有機材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法であって、気化装置の中にある量の有機材料を供給し、その気化装置の第1の加熱領域においてその有機材料を能動的に気化温度よりも低い温度に維持する操作を含む方法。この方法は、気化装置の第2の加熱領域を有機材料の気化温度よりも高い温度に加熱する操作と、有機材料の薄い横断区画が所望の速度依存性気化温度に加熱されるよう、有機材料を計量し、制御された速度で第1の加熱領域から第2の加熱領域へと供給する操作も含んでいるため、有機材料が気化して基板表面に膜を形成する。
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昇華性の蒸発材料を蒸着する真空蒸着において、噴射用開口１４を配しかつ内面からの放射熱により該蒸発材料を蒸気化する領域を有する気体密封型加熱容器１１と、蒸発材料を加熱容器１１からの伝導熱によっては蒸発しない領域に保持させる保持部１５とを備え、発生する蒸気を噴射用開口１４から容器外部の蒸着対象面に向けて噴射させるようにする。
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有機材料の薄い均一な層をコーティングできる熱物理蒸着源を提供する。ディスプレイを形成する際基板の表面に向かって有機材料の圧縮ペレットを気化する熱物理蒸着源は、各々圧縮ペレットを受け入れる複数の間隔の開いた通路を画定するハウジングと、ハウジングの間隔の開いた通路に対応する第１の複数の開口を備えたハウジングの上のカバープレートと、カバープレートの上に配置した電気ヒータ構造体とを含む。熱物理蒸着源はさらに、電気ヒータ構造体の上に配置したアパーチャプレートと、電気ヒータ構造体とアパーチャプレートとの間に位置する電気絶縁性スペーサ部材と、ペレットを気化し、材料の蒸気流出がカバープレート、ヒータ構造体、電気絶縁性スペーサ部材及びアパーチャプレートを通過して基板に向かうようにするのに十分な熱を発生する電流を電気ヒータ構造体に印加する回路とを含む。
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材料または物質を融解及び／または蒸発させるために、オーブン中にて、それらの融点及び／または気化点より低いオーブン温度に材料または物質を加熱する器具と方法に関するものである。略球状の包体中に物質を挿入する。包体を設定圧力下でシールする。固体は、オーブン中にて、設定圧力下における該物質の融解または気化温度よりも大幅に低いオーブン温度で、該物質を融解または蒸発させるのに十分な時間加熱する。

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仕事関数を低減した電子放出材料、および、従来よりも低消費電力化および／または高電流密度化がなされた、電子放出特性に優れる電子放出素子を提供する。
表面に原子ステップ（３）および隣り合う２つの前記原子ステップの間に平坦部（４）を有する半導体基体（２）と、前記平坦部に配置された吸着層（５）とを含み、吸着層が、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素およびＳｃから選ばれる少なくとも１種の元素を含む電子放出材料とする。 （もっと読む）

化学気相輸送法（CVT）を用いて、低温低圧で、基板にダイヤモンドコーティングを製作する方法であって、ワイヤ巻付グラファイト組立部材と、基板とをチャンバ室内に提供するステップと、チャンバ室に水素を充填するステップと、チャンバ室の内部圧力を真空にしてから、水素を再度充填するステップと、1気圧未満の水素を含有したままチャンバ室を密閉するステップと、基板が125℃〜750℃の範囲に加熱されるまで、グラファイト棒に電流を流すステップと、を有する方法によって、優れた特性が得られる温度で、高品質ダイヤモンドが形成される。
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本発明は、溶融金属に対する耐食性が改善されたセラミックス焼結体、その製造に適用できるセラミックス焼結体の製造方法、及び長寿命化を達成できる金属蒸着用発熱体を提供することを課題とする。本発明は、窒化硼素、二硼化チタン、カルシウム化合物及び窒化チタンを含有してなる相対密度が９２％以上のセラミックス焼結体であり、カルシウム化合物がＣａＯ換算として０．０５〜０．８質量％、窒化チタンに由来する（２００）面のＸ線回折によるピーク強度が、ＢＮの（００２）面のピーク強度に対して０．０６〜０．１５であることを特徴とするセラミックス焼結体に関する。また、該セラミックス焼結体の製造に適用できるセラミックス焼結体の製造方法、及び該セラミックス焼結体で構成された金属蒸着用発熱体も開示する。 （もっと読む）

溶融金属に対する濡れ性を改善し、長寿命化を達成することができる金属蒸発ボート及びそれを用いた金属の蒸発方法を提供する。
二硼化チタン（ＴｉＢ_２）及び／又は二硼化ジルコニウム（ＺｒＢ_２ ）と窒化硼素（ＢＮ）を含有してなるセラミックス焼結体の上面に、通電方向と平行でない方向に、溝の１又は２以上を有してなることを特徴とする金属蒸発発熱体。この場合において、通電方向と平行でない方向が、通電方向に対して２０〜１６０度であること、セラミックス焼結体がキャビティを有し、その底面に溝を形成させてなること、セラミックス焼結体の上面及び／又はキャビティ上面に複数の溝によって所望の模様が描かれていることが好ましい。また、この金属蒸発発熱体を用い、その溝の一部分又は全部と金属とを接触させた状態で、真空中、加熱することを特徴とする金属の蒸発方法。 （もっと読む）

本発明は、片面または両面に緻密で均一に分布した金属層（１、３）を備えた被膜付き高強度ステンレス鋼ストリップ（２）製品を提供する。上記金属層は、本質的に純粋な金、銅、ニッケル、コバルト、モリブデン、銀、錫、タングステン、またはこれらのうち２種以上の合金から成り、層厚さが１５μｍ以下であることが望ましく、層厚さの公差が±３０％以下であり、基材の鋼ストリップのＣｒ含有量が１０％以上、被膜付き鋼ストリップを単軸引張して破断させたときに金属層のピーリング、フレーキングなどが起きない程に金属層の密着性が良好である。この金属被膜付きストリップ製品は、接触面間の界面で導電性低下を起こさずに電流伝達できる荷重負担部材としての用途に適している。
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非重合化合物と流体担体の混合物を得ることによって基板上に非重合化合物の薄膜をコーティングする方法。この混合物（１）は次いで、非重合化合物および流体担体の実質的に全部をガス状に転換するのに十分な内部温度を有する加熱された蒸発ボックス（７）の内部につぎ込まれる。非重合化合物と流体担体は次いで、蒸発ボックス内の出口スリット（８）を介して蒸発ボックスから取り出される。非重合化合物が凝縮する基板が、出口スリットに隣接して、真空状態に維持されている。基板（１０）は、たとえばウェブ・ローラ上を移動し、それによって非重合化合物の連続的なコーティングを基板にコーティングするのが可能になる。

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