【課題】 成膜中においても基板表面近傍から基板表面を効率的に加熱することが可能な膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空槽１と、該真空槽内に配設された蒸着源３と、真空槽１内に設置され基板Ｓを保持する基板ホルダ２と、蒸着源３と基板ホルダ２との間に設置された補正板１１と、電源から電力の供給を受けて基板Ｓを加熱するためのヒータ１３と、を有する膜形成装置において、ヒータ１３を補正板１１における基板ホルダ２に対向する面に設ける。 （もっと読む）

【課題】 広幅かつ長尺のフィルム状基板上に機能性薄膜を長手方向だけでなく幅方向においても均一な膜厚で、再現性よく安定して形成することができる薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】 真空化された空間内において、連続的に供給されるフィルム状基板に対向して配置された薄膜形成材料を加熱蒸発させて、当該フィルム状基板上に蒸着により付着させることでもって薄膜の形成を行う薄膜形成方法において、上記薄膜形成材料として昇華性材料を用い、上記フィルム状基板の供給方向に直交する幅方向における幅寸法の１．５倍以下の距離寸法だけ上記フィルム状基板の表面から離間したそれぞれの位置であって、かつ、当該基板の幅方向の異なる複数の位置に配置された上記それぞれの昇華性材料を抵抗加熱法により加熱して当該昇華性材料を蒸発させながら、上記供給されるフィルム状基板上に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】電気抵抗の低温側極大現象を抑制したセラミックス焼結体を提供する。熱衝撃性と耐食性に優れた長寿命のボートを提供する。
【解決手段】ＴｉＢ_２を４０〜６０質量％、ＢＮを４０〜６０質量％、並びに金属及び／又は金属化合物を金属分として０．２〜３質量％を含み、当該金属及び／又は金属化合物の金属がＦｅ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｕ及びＳｉから選ばれた少なくとも一種であり、相対密度が９０％以上であるセラミックス焼結体。ストロンチウム及び／又はストロンチウム化合物をＳｒ分として０．２〜７．５質量％を更に含有させてなる上記セラミックス焼結体。これらのセラミックス焼結体で構成された金属蒸発用発熱体（ボート）。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、ガス出し作業や蒸着作業後の徐冷の際に、シャッタ板裏面に付着する付着物がルツボ内に落下して、ルツボ内の蒸着原料を汚染することを防止できる機能を有する真空蒸着装置を提供することである。
【解決手段】 本発明の真空蒸着装置１０１は、真空チャンバ２と、真空ポンプ３と、半導体基板４を保持する基板ホルダ５と、蒸着原料６を収容するルツボ７と、加熱手段としての電子銃９と、集束コイル１０および偏向コイル１１と、蒸着原料６からの蒸着流１２を放出したり遮断したりする本発明の特徴である、蒸着原料６と同種の材料で成るシャッタ板１０２と、シャッタ板１０２の位置を移動させるシャッタ板駆動部１４と、成膜レートを測定する膜厚モニタ１５と、電子銃９のパワーを制御するパワー制御部１６とで構成されている。 （もっと読む）

材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】蒸着すべき材料の使用効率が低下するのを防止し得る蒸発装置を提供する。
【解決手段】所定の真空度下で所定の材料を蒸発させる蒸発装置４であって、真空ポンプ１２に接続されるとともに上壁部１１ｃに蒸発された蒸発材料Ｂを放出し得る材料放出穴１７が設けられた蒸発用容器１１と、この蒸発用容器１１内に昇降用シリンダ装置１３により昇降自在に設けられるとともに蒸着材料Ａを収納した材料収納容器１４を載置し得る載置台１５とを具備し、上記蒸発用容器１４の材料放出穴１７の周囲に、材料収納容器１４が載置台１５を介して上昇された際にその外周を覆うことにより蒸発材料の当該蒸発用容器１１内への放出を抑制する筒状の隔壁部材１９を設け、且つ上記載置台１５および隔壁部材１６に材料収納容器１４を加熱する加熱手段２１を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】 鮮鋭性の向上した放射線像変換パネルの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 蒸着装置内にて、下記一般式（Ｉ）で表される蛍光体もしくは蛍光体原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線変換パネルの製造方法において、該放射線変換パネルの蒸着効率が１〜５０％であることを特徴とする放射線変換パネルの製造方法。
一般式（Ｉ） Ｍ¹Ｘ・ａＭ²Ｘ′₂・ｂＭ³Ｘ″₃：ｅＡ （もっと読む）

【課題】安価で加工が容易な材料を用いて作成された蒸着用容器を用いて、蒸着材料の蒸着を行っても詰まりを生じさせず、安定して蒸着を行うことが可能な蒸着用容器および蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着用容器のフタの側面に蛇腹構造を設ける。または、蒸着用容器のフタを蒸着源の開口部分より大きくして、加熱部に直接接するようにする。このような構成によれば、フタの開口部付近が冷えにくい構造となり、容器の胴部とフタとで温度差が生じにくくなる。従って、開口部で蒸発した材料が詰まることがなく、長時間に渡って安定して蒸着を行うことが可能となり、蒸着レートの安定化、生産性の向上を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】 超硬合金等の工具母材に対してＴｉＷＣＮ膜などのＷを含む硬質被膜が一層優れた密着性でコーティングされるようにする。
【解決手段】 超硬合金から成る工具母材１２の表面には、ＴｉＷ合金をターゲットとするアーク放電イオンプレーティング法により、そのＴｉＷ合金の炭化物（ＴｉＷＣ）、窒化物（ＴｉＷＮ）、或いは炭窒化物（ＴｉＷＣＮ）から成る単一の組成の硬質被膜１４が設けられているため、ＴｉおよびＷを別々のターゲットとして用いてコーティングする場合のようにＴｉ化合物およびＷ化合物が混在している場合に比較して、ＴｉＷ合金とＷＣとの親和性により、ＷＣを主成分とする超硬合金の工具母材１２に対する密着性が一層向上する。これにより、優れた耐摩耗性が得られるようになり、クロム鋼等にドライ加工で切削加工を行う場合でも、実用上満足できる工具寿命が得られるようになる。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ基板とマスクのアライメントプロセスを迅速/正確に行い、表示品位の高い大画面ディスプレイを提供する。
【解決手段】複数の画素パターンを有する基板１１０と、画素パターンに対応する穴部を有するマスク５０を準備する第１工程と、マスクと基板とを位置合わせし、両者を固定する前の状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定する第２工程と、マスクと基板との位置関係を固定し、この状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定し、この位置関係と第２工程において測定した位置関係との間の位置ずれ量を算出する第３工程と、同一のマスクを他の基板に対して位置合わせを行う際に、前記位置ずれ量をフィードバックし、マスクと該他の基板との位置関係を補正する第４工程と、蒸着源より蒸着物をマスクの穴部を介して画素パターン上に被着させることにより、画素パターン上に蒸着物層１１４を形成する第５の工程とを備える。 （もっと読む）