【課題】 高感度であって、高画質であり、特に、鮮鋭性に優れた放射線画像が得られる放射線像変換パネルの製造方法の提供。
【解決手段】 蒸着装置内にて、下記一般式（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体もしくは輝尽性蛍光体原料を含有する蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を有する放射線像変換パネルの製造方法において、蒸着装置として蒸発源ボートと該基板との間に開閉可能なシャッタが備えられた蒸着装置を用い、該シャッタの面積と蒸発源ボートの開口部面積の比が１以上であることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
一般式（Ｉ）
Ｍ¹Ｘ・ａＭ²Ｘ′₂・ｂＭ³Ｘ″₃：ｅＡ （もっと読む）

【課題】蒸着すべき材料の使用効率が低下するのを防止し得る蒸発装置を提供する。
【解決手段】所定の真空度下で所定の材料を蒸発させる蒸発装置４であって、真空ポンプ１２に接続されるとともに上壁部１１ｃに蒸発された蒸発材料Ｂを放出し得る材料放出穴１７が設けられた蒸発用容器１１と、この蒸発用容器１１内に昇降用シリンダ装置１３により昇降自在に設けられるとともに蒸着材料Ａを収納した材料収納容器１４を載置し得る載置台１５とを具備し、上記蒸発用容器１４の材料放出穴１７の周囲に、材料収納容器１４が載置台１５を介して上昇された際にその外周を覆うことにより蒸発材料の当該蒸発用容器１１内への放出を抑制する筒状の隔壁部材１９を設け、且つ上記載置台１５および隔壁部材１６に材料収納容器１４を加熱する加熱手段２１を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、極力材料の無駄が発生しない蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸着装置１０ａは、各基板１４間を移動し、材料を加熱蒸発させ、各基板１４に対して蒸発物を堆積させるための蒸発源１２を備える。基板１４を真空チャンバーＡ，Ｃに出入したりアライメントしたりする間に他の基板１４を蒸着する。材料の無駄が非常に少なく、製造されるＯＬＥＤの製造コストを下げることができる。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源の上部を覆うことを防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】成膜材料の有効利用が可能であり、かつ、良好な膜質の膜を成膜することが可能な成膜源を提供する。
【解決手段】成膜源１０２は、成膜材料１２１が内部に充填される成膜材料収容部である坩堝１２２と、充填された成膜材料１２１の表面に載置される加熱体である加熱板１２３とを備える。加熱板１２３には複数の貫通孔１２５が所定のパターンで形成されている。また、加熱板１２３の貫通孔１２５が形成されていない領域には、ヒータ１２６が配設されている。成膜時には、ヒータ１２６によって加熱された加熱板１２３により、坩堝１２２内の成膜材料１２１の表面が加熱され、該表面の成膜材料１２１が蒸発して蒸着成膜が実施される。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源に入るのを可及的に防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、付着する蒸着材料の剥離を防止するために、微細な凹凸を形成したものである。 （もっと読む）

本発明は乾燥したナノ粒子（１８ｂ）のための移送システムを提供する。このシステムでは、移送するためにナノ粒子（１８ｂ）を磁化又は帯電させ、移送通路内に場発生器（２０ａ、２０ｂ）によって磁界又は電場を発生させ、その中でナノ粒子（１８ｂ）を移送通路（１２）を経て移動させる。ナノ粒子を、例えば放出開口部（１３）を通して放出することで配量が可能である。ナノ粒子（１８ｂ）の凝集又は内壁（２６）への堆積を回避するために、壁のコーティング（２７）をピエゾ駆動機構（２８）によって振動させ、その振動をナノ粒子（１８ｂ）へ伝達する。この移送システムによって、乾燥したナノ粒子の取扱いが効果的に可能になるので、ナノ粒子を懸濁液として処理する必要がない。
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本発明は、アノード（５）と、炭素から成るターゲットカソード（１０）と、パルスエネルギ源（１５）と、少なくとも２つの点弧ユニット（２０）とを備えた、パルス式のプラズマ支援された真空アーク放電による炭素析出のための装置に関する。少なくとも２つの点弧ユニット（２０）はターゲットカソード（１０）の縁部領域に配置されており、それぞれ２つの平面的な金属製の電極（２５，３０）と、両電極（２５，３０）間に配置された平面的な絶縁セラミック（３５）とを有している。点弧ユニット（２０）の平面的な形状および支持カソード（１０）におけるその配置により、ターゲット面全体の均等な使用およびワークピースの均等なコーティングが可能となる。
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本発明は、金属及び合金の熱蒸発による、真空蒸着方法及び真空蒸着装置に関するものである。図１に提案された装置は、融解金属（液体金属）（２）を有する融解るつぼ（１）と、真空チャンバ（５）内の蒸発装置（４）の１つあるいは複数のるつぼ（３）と、融解物の圧力が固定の磁気流体力学（ＭＨＤ）回路（７）を介して上記融解るつぼを上記蒸発るつぼに接続する、加熱された液体金属パイプ（６）とを備えている。回路（７）は、ＭＨＤポンプ（８）と、ＭＨＤポンプに隣接した液体金属パイプ（６）の区域と、加熱された液体金属パイプ（９），（１０），及び（１１）と、液体金属パイプ（１１）を介してＭＨＤパイプの前の液体金属パイプ６の区域に接続され、上記のパイプ（９）に取り付けられた拡張器（１３）に液体金属パイプ（１０）を介して接続される加熱容器（１２）とを備えている。上記拡張器内と上記容器内との融解物上の空間は、図示しない真空ポンプシステムに接続されたパイプ（１４）に連結される。融解物の高さＬの２つの電気センサ（１５）は、上記拡張器に取り付けられる。上記拡張器内と上記蒸発乾燥器内との融解物の高さＬは、上記ＭＨＤ回路容器内の融解物の高さＬ_０と比較してΔｈ分高い、すなわち、ＭＨＤポンプはΔｈの圧力を供給するべきである。本発明の技術の解決案は、長期にわたる処理における金属及び合金の蒸発の安定性を高めることを可能にし、これにより生産性を高める。上記解決案は、電気、冶金、および機械技術において様々な機能を有するコーティングの蒸着のために用いられる。本発明の方法を用いて、亜鉛、マグネシウム、カドミウム、リチウム、および亜鉛化マグネシウム合金を蒸発させることが可能である。
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本発明は、少なくとも一種類の高融点の金属（３）の炭化物から成る層を少なくとも１つの対象物（８）に高率電子ビーム蒸着によって真空チャンバ（１）内で析出するための方法に関する。本発明によれば、真空チャンバ（１）内に反応性ガスの流入によって炭素含有の雰囲気を発生させ；高融点の金属（３）を電子ビーム（５）によって蒸発させ；析出をプラズマによって助成し、この場合、該プラズマを拡散アーク放電によって、蒸発させたい高融点の金属（３）の表面に発生させ；被覆率が、少なくとも２０ｎｍ／ｓであり、析出の間の対象物温度を５０℃〜５００℃の間に保持することが提案される。
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