【課題】 ドロップレット量、局部溶融の発生が少なく、安定した放電特性が得られ、かつ長寿命であるＴｉ−Ｓｉ合金系ターゲット材を提供する。また、その製造方法と、これら技術の利用による皮膜コーティング方法を提供する。
【解決手段】 ターゲット材組織中に面積率で純Ｓｉ相が５％以下、ターゲット材構成元素による金属間化合物相が３０〜８０％であるＴｉ−Ｓｉ合金系ターゲット材、具体例として、ターゲット材組織中に面積率で純Ｓｉ相が５％以下、ターゲット材構成元素による金属間化合物相が３０〜８０％、残部実質的にターゲット材構成元素による固溶相のＴｉ−Ｓｉ合金系ターゲット材である。Ｓｉ：１０〜４０原子％含み、残部実質的にＴｉでなることが好ましい。本発明のターゲット材は、アークイオンプレーティング用に好ましく、例えば切削工具、金型ならびに摺動部品の表面コーティング用に使用できる。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着にて基板に金属薄膜あるいは有機化合物の薄膜を成膜させるに当り、基板の大面積化にも容易に対応することのできる蒸発材料収容容器を提供する。
【解決手段】 導電性平板状体の上面部分に複数の筒状体からなる蒸発材料収容部を有する導電性平板状体の蒸発材料収容容器２であって、上記筒状体が有底筒状体形状の蒸発材料収容部４、開口上面が上記導電性平板状体の上面部より突出する有底筒状体形状の蒸発材料収容部４ｂ、あるいは導電性平板状体の上面に載置した筒状体形状の蒸発材料収容部４ｃを有する蒸発材料収容容器である。 （もっと読む）

【課題】 ２次元あるいは３次元で任意の形状を有し、任意の密度を有する均質な超微粒子厚膜と、その超微粒子厚膜の新規な形成方法を提供する。
【解決手段】 超微粒子を分散質とする煙霧質を、通気性を有する担体を介して吸引濾過することにより前記担体上に超微粒子堆積膜を形成し、その超微粒子堆積膜を焼成することで超微粒子厚膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ドリル、エンドミル等に好適で、耐摩耗性、高滑り性、高焼き付き性、被削材の加工精度などを向上できる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 基材と、その基材上に形成された4a、5a、6a族元素およびAlからなる群の中から選択される1種以上の元素の窒化物または炭窒化物を主成分とする耐摩耗性被膜とを具える。耐摩耗性被膜中には、B₄C、BN、TiB₂、TiB、TiC、WC、SiC、SiN_X（X＝0.5〜1.33）およびAl₂0_３をよりなる群から選択される少なくとも1種の超微粒化合物を含む。この超微粒化合物の粒径は0.5〜50nmが好ましい。基材としては、WC基超硬合金、サーメットなどが利用できる。 （もっと読む）

【課題】ランプの寿命を延ばすことができるとともに、リフレフターの金メッキの劣化を防止できる真空処理装置を提供することにある。
【解決手段】被処理体を載置する載置台を有した処理チャンバ内の下部に前記載置台に照射して被処理体を加熱する複数のランプを備えたランプユニット４を設けた真空処理装置において、前記ランプユニット４は、軸受体１１と、この軸受体１１に回転自在に軸支されたシャフト１３と、このシャフト１３に設けられ前記載置台に照射して被処理体を加熱する複数のハロゲンランプ３と、前記軸受体１１とシャフト１３との摺動部１７に設けられ、シャフト１３側に吸熱面２１ａ、軸受体１１側に放熱面２１ｂを形成し、シャフト１３を介してランプ周辺部を冷却するサーモモジュール２１とから構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】コンタクトホールに対する金属堆積膜の形状を高精度かつ高速に解析するシミュレーション手法を提供する。
【構成】コンタクトホールの形状を中心線で切断した外形線の座標点で代表させ、その座標点に流入する流束ベクトルを抽出し、軸対称近似によりコンタクトホールのシャドウ効果を判定し、流速ベクトルをコンタクトホールの中心面に写像して得られるベクトル量だけ座標点を移動させる手法を繰り返す構成となっている。 （もっと読む）

【目的】大型化およびまたは高温化した蒸発源の熱効率を高めながら、周辺部品の破損と蒸着フィルムの品質低下を招かない真空蒸着装置の提供。
【構成】蒸発源を、垂直面に対して４５度以上の角度で傾斜し蒸発原料が蒸発する開口部を有する蒸発源遮熱構造体により囲んでなり、開口部先端の温度が蒸発粒子の蒸発温度以上であることを特徴とする真空蒸着装置。
【効果】発熱量の大きな蒸発源を用いても、蒸発源周辺部品の破損、フィルムの皺の発生、バリヤ性能の低下、引き裂き強度の低下などの品質の低下、品質斑などのトラブル無しに、熱効率と生産加工速度の高い蒸着加工ができる。 （もっと読む）

【構成】 非磁性薄膜を介して２層以上の磁性薄膜を積層して磁性多層膜を形成する。隣合う磁性薄膜の保磁力は互いに異なっており、保磁力の小さい第１の磁性薄膜の角形比およびＨｋを規制し、さらに保磁力の大きな第２の磁性薄膜と非磁性薄膜とを含めて各薄膜の膜厚を規制して第１〜第３の発明を構成する。
【効果】 第１の発明の磁性多層膜は、数Oe〜数十Oeの外部磁場で大きなＭＲ変化率を示し、０磁場で良好なＭＲ変化立ち上がり特性と高い耐熱性とをもつ。第２の発明ではさらに−１０〜１０Oeの外部磁場でヒステリシス特性とＭＲ傾きが改善され、第３の発明ではこれらに加えて−５０〜５０Oeの外部磁場での大きなＭＲ傾きと、すぐれたヒステリシス特性と、高周波磁界での大きなＭＲ傾きとをもつ。従って、高感度の磁気抵抗効果型センサや高密度磁気記録可能な磁気ヘッドが実現する。 （もっと読む）