＣｓＢｒ：Ｅｕ輝尽性蛍光体を有する輝尽性蛍光体層が気相堆積法（気相法）のにより形成される放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の断面を励起光源にて支持体側から蛍光体層表面側に向かって励起した際に、発光強度の低い層と発光強度の高い層を交互に積層しないことを特徴とする放射線画像変換パネル。 （もっと読む）

【課題】 鮮鋭性に優れる放射線画像変換パネルの製造。
【解決手段】 真空チャンバー内で、支持体（基板）上にハロゲン化アルカリを母体とする輝尽性蛍光体を蒸着法により蒸着する工程を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、基板の中央部をゲル状の両面粘着性物質で基板ホルダーに密着させて、基板表面温度の変動幅を抑える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板をほぼ垂直で起立した状態で有機物を蒸着して有機薄膜を形成して大型基板に適用可能で、かつ、均一な厚さの有機薄膜を形成することができる有機物蒸着装置を提供するためのものである。
【解決手段】本発明の有機物蒸着装置は胴体を成し、基板を地面に対し、７０゜ないし１１０゜の角度を維持するようにするチャンバと、基板上に蒸着する有機物を受け入れる少なくとも一つの有機物格納所からなる有機物格納部と、基板上に蒸着する有機物を噴射する有機物噴射ノズル部と、有機物噴射ノズル部と有機物格納部とを連結させる連結ラインと、有機物格納部、有機物噴射ノズル部及び連結ライン中の少なくとも有機物噴射ノズルを垂直方向に移動させることができる移送装置を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】細い管状体の管内壁面に適確容易かつ安価にて均等な膜厚にアルミニウムを真空蒸着させること。
【解決手段】管状体１の内壁面にアルミニウムを真空蒸着するアルミニウム真空蒸着方法において、前記管状体１の内部にアルミニウム蒸着源５を線状に配置する一方、前記管状体１の外周囲に巻回配置した誘導加熱コイル６に通電してアルミニウム蒸着源を加熱蒸発させて前記管状体の内壁面にアルミニウムを蒸着させる。 （もっと読む）

組織の結合または貫通する厚さの勾配を有しないかまたは最小であることにより特徴付けられるモリブデンスパッタリングターゲットおよび焼結体。微細な、均一な粒度および均一な組織を有するモリブデンスパッタリングターゲットは高い純度であり、性能を改良するためにミクロ合金化できる。スパッタリングターゲットは丸い円板、正方形、長方形、または管状であってもよく、基板に薄膜を形成するために、スパッタすることができる。セグメント形成法を使用することにより、スパッタリングターゲットの大きさは６ｍ×５.５ｍｍまでであってもよい。薄膜を電子部品、例えば薄膜トランジスター、液晶ディスプレー、プラズマディスプレーパネル、有機発光ダイオード、無機発光ダイオードディスプレー、電界発光ディスプレー、太陽電池、センサー、半導体装置および調節可能な仕事関数を有するＣＭＯＳ（相補的金属酸化物半導体）のゲート装置に使用される。
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【課題】 特にＣｓＢｒ輝尽性蛍光体における付着性と画質特性（輝度）とも優れた放射線画像変換パネル及びその製造方法の提供。
【解決手段】 支持体上にＣｓＢｒ：Ｅｕ輝尽性蛍光体を有する輝尽性蛍光体層が気相堆積法（気相法）により形成される放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の断面を励起光源にて支持体側から蛍光体層表面側に向かって励起した際に、発光強度の低い層と発光強度の高い層が交互に積層されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。 （もっと読む）

予工程において、情報収集用に準備した試験用基板１１とターゲート１２上のレーザ光ＬＢの入射点の空間的位置の位置関係を固定した状態で、ターゲート１２にレーザ光ＬＢを照射するか、試験用基板を回転させながらターゲート１２にレーザ光ＬＢを照射するかしながら、一定の照射時間に応じて堆積された試験用基板上の膜厚分布情報を予め得る。本工程においては、基板１１または基板ホルダ２１とターゲート１２上のレーザ光ＬＢの入射点とを、相対的に特定の回転中心軸の周りに回転させるか相対的に空間的に移動させながら、あるいはそうした相対的回転と相対的移動を共に行いながら、予工程において予め得た膜厚分布情報に基づき、各相対位置関係における堆積時間を調整する。
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【課題】 特に鮮鋭性に優れた放射線画像変換パネルの製造方法の提供。
【解決手段】 支持体（基板）上にハロゲン化アルカリを母体とする輝尽性蛍光体を蒸着法により蒸着する工程を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、基板面内の温度の変動係数を１〜４０％で蒸着することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 成膜材料の混合を行うに際して成分割合の調整を容易に行うことができ、成膜領域のずれを防ぐ。
【解決手段】 真空成膜装置の成膜源１０が、複数の成膜材料をそれぞれ収容する複数の材料収容部１１Ａ，１１Ｂと、各材料収容部１１Ａ，１１Ｂ内の成膜材料を加熱する加熱手段１２Ａ，１２Ｂと、成膜材料の原子流又は分子流を成膜材料毎に放出する放出口１３Ａ，１３Ｂと、材料収容部１１Ａ，１１Ｂと放出口１３Ａ，１３Ｂとを気密に連通する放出流路１４_１Ａ，１４_２Ａ，１４_３Ａ，１４_１Ｂ，１４_２Ｂ，１４_３Ｂとを備え、同一成膜材料を放出する単数又は複数の放出口１３Ａ，１３Ｂを一方向に延設し、該一方向に延設された放出口１３Ａ，１３Ｂの外縁を直線で結んで形成される帯状の放出領域Ｓ_１Ａ，Ｓ_１Ｂが平面的に少なくとも一部で互いに重なり合うように、放出口１３Ａ，１３Ｂを配置している。 （もっと読む）

【課題】 モニター基板の材質を限定することなく、頻繁なモニター基板の交換が行うことのできる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 この発明のモニター基板装着装置は、前記基板ホルダーの中央部に開口した開口部を介して前記蒸着源と対峙する位置に設けられたモニター基板ホルダーと、未使用モニター基板が積層収納された着脱自在の未使用モニター基板収納箱と、使用済みモニター基板が積層収納される着脱自在の使用済みモニター基板収納箱と、前記未使用モニター基板収納箱から前記モニター基板ホルダーへモニター基板を送出し、前記モニター基板ホルダーへモニター基板を設置すると共に、モニター基板使用後において、前記モニター基板ホルダーから使用済みモニター基板収納箱へ使用済みモニター基板を送出して収納させるモニター基板移動手段とによって少なくとも構成される。 （もっと読む）