本発明は、第１には、真空中で基板上に高温超伝導体を蒸着する装置であって、高温超伝導材料の貯留器を収容する再充填装置と、エネルギ伝達媒体のビームにより蒸発ゾーンにおいて上記高温超伝導材料を蒸発させる蒸発装置と、上記高温超伝導材料を再充填装置から蒸発ゾーンに、該蒸発ゾーンに供給された高温超伝導材料が実質的に残留無しで蒸発されるように、連続的に供給する供給装置とを有するような装置に関するものである。本発明は、更に、真空中で基板上に高温超伝導材料の被覆を蒸着する方法であって、高温超伝導材料の粒体を蒸発ゾーンに連続的に導入するステップと、エネルギ伝達媒体のビームを上記の導入された粒体が上記蒸発ゾーンにおいて実質的に残留無しで蒸発されるように動作させるステップとを有するような方法にも関するものである。
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【課題】難加工性の材料を使用しても蓋体とボートとの固定が容易な蒸着用ボートを提供すること。
【解決手段】蒸着物質が載置されるボート２と、蒸着物質５の蒸気が通過する開口４を有し、前記ボート２の縁部に対して一部が重畳される蓋体１と、前記ボート２と前記蓋体１との重畳部に配設され、前記ボート２及び前記蓋体１よりも塑性変形し易く、破壊靱性が高い材料により形成された固定部材３と、を備えた蒸着用ボートを構成する。 （もっと読む）

【課題】マスキングパターン部の大型化による蒸着パターンの歪曲を減らし，蒸着パターン間のトータルピッチの調整が容易な有機電界発光表示装置の薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体を提供する。
【解決手段】開口部を有するフレームにその長手方向の両端部が固定された少なくとも二つの単位マスクを備える有機電界発光表示装置の薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体において，各単位マスクは，複数個の蒸着用開口部を備え，各単位マスク間には，蒸着用開口部と同一な幅の第１ギャップが備えられたことを特徴とする薄膜蒸着用のマスクフレーム組立体である。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着装置において、蒸着材料の供給及び回収動作を安定させる。
【解決手段】 真空槽、蒸着材料を加熱蒸発させる蒸発源、蒸着材料を収容する容器、容器を複数積載して収納する収納器、および、容器を収納器と蒸発源の間を移動させる移載手段を備える真空装置であって、収納器を少なくとも棒材からなる枠組みで構成した。 （もっと読む）

【課題】排気ガスの浄化に有効に働かない触媒金属量を少なくして、触媒活性を向上しながら、コスト低減を図る。
【解決手段】ハニカム状触媒担体２のセル壁４に無機酸化物粒子を含有するコート層を形成し、触媒活性金属の蒸気を不活性ガス中で凝縮させ、この触媒活性金属のクラスター微粒子を不活性ガス流によって上記触媒担体に衝突させることによって、触媒活性金属をクラスター微粒子として上記コート層に表層部に付着させ、触媒層５を形成する。 （もっと読む）

【課題】 画質の良好な放射線画像を与える放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 蒸着装置内にて、蛍光体材料を含む蒸発源を加熱することによって発生する蛍光体成分を基板上に蒸着堆積させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、基板上の任意の箇所における蛍光体成分の堆積速度の時間変化率が０．０３乃至２μｍ／秒²の範囲にあることを特徴とする。


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【課題】 赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、ＥＬ材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置を備えた製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、所望の蒸着領域に対して小さい開口を有するマスクを用い、該マスクを精密に移動させることによって、所望の蒸着領域全体に蒸着を行うことを特徴の一つとしている。また、マスクを移動させることに限定されず、マスクと基板とが相対的に移動すればよく、例えば、マスクを固定して基板をμｍレベルで移動させてもよい。 （もっと読む）

【課題】 成膜中においても基板表面近傍から基板表面を効率的に加熱することが可能な膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空槽１と、該真空槽内に配設された蒸着源３と、真空槽１内に設置され基板Ｓを保持する基板ホルダ２と、蒸着源３と基板ホルダ２との間に設置された補正板１１と、電源から電力の供給を受けて基板Ｓを加熱するためのヒータ１３と、を有する膜形成装置において、ヒータ１３を補正板１１における基板ホルダ２に対向する面に設ける。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性例えばＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体の製造方法、ならびに、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】 ＭｇＯに対するＳｉ及びＣａの含有率が、ＳｉＯ_２及びＣａＯ換算でそれぞれ０．０１〜３．０質量％であり、かつ、Ｍｇ１００質量部に対する前記Ｓｉの含有量をｘ質量部、前記Ｃａの含有量をｙ質量部としたときに、０．０１≦ｙ／ｘ≦１．５であることを特徴とする単結晶酸化マグネシウム焼結体、及び、この単結晶酸化マグネシウム焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したプラズマディスプレイパネル用保護膜である。 （もっと読む）

真空チャンバーの壁および／またはチャンバー内に配置された構成要素を、層原材料の望ましくない堆積から保護する少なくとも１つの遮蔽装置が、本発明によるコーティング装置の真空チャンバー内に配置され、その中でガラス状のガラス−セラミックおよび／またはセラミック層が蒸気相からの蒸着によって基板に付与される。真空チャンバー内で温度が変化する場合には、遮蔽装置の膨張または収縮がガラス状のガラス−セラミックまたはセラミックの層または堆積の膨張または収縮に対応することが重要である。
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