【課題】 長期に亘って成膜材料の補給を必要とせずに真空蒸着装置を連続運転することが可能であり、かつその間、成膜材料を常に一定の供給速度でリングハースへ安定して供給することができる成膜材料供給装置を提供すること。
【解決手段】 成膜材料供給室１０内において、例えば２週間程度は成膜材料の補給を必要としない量のＭｇＯペレットを収容し得る成膜材料ホッパー１１と、成膜材料ホッパー１１から排出されるＭｇＯペレットを計量して一定量のＭｇＯペレットを収容する計量ホッパー２１と、計量ホッパー２１から排出されるＭｇＯペレットを受けてそのまま成膜室２０内へ導く漏斗状ホッパー３１と、成膜室２０内において、漏斗状ホッパー３１からの受けるＭｇＯペレットをリングハース５０へ一定の速度で供給し、供給量が所定の値になると計量ホッパー２１から補給される回転円筒フィーダ４１とからなる成膜材料供給装置。 （もっと読む）

【課題】 接合に際し、ミクロン未満、例えば数ナノオーダーの厚さの薄い金属間化合物層を生成する。
【解決手段】 固相状態での接合に金属間化合物層の形成を要する異種金属ワークを接合する異種金属の接合装置は、接合すべき異種金属ワークＷ1、Ｗ2が入れられる真空容器11と、真空容器11内の一方のワークＷ2の接合面に金属間化合物層を形成するようにクラスターを照射するクラスター源15と、金属間化合物層を形成したワークＷ2と他方のワークＷ1を加圧および加熱する加圧・加熱手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、複数枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、複数枚の基板への蒸着被膜の同時形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、複数枚の基板が搬送トレイに載置されている状態を形成することができる保持部材として機能させるとともに、基板における蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させ、所定の薄体状部材の所定の位置に、複数枚の基板を載置した際、隣接する基板同士を仕切るための仕切り部材を設ける。 （もっと読む）

【課題】 安定した成膜プロセスを実現することによって、高い効率で薄膜を形成することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】 基体保持手段（１３）と、基体保持手段（１３）に対向して設けられて原料蒸発物を発生させる蒸着源（２０）と、を備える蒸着装置１である。
蒸着源（２０）に対峙した基体保持手段（１３）の最大幅（ｄ）に対して、蒸着源（２０）のと基体保持手段（１３）の距離（ｈ）の比率が１未満である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、蒸着原料の突沸によるスプラッシュで蒸着流中に直径の大きな異常粒子が混入し、それが被処理基板に付着して成膜品質を低下させることを、スプラッシュの発生を定量的かつ早期に検出することで防止する機能を有する真空蒸着装置およびその真空蒸着装置を用いた真空蒸着方法を提供することである。
【解決手段】 本発明の真空蒸着装置１０１は、真空チャンバ２と、真空ポンプ３と、基板ホルダ５と、ルツボ７と、電子ビーム９を発射する電子銃１０と集束コイル１１および偏向コイル１２と、シャッタ１３と、シャッタ駆動部１４と、成膜速度を測定する膜厚モニタ１５と、パワー制御部１６と、膜厚モニタ１５で測定した成膜速度の変動量を予め設定した基準値と比較判定することで、ルツボ７内の蒸着原料６の突沸により生じる不所望なスプラッシュの有無を検出する本発明の特徴である比較判定部１０２とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置としての性能を損なうことなく、薄膜成長中の成膜装置内部の状態を外部から監視可能な内部動作監視装置および方法を提供する。
【解決手段】 本発明の内部動作監視装置は、成膜材料の温度と基板の温度を調節する温度調節手段と、成膜量調節用シャッタの開閉調節手段とを備える成膜装置の内部動作監視装置であって、温度調節手段と開閉調節手段の出力値を測定する装置状態測定手段と、装置状態測定手段に接続されて測定した出力値を蓄積する装置状態蓄積手段と、装置状態測定手段と装置状態蓄積手段に接続されるシャッタ状態比較手段とを備え、シャッタ状態比較手段において、シャッタの開閉状態を変更するための制御信号の入力があった場合に、信号入力前における、成膜材料の温度または基板の温度を制御するための出力値を装置状態蓄積手段から呼び出し、信号入力後における、成膜材料の温度または基板の温度を制御するための出力値と比較し、出力値の変動差を監視することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数の基板の成膜を簡易におこなうことができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置１０において、成膜されるべきＳｉ基板２０は、筐体１２内に配置された円板状ホルダ１８によって保持される。そして、ホルダ１８に保持されたＳｉ基板２０Ａがヒータ２８によって加熱されると共に、蒸着源３０から成膜材料３２が放出されることによって、Ｓｉ基板２０Ａの成膜がおこなわれる。ここで、ホルダ１８は、その円周方向Ｌに沿って並ぶように６枚のＳｉ基板２０Ａ〜２０Ｆを保持すると共に、その円周方向Ｌに回転する。そのため、このホルダ１８を回転させると、蒸着源３０によって成膜されるＳｉ基板２０がＳｉ基板２０Ｂに換わって、ホルダ１８に保持された６枚のＳｉ基板２０Ａ〜２０Ｆが順次成膜可能な状態となる。 （もっと読む）

【課題】 膜厚傾斜量や基板形状が異なる複数種類の膜厚傾斜膜を効率的に製造するための製造方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】 基板ホルダと蒸発源の中間位置に、独立して作用する二種類以上の膜厚調整機構を有し、少なくても一種類が基板ホルダ内の膜厚分布を均一化する機能を、更に他の膜厚補正機構が各被成膜基板に所定の膜厚傾斜を与える機能を有する構造にするとともに、各被成膜基板に所定の膜厚傾斜量を与える機能を有する膜厚補正機構が、基板ホルダと同一形状を有する傾斜量調整マスクホルダと、それにセットして使用される傾斜量調整マスク板により構成される事を特徴とする成膜装置を使用して膜厚傾斜膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】切削工具の靭性と耐摩耗性とを高度に両立させるとともに特に膜チッピングを抑制した表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、該被膜は、該基材上の最外層となるものであり、かつ圧縮応力を有しており、該圧縮応力は、上記被膜の厚み方向に強度分布を有するように変化しており、該強度分布は、上記被膜の表面において最小の圧縮応力を有するとともに、上記被膜の表面から、上記被膜の表面と上記被膜の底面との間に位置する中間点まで該圧縮応力が連続的に増加し、該中間点において極大点を有するとともに、該中間点から上記被膜の底面まで圧縮応力が一定の値となる。 （もっと読む）

【課題】 筒状壁部材に保持された基板ホルダにプラズマ電力を給電する際に、筒状壁部材の軸方向に沿ったプラズマ生成を抑制すると共にプラズマ電力給電用の導電部材と筒状壁部材との間を簡易かつ確実に真空シールすることを可能にした真空成膜装置を提供する。
【解決手段】 真空成膜装置１００は、筒状壁部材１４の側壁部に形成された開口１４ａの周面と環状空間を隔てて、前記開口１４ａを貫通して配置される共に、第１の給電部材１９と第２の給電部材２５とを電気接続する導電性の棒状部材２２を備え、筒状壁部材１４に形成された開口１４ａの周方向に環状の真空シール部材４４、４５が配置され、かつ前記筒状壁部材１４と前記棒状部材２２とが絶縁されるものである。 （もっと読む）