本発明はエレメント、そのための製造方法および装置、およびそのエレメントの使用方法を開示し、そのエレメントは電流の助けによってフィルム状構造中に熱的効果を提供するための少なくとも一つのフィルム材料から形成される導電性フィルム状構造を有する。
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本発明は、一般的なレベルで、大きい表面積を備える金属製品をコーティングするための方法に関する。本発明はまた、この方法により製造された、コーティングされた金属製品にも関する。このコーティングは、レーザー光線を反射するための少なくとも１つのミラーを備える回転光学スキャナを用いてパルス状レーザー光線が走査される超短パルスレーザー堆積を用いて実施される。本発明は、いくつかの工業的にかつ品質的に有利な効果（例えば、高コーティング生産速度、優れたコーティング特性および全体的な低製造コスト）を有する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック製品のある表面を塗装することに関する問題を解決する新しい方法を提供すること
【解決手段】本発明は、一般水準で大きな表面領域を有するプラスチック製品の塗装方法に関する。本発明はまた、前記方法で製造され、塗装されたプラスチック製品に関する。塗装は、超短パルスレーザー蒸着によって行われ、パルスレーザー光は回転する該レーザー光を反射する少なくとも一つのミラーを備える光学的スキャナでスキャンされる。本発明は、産業的にも品質的にも有利な効果を有し、低い製造温度でプラスチック製品を塗装することを達成し、高い生産率で、高い塗装の品質及び全体的に低い製造コストを実現する。 （もっと読む）

【解決手段】成膜室１０には、基板ステージ１２、蒸着材料１７が充填されている蒸発源１６が備えられている。成膜室１０の外部にレーザビームを発する光源２２が設けられている。光源２２からのレーザビームは光導入窓１４を通り、蒸着材料１６に照射される。レーザビームの照射により蒸着材料１６を気化し、基板３０に膜が形成される。
【効果】気化された蒸着材料は組成比が変化しないため、緻密な薄膜、歪みや欠陥の少ない均質な薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】強いポテンシャル変調を有するとともに、ヘテロ界面においても急峻なN原子の濃度勾配を有する、GaNAs等のIII-V(N)族化合物半導体多層体の製造方法を提供する。
【解決手段】真空容器にGa(III族元素)粒子ビーム源、As(V族元素)粒子ビーム源、及びN(窒素)粒子ビーム源を設け、GaNAs層(N含有層)を形成する際にのみプラズマを点火して窒素粒子ビームを生成し、GaAs層(N非含有層)を形成する際にはプラズマを消火することによりGaAs層のN原子含量を1%未満としかつGaNAs層のN原子含量を1〜10%とする化合物半導体多層積層体の製造が可能となった。 （もっと読む）

【課題】 良好な膜質の薄膜を形成することができる成膜装置の提供。
【解決手段】
ターゲット１１を保持するターゲットホルダ１０と、ターゲットホルダ１０を回転可能な回転機構８０と、成膜用基板２１を保持する基板ホルダ２０と、電子線を発生する電子線発生装置３０と、電子線収束装置４０と、レーザ光照射装置５０とを備えた回転ターゲット式成膜装置である。電子線収束装置４０は、回転機構８０により回転するターゲット１１に対して、電子レンズを形成することにより電子線発生装置３０から発生された電子線を収束させ、もってターゲット１１の少なくとも一部を液体化する。レーザ光照射装置５０は、液体化されたターゲット１１の少なくとも一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。 （もっと読む）

【課題】大気圧下において樹脂基材を３００ｍｍ／分以上という速度で移動させながら、樹脂基材の表面を改質することが可能な改質方法を提供する。
【解決手段】ターゲット１３の表面にレーザー光Ｌを照射して真空紫外光及び飛散粒子ａを発生させ、樹脂基材１５の表面に前記真空紫外光を照射しつつ飛散粒子ａを付着させる樹脂基材の表面改質方法であって、ターゲット１３の表面上に形成される照射光形状が長軸方向の幅が短軸方向の幅の１．５倍〜１０倍である略楕円形状となるようにターゲット１３の表面にレーザー光Ｌを照射しつつ、ターゲット１３の表面に対して平行な面上において前記長軸方向に対して垂直な方向と樹脂基材１５の移動方向との開口角度が１０°以内となるように樹脂基材１５を移動させ、酸素量が８容量％以下のシールドガス雰囲気下において樹脂基材１５の表面に前記真空紫外光を照射しつつ飛散粒子ａを付着させる。 （もっと読む）

【課題】小型な装置構成によって化学構造がデリケートな高分子材料やバイオ材料などを化学構造・組成を変化させず高品質に薄膜化する。
【解決手段】レーザーアブレーションによる薄膜形成法において、超短パルスレーザー光源としてのフェムト秒レーザー装置３０と、そのレーザー光を受けて赤外域で波長可変な超短パルスレーザー光を発生する光学的波長可変手段としてのオプティカルパラメトリック増幅器３１を用い、所定の赤外域の超短パルスレーザー光をターゲット材料１０に照射し、ターゲット材料１０に対向した基板１１上にターゲット材料１０と実質的に同一組成の薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】レーザビームの強度を増大し、クラスター群の生成量の増大とクラスター群のクラスター生成容器からの取り出しを増大する。
【解決手段】クラスター生成容器５内において、ターゲット１にレーザビーム２を照射し、発生する材料蒸気が不活性ガスの衝撃波４を発生せしめ、該衝撃波４がクラスター生成容器５の壁に反射して進行してきた材料蒸気を特定領域に閉じ込め、材料蒸気の原子あるいは分子同士の衝突によりクラスター群を生成して流出窓７から流出せしめ、基板９上に散布してクラスター膜１０を成膜する装置において、該レーザビーム２のエネルギー強度の増大に応じて該ターゲット表面での該レーザビーム２の断面積を拡大せしめて、材料蒸気の発生蒸気量増大と該不活性ガスの衝撃波の効率的発生を両立せしめ、同時に該衝撃波の反射波が材料蒸気を閉じ込める条件を満たすようにクラスター生成容器を拡大化する。 （もっと読む）

【課題】シングルナノサイズのクラスター生成、小さなクラスターサイズ分散性、高いビームフラックスおよび高いクラスタービームエネルギーの達成を可能とする。
【解決手段】レーザアブレーション法によってナノサイズクラスターを生成するクラスター生成装置は、クラスターを生成するクラスターセル11の取出口21に、ラバールノズル13のスロート口31が接続されているものである。 （もっと読む）